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一種可異地加工的鍍膜玻璃的制作方法

文檔序號:2455657閱讀:185來源:國知局
一種可異地加工的鍍膜玻璃的制作方法
【專利摘要】一種可異地加工的鍍膜玻璃,包括玻璃基材,所述玻璃基材的上表面由下而上依次設(shè)有Si3N4底層介質(zhì)層、第一TiO2介質(zhì)層、CrNX介質(zhì)層、第二TiO2介質(zhì)層、以及Si3N4頂層介質(zhì)層。本發(fā)明具有良好的機械耐久性及耐腐蝕性,可用于異地加工。
【專利說明】—種可異地加工的鍍膜玻璃

【技術(shù)領(lǐng)域】
:
[0001 ] 本發(fā)明涉及一種可異地加工的鍍膜玻璃。

【背景技術(shù)】
:
[0002]由于鍍膜生產(chǎn)線是一種投資大、投資周期長的設(shè)備,大多數(shù)的玻璃深加工企業(yè)無能力進行鍍膜生產(chǎn)線的投資。尤其是偏遠地區(qū),投資大面積鍍膜生產(chǎn)線是不現(xiàn)實的事。因此,需研制一種可異地加工的鍍膜玻璃產(chǎn)品,以實現(xiàn)將此玻璃產(chǎn)品發(fā)往遠距離市場,可在市場當(dāng)?shù)貙Υ隋兡げAг龠M行切割、磨邊、鋼化等后續(xù)加工。


【發(fā)明內(nèi)容】

:
[0003]本發(fā)明的目的在于提供一種可異地加工的鍍膜玻璃,其具有良好的機械耐久性及耐腐蝕性,可用于異地加工。
[0004]一種可異地加工的鍍膜玻璃,包括玻璃基材,所述玻璃基材的上表面由下而上依次設(shè)有Si3N4底層介質(zhì)層、第一 T12介質(zhì)層、CrNx介質(zhì)層、第二 T12介質(zhì)層、以及Si3N4頂層介質(zhì)層。
[0005]本發(fā)明可通過如下方案進行改進:
[0006]所述Si3N4底層介質(zhì)層的厚度為50?60nm。
[0007]所述第一 T12介質(zhì)層的厚度為15?25nm。
[0008]所述CrNx介質(zhì)層的厚度為5?10nm。
[0009]所述第二 T12介質(zhì)層的厚度為30?40nm。
[0010]所述Si3N4頂層介質(zhì)層的厚度為50?60nm。
[0011]本發(fā)明具有如下優(yōu)點:1、底層介質(zhì)層和頂層介質(zhì)層均選用Si3N4, Si3N4是一種非常堅硬的材料,它確保了整個鍍層具有良好的機械耐久性及耐腐蝕性,使本發(fā)明可可用于異地加工。2、第一 T12介質(zhì)層和第二 T12介質(zhì)層的應(yīng)用可提高玻璃的透光率,而且玻璃呈中性顏色,使之具有較高的可見光透過率。

【專利附圖】

【附圖說明】
:
[0012]圖1為本發(fā)明結(jié)構(gòu)剖視圖。

【具體實施方式】
:
[0013]如圖所示,一種可異地加工的鍍膜玻璃,包括玻璃基材1,所述玻璃基材I的上表面由下而上依次設(shè)有Si3N4底層介質(zhì)層2、第一 T12介質(zhì)層3、CrNx介質(zhì)層4、第二 T12介質(zhì)層5、以及Si3N4頂層介質(zhì)層6。
[0014]進一步地,所述Si3N4底層介質(zhì)層2的厚度為50?60nm。Si3N4是一種非常堅硬的材料,它確保了整個鍍層具有良好的機械耐久性及耐腐蝕性。
[0015]再進一步地,所述第一 T12介質(zhì)層3的厚度為15?25nm。采用高折射率η = 2.5的T12介質(zhì)層,是為了提高玻璃的透光率,而且玻璃呈中性顏色,使之具有較高的可見光透過率,T12膜表面非常光滑。
[0016]更進一步地,所述CrNx介質(zhì)層4的厚度為5?10nm。用來調(diào)整產(chǎn)品的透過率,它與其它的功能層相比具有低廉的價格。
[0017]又進一步地,所述第二 T12介質(zhì)層5的厚度為30?40nm。采用高折射率η = 2.5的T12介質(zhì)層,是為了提高玻璃的透光率,而且玻璃呈中性顏色,使之具有較高的可見光透過率,T12膜表面非常光滑。
[0018]再進一步地,所述Si3N4頂層介質(zhì)層6的厚度為50?60nm。Si3N4是一種非常堅硬的材料,且具有非常高的耐高溫性,能耐700度以上的高溫,它確保了整個鍍層具有良好的機械耐久性及耐腐蝕性。
[0019]本發(fā)明的底層介質(zhì)層和頂層介質(zhì)層均選用Si3N4, Si3N4是一種非常堅硬的材料,它確保了整個鍍層具有良好的機械耐久性及耐腐蝕性,使本發(fā)明可可用于異地加工。本發(fā)明中,第一 T12介質(zhì)層和第二 T12介質(zhì)層的應(yīng)用可提高玻璃的透光率,而且玻璃呈中性顏色,使之具有較高的可見光透過率。
[0020]以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例,并非用來限定本發(fā)明實施的范圍,凡依本發(fā)明專利范圍所做的同等變化與修飾,皆落入本發(fā)明專利涵蓋的范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種可異地加工的鍍膜玻璃,包括玻璃基材,其特征在于:所述玻璃基材的上表面由下而上依次設(shè)有Si3N4底層介質(zhì)層、第一 Ti02介質(zhì)層、CrNx介質(zhì)層、第二 Ti02介質(zhì)層、以及Si3N4頂層介質(zhì)層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種可異地加工的鍍膜玻璃,其特征在于:所述Si3N4底層介質(zhì)層的厚度為50?60nm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種可異地加工的鍍膜玻璃,其特征在于:所述第一Ti02介質(zhì)層的厚度為15?25nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種可異地加工的鍍膜玻璃,其特征在于:所述CrNx介質(zhì)層的厚度為5?10nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種可異地加工的鍍膜玻璃,其特征在于:所述第二Ti02介質(zhì)層的厚度為30?40nm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種可異地加工的鍍膜玻璃,其特征在于:所述Si3N4頂層介質(zhì)層的厚度為50?60nm。
【文檔編號】B32B17/06GK104260500SQ201410605358
【公開日】2015年1月7日 申請日期:2014年10月30日 優(yōu)先權(quán)日:2014年10月30日
【發(fā)明者】陳圓, 禹幸福 申請人:中山市亨立達機械有限公司
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