一種高透光率的金色三銀low-e玻璃的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種高透光率的金色三銀LOW-E玻璃，包括有玻璃基片，其特征在于：在玻璃基片的復(fù)合面上由內(nèi)到外依次相鄰地復(fù)合有十七個(gè)膜層，其中第一膜層即最內(nèi)層為SiZrOX層，第二層為TiOx層，第三層為AZO層，第四層為Si層，第五層為AZO層，第六層為Ag層，第七層為NiCrOx層，第八層為ZnSnO2層，第九層為AZO層，第十層為Ag層，第十一層為NiCrOx層，第十二層為ZnSnO2層，第十三層為AZO層，第十四層為Ag層，第十五層為NiCrOx層，第十六層為ZnSnO2層，最外層為Si3N4層。本實(shí)用新型目的是克服了現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種透過率高，色澤鮮艷，輻射率低，節(jié)能效果顯著，生產(chǎn)成本低的高透光率的金色三銀LOW-E玻璃。
【專利說明】一種高透光率的金色三銀LOW-E玻璃
【【技術(shù)領(lǐng)域】】
[0001]本發(fā)明涉及一種高透光率的金色三銀LOW-E玻璃。
【【背景技術(shù)】】
[0002]鍍膜玻璃具有節(jié)能減排及裝飾幕墻的雙重功效。而金色玻璃作為鍍膜玻璃的一個(gè)非常規(guī)品種，深受人們喜愛。隨著節(jié)能指標(biāo)要求越來越高，在很多城市現(xiàn)有的雙銀LOW-E玻璃都已無法滿足客戶需求，再加上金色玻璃產(chǎn)品深受人們的熱寵，金色三銀LOW-E玻璃的市場需求寵大，但由于三銀LOW-E玻璃本身制備復(fù)雜，且使用金作為濺射靶材成本高昂，一直以來未出現(xiàn)金色三銀LOW-E玻璃。
【
【發(fā)明內(nèi)容】
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[0003]本發(fā)明目的是克服了現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種透過率高，色澤鮮艷，輻射率低，節(jié)能效果顯著，生產(chǎn)成本低的高透光率的金色三銀LOW-E玻璃。
[0004]本發(fā)明是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:
[0005]一種高透光率的金色三銀LOW-E玻璃，包括有玻璃基片1，其特征在于:在玻璃基片的復(fù)合面上由內(nèi)到外依次相鄰地復(fù)合有十七個(gè)膜層，其中第一膜層即最內(nèi)層為SiZrOJl21，第二層為T1Jl 22，第三層為AZO層23，第四層為Si層24，第五層為AZO層25，第六層為Ag層26，第七層為NiCrOJl 27，第八層為ZnSnO 2層28，第九層為AZO層29，第十層為Ag層210，第^^一層為NiCrOJl 211，第十二層為ZnSnO 2層212，第十三層為AZO層213，第十四層為Ag層214，第十五層為NiCrOjl 215，第十六層為ZnSnO 2層216，最外層為Si 3N4層217。
[0006]如上所述的高透光率的金色三銀LOW-E玻璃，其特征在于所述第一膜層SiZrOJl21的厚度為30?35nm。
[0007]如上所述的高透光率的金色三銀LOW-E玻璃，其特征在于第二層T1Jl 22的厚度為11?12nm。
[0008]如上所述的高透光率的金色三銀LOW-E玻璃，其特征在于所述第三層AZO層23的厚度為9?llnm，第五層AZO層25的厚度10?20nm，第九層AZO層29的厚度為28?30nm，第十三層AZ0213的厚度為30?35nm。
[0009]如上所述的高透光率的金色三銀LOW-E玻璃，其特征在于所述第四層Si層24的厚度為3?5nm。
[0010]如上所述的高透光率的金色三銀LOW-E玻璃，其特征在于所述第六層Ag層26的厚度為8?9nm，所述第十層Ag層210的厚度為7?8nm，所述第十四層Ag層210的厚度為7?8nm。
[0011]如上所述的高透光率的金色三銀LOW-E玻璃，其特征在于所述第七層NiCrOJl 27的厚度為I?2nm，所述第^ 層NiCrOjl 211的厚度為I?2nm，所述第十五層NiCrOjl215的厚度為I?2nm。
[0012]如上所述的高透光率的金色三銀LOW-E玻璃，其特征在于所述第八層ZnSnOJl 28的厚度為24?25nm，所述第十二層21^1102層212的厚度為58?62nm，所述第十六層ZnSnO2層216的厚度為18?20nm。
[0013]如上所述的高透光率的金色三銀LOW-E玻璃，其特征在于所述最外層Si3N4層217的厚度為15?17nm。
[0014]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明有如下優(yōu)點(diǎn):
[0015]1、本發(fā)明通過用摻鋯的氧化硅作為底層介質(zhì)層材料，提高其折射率，從而提高其透過率，復(fù)合產(chǎn)品的透過率可達(dá)到65%以上?？朔私鹕yLOW-E玻璃由于三銀玻璃本身膜層結(jié)構(gòu)增多，透光率急劇下降的難題。
[0016]2、本發(fā)明與采用金作為功能層生產(chǎn)的金色相比較，Si作為功能層的成本不到用金的千分之一，且產(chǎn)品的輻射率僅0.02，節(jié)能效果顯著。
[0017]3、本發(fā)明透過色及反射色更鮮艷，金色效果更好。
【【專利附圖】

【附圖說明】】
[0018]圖1是本發(fā)明結(jié)構(gòu)示意圖。
【【具體實(shí)施方式】】
[0019]一種高透光率的金色三銀LOW-E玻璃，包括有玻璃基片1，其特征在于:在玻璃基片的復(fù)合面上由內(nèi)到外依次相鄰地復(fù)合有十七個(gè)膜層，其中第一膜層即最內(nèi)層為SiZrOJl21，第二層為T1Jl 22，第三層為AZO層23，第四層為Si層24，第五層為AZO層25，第六層為Ag層26，第七層為NiCrOJl 27，第八層為ZnSnO 2層28，第九層為AZO層29，第十層為Ag層210，第^^一層為NiCrOJl 211，第十二層為ZnSnO 2層212，第十三層為AZO層213，第十四層為Ag層214，第十五層為NiCrOjl 215，第十六層為ZnSnO 2層216，最外層為Si 3N4層217。
[0020]所述第一膜層即最內(nèi)層為SiZrOJl 21，即氧化鋯硅層，摻鋯的氧化硅作為底層介質(zhì)層材料，提高其折射率，從而提高其透過率，復(fù)合產(chǎn)品的透過率可達(dá)到65%以上。SiZrOx層21的厚度為30?35nm，優(yōu)選32nm，nm是納米，Im = 109nm。
[0021]所述第二層T1Jl 22，即鈦的氧化物。采用高折射率η = 2.5的T1j^為了提高玻璃的透光率，降低銀層的面電阻，減少銀的消耗，又可以減少LOW-E熱處理后產(chǎn)生光散射，而且玻璃呈中性顏色，T1J莫表面非常光滑，因而改善了銀膜的導(dǎo)電率。所述第二層T1Jl 22的厚度為11?12nm，優(yōu)選11.4nm。
[0022]所述第三層AZO層23，即鋁摻雜的氧化鋅層，平整層，為S1、Ag層作鋪墊，降低輻射率。所述第三層AZO層的厚度為9?llnm。優(yōu)選10nm。
[0023]所述第四層Si層23，即硅層，為功能層，用來作為金色提供層。Si層的厚度為3?5nm，優(yōu)選 4nm。
[0024]所述第五層AZO層25，即鋁摻雜的氧化鋅層，平整層，由于Si濺射后成簇狀結(jié)構(gòu)，通過用AZO層平滑Si層，為下層鍍Ag起打底作用。為Ag層作鋪墊，降低輻射率。所述第五層AZO層的厚度為10?20nm。優(yōu)選15nm。
[0025]所述第六層Ag層26，即金屬銀層，為功能層，金屬銀層提供了較低的輻射率，起環(huán)保節(jié)能的作用。所述第六層Ag層26的厚度為8?9nm，優(yōu)選8.9nm。
[0026]所述第七層NiCrOJl 27，即氧化鎳鉻層，為阻擋層，還能提高膜層耐磨性、透光率、以及鋼化時(shí)抗高溫氧化性。NiCrOJl 27的厚度為I?2nm，優(yōu)選為1.2nm。
[0027]所述第八層ZnSnOJl 28，即氧化鋅錫層，為中間介質(zhì)層，保護(hù)層，增加玻璃的透過率，ZnSnOjA厚度為 24 ?25nm，優(yōu)選 24.9nm。
[0028]所述第九層為AZO層29，即鋁摻雜的氧化鋅層，平整層，平滑Ag層，為Ag層作鋪墊，降低輻射率。AZO層28的厚度為28?30nm，優(yōu)選29.4nm。
[0029]所述第十層Ag層210，即金屬銀層，為功能層，金屬銀層提供了較低的輻射率，起環(huán)保節(jié)能的作用。所述第六層Ag層210的厚度為7?8nm，優(yōu)選7.8nm。
[0030]所述第十一層NiCr0jl211，即氧化鎳鉻層，為阻擋層，還能提高膜層耐磨性、透光率、以及鋼化時(shí)抗高溫氧化性。NiCrOJl 211的厚度為I?2nm，優(yōu)選為Inm0
[0031]所述第十二層ZnSn0jl212，即氧化鋅錫層，為中間介質(zhì)層，保護(hù)層，增加玻璃的透過率，21^1102層212的厚度為58?62nm，優(yōu)選60nm。
[0032]所述第十三層為AZO層213，即鋁摻雜的氧化鋅層，平整層，平滑Ag層，為Ag層作鋪墊，降低輻射率。AZO層213的厚度為30?35nm，優(yōu)選32nm。
[0033]所述第十四層Ag層214，即金屬銀層，為功能層，金屬銀層提供了較低的輻射率，起環(huán)保節(jié)能的作用。所述第十四層Ag層214的厚度為7?8nm，優(yōu)選7.4nm。
[0034]所述第十五層NiCr0jl215，即氧化鎳鉻層，為阻擋層，還能提高膜層耐磨性、透光率、以及鋼化時(shí)抗高溫氧化性。NiCrOJl 215的厚度為I?2nm，優(yōu)選為Inm0
[0035]所述第十六層ZnSn0jl216，即氧化鋅錫層，為中間介質(zhì)層，保護(hù)層，增加玻璃的透過率，21^1102層216的厚度為18?20nm，優(yōu)選19nm。
[0036]所述最外層Si3N4層217，即氮化硅層；頂層介質(zhì)層，Si 3N4是一種非常堅(jiān)硬的材料，提高膜層的物理性能和抗氧化性能，它確保了整個(gè)鍍層具有良好的機(jī)械耐久性，設(shè)置在最外層作為保護(hù)整個(gè)膜層的第一道壁皇。用交流中頻電源、氮?dú)庾鞣磻?yīng)氣體濺射半導(dǎo)體材料Si=Al = 92:8，密度96%，提高膜層的物理性能和抗氧化性能。Si3N4層的厚度為15?17nm，優(yōu)選16nm。
[0037]Low-E玻璃也叫做低輻射鍍膜玻璃。
[0038]制備高透光率的金色三銀LOW-E玻璃的方法，包括如下步驟:
[0039](I)磁控濺射SiZrOjl，用交流中頻電源、氧氣作反應(yīng)氣體濺射摻鋯的硅鋁靶硅鋁鋯比為82:8:10，氬氧比為400SCCM?420SCCM:450SCCM?500SCCM，氬氧比決定了成膜的質(zhì)量；
[0040](2)磁控濺射T1jl，用中頻交流電源濺射陶瓷陶瓷鈦靶，用氬氣作為濺射氣體，摻入少量 02，氬氧比為:400SCCM-420SCCM:20 ?40SCCM ；
[0041](3)磁控濺射AZO層，用中頻交流電源濺射陶瓷Zn靶，用氬氣作為濺射氣體，摻入少量 02，氬氧比為:400SCCM-420SCCM:20 ?40SCCM ；
[0042](4)磁控濺射Si層，交流電源濺射，用Ar氣作為濺射氣體，氣體流量500?550SCCM ；
[0043](5)磁控濺射AZO層，用中頻交流電源濺射陶瓷Zn靶，用氬氣作為濺射氣體，摻入少量 02，氬氧比為:400SCCM-420SCCM:20 ?40SCCM ；
[0044](6)磁控濺射Ag層，直流電源濺射，用氬氣作為工藝氣體，氣體流量500?550SCCM ；
[0045](7)磁控濺射NiCrOx,用直流電源濺射，用氬氣做反應(yīng)氣體，用氬氣作為濺射氣體，摻入少量 O2，氬氧比為:400SCCM-420SCCM:20 ?40SCCM ；
[0046](8)磁控濺射ZnSnOJl，用交流中頻電源、氧氣作反應(yīng)氣體濺射Sn靶，氬氧比為400SCCM?420SCCM:450SCCM?500SCCM ;氬氧比決定了成膜的質(zhì)量；
[0047](9)磁控濺射AZO層，用中頻交流電源濺射陶瓷Zn靶，用氬氣作為濺射氣體，摻入少量 02，氬氧比為:400SCCM-420SCCM:20 ?40SCCM ；
[0048](10)磁控濺射Ag層，直流電源濺射，用氬氣作為工藝氣體氣體流量500?550SCCM ；
[0049](11)磁控濺射NiCrOjl，用直流電源濺射，用氬氣做反應(yīng)氣體，摻入少量O 2，氬氧比為:400SCCM-420SCCM:20 ?40SCCM ；
[0050](12)磁控濺射ZnSnOJl，用交流中頻電源、氧氣作反應(yīng)氣體濺射Sn靶，氬氧比為400SCCM?420SCCM:450SCCM?500SCCM ;氬氧比決定了成膜的質(zhì)量；
[0051](13)磁控濺射AZO層，用中頻交流電源濺射陶瓷Zn靶，用氬氣作為濺射氣體，摻入少量 02，氬氧比為:400SCCM-420SCCM:20 ?40SCCM ；
[0052](14)磁控濺射Ag層，直流電源濺射，用氬氣作為工藝氣體氣體流量500?550SCCM ；
[0053](15)磁控濺射NiCrOjl，用直流電源濺射，用氬氣做反應(yīng)氣體，摻入少量O 2，氬氧比為:400SCCM-420SCCM:20 ?40SCCM ；
[0054](16)磁控濺射ZnSnOJl，用交流中頻電源、氧氣作反應(yīng)氣體濺射Sn靶，氬氧比為400SCCM?420SCCM:450SCCM?500SCCM ;氬氧比決定了成膜的質(zhì)量；
[0055](17)磁控濺射Si3N4層，用交流中頻電源、氮?dú)庾鞣磻?yīng)氣體濺射硅鋁靶硅鋁質(zhì)量百分比92:8，氬氮比為400SCCM?420SCCM:450SCCM?500SCCM。氬氧比決定了成膜的質(zhì)量。本步驟中氬氮比決定了成膜的質(zhì)量。磁控濺射Si3N4層，用交流中頻電源、氮?dú)庾鞣磻?yīng)氣體濺射半導(dǎo)體材料重量比S1:Al = 92:8 ;此處得到的是Si3N4，而金屬Al是用于增加原材料在磁控濺射過程中的導(dǎo)電性能，金屬Al并不參與反應(yīng)，由于非金屬半導(dǎo)體Si的導(dǎo)電性能極差，如不采用金屬Al混合增加導(dǎo)電性能將無法順利進(jìn)行磁控濺射Si3N4層。
【權(quán)利要求】
1.一種高透光率的金色三銀LOW-E玻璃，包括有玻璃基片(I)，其特征在于:在玻璃基片的復(fù)合面上由內(nèi)到外依次相鄰地復(fù)合有十七個(gè)膜層，其中第一膜層即最內(nèi)層為SiZrOJl(21)，第二層為T1Jl(22)，第三層為AZO層(23)，第四層為Si層(24)，第五層為AZO層(25)，第六層為Ag層(26)，第七層為NiCrOJl (27)，第八層為ZnSnOjl (28)，第九層為AZO層(29)，第十層為Ag層(210)，第—層為NiCrOJl (211)，第十二層為ZnSnO 2層(212)，第十三層為AZO層(213)，第十四層為Ag層(214)，第十五層為NiCrOjl (215)，第十六層為 ZnSnO2M (216)，最外層為 Si 3N4層(217)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高透光率的金色三銀LOW-E玻璃，其特征在于所述第一膜層SiZrOxM (21)的厚度為 30 ?35nm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高透光率的金色三銀LOW-E玻璃，其特征在于第二層T1Jl(22)的厚度為11?12nmo
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高透光率的金色三銀LOW-E玻璃，其特征在于所述第三層AZO層(23)的厚度為9?I lnm，第五層AZO層(25)的厚度10?20nm，第九層AZO層(29)的厚度為28?30nm，第十三層AZO (213)的厚度為30?35nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高透光率的金色三銀LOW-E玻璃，其特征在于所述第四層Si層(24)的厚度為3?5nm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高透光率的金色三銀LOW-E玻璃，其特征在于所述第六層Ag層(26)的厚度為8?9nm，所述第十層Ag層(210)的厚度為7?8nm，所述第十四層Ag層(210)的厚度為7?8nm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高透光率的金色三銀LOW-E玻璃，其特征在于所述第七層NiCrOjl (27)的厚度為I?2nm，所述第^ 層NiCrOjl (211)的厚度為I?2nm，所述第十五層NiCrOjl (215)的厚度為I?2nm。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高透光率的金色三銀LOW-E玻璃，其特征在于所述第八層ZnSnOJl (28)的厚度為24?25nm，所述第十二層ZnSnO 2層(212)的厚度為58?62nm，所述第十六層21^1102層(216)的厚度為18?20nm。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高透光率的金色三銀LOW-E玻璃，其特征在于所述最外層Si3N4層(217)的厚度為15?17nmo
【文檔編號(hào)】B32B17/00GK204222313SQ201420673105
【公開日】2015年3月25日 申請(qǐng)日期:2014年11月12日 優(yōu)先權(quán)日:2014年11月12日
【發(fā)明者】魏佳坤, 林改, 鄭梅鵬, 宋曉群, 鄭凱永 申請(qǐng)人:揭陽市宏光鍍膜玻璃有限公司