專利名稱:晶粒的護(hù)膜裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本實(shí)用新型涉及一種護(hù)膜裝置,特別是涉及一種可以將晶粒包覆其中,并保護(hù)該晶粒的護(hù)膜裝置。
背景技術(shù):
在晶圓的加工過程中,為了保護(hù)晶圓以及由晶圓切割而成的晶粒,通常會(huì)將晶圓及晶粒包覆在一個(gè)具有兩層可分離的護(hù)膜單元間的護(hù)膜裝置,這種護(hù)膜裝置在使用的過程中需要先將所述護(hù)膜單元分離,然后將晶圓及切割后的晶粒夾設(shè)其中后再粘合,當(dāng)晶粒要進(jìn)行加工(封裝)時(shí),再將其中一層護(hù)膜單元撕離。為了達(dá)到保護(hù)晶粒及方便分離的目的,以往的護(hù)膜裝置會(huì)在所述護(hù)膜單元的其中一個(gè)上涂布一層離型劑,但由于離型劑會(huì)殘留在護(hù)膜單元的表面,并有污染晶粒表面的疑慮,因此,如何在不需要使用離型劑的情況下,讓該護(hù)膜裝置兼具有粘貼穩(wěn)固及方便撕開的優(yōu)點(diǎn),為使用在晶圓領(lǐng)域的護(hù)膜裝置設(shè)計(jì)上的重 要課題。參閱圖1、2,是申請(qǐng)人之前所申請(qǐng)的中國臺(tái)灣證書號(hào)數(shù)第M407248號(hào)實(shí)用新型,該實(shí)用新型公開一種護(hù)膜裝置1,其主要包含分別位于數(shù)個(gè)晶粒10相反側(cè)的一個(gè)第一護(hù)膜單元11及一個(gè)第二護(hù)膜單元12,該第一護(hù)膜單元11包括一片紙材制成的第一基材層111,以及一片鄰近所述晶粒10的貼覆層112,該貼覆層112具有數(shù)個(gè)往所述晶粒10方向凸起的凸臺(tái)113,以及一個(gè)縱橫交錯(cuò)且相對(duì)下凹的氣流通道114。而該第二護(hù)膜單元12包括一個(gè)第二基材層121,以及一個(gè)位于該第二基材層121下方并與所述晶粒10粘貼的粘貼層122。前述實(shí)用新型通過該貼覆層112及該粘貼層122的材料選擇,讓兩者可以彼此地粘貼在一起,而通過該貼覆層112上設(shè)置所述凸臺(tái)113,可以減少該貼覆層112及該粘貼層122之間的粘貼面積,也就是讓彼此間以點(diǎn)狀分布的方式粘貼,同時(shí)方便氣體由該氣流通道114排出。上述實(shí)用新型雖然可以達(dá)到預(yù)期的目的,但是在加工的過程中,需要在一支滾輪(圖未示)的表面雕刻出與所述凸臺(tái)113及縱橫交錯(cuò)的該氣流通道114相配合的凹凸表面,也就是,該滾輪的表面相對(duì)于所述凸臺(tái)113的部位是相對(duì)內(nèi)凹的凹槽,由于前述凸臺(tái)113是等間隔設(shè)置,因此,要在該滾輪的表面雕刻出對(duì)應(yīng)所述凸臺(tái)113的凹槽,不但加工雕刻的面積大、不連貫、工序復(fù)雜,也會(huì)提高加工的成本及困難度。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種可以簡(jiǎn)化加工工序,同時(shí)提高加工方便性的晶粒的護(hù)膜裝置。本實(shí)用新型護(hù)膜裝置是用來保護(hù)數(shù)個(gè)晶粒,并包含一個(gè)第一護(hù)膜單元,以及一個(gè)和該第一護(hù)膜單元以可撕離方式粘貼的第二護(hù)膜單元,該第一護(hù)膜單元包括一個(gè)第一基材層,以及一個(gè)與該第一基材層結(jié)合的貼覆層,而該第二護(hù)膜單元包括一個(gè)第二基材層,以及一個(gè)能和該貼覆層粘合的粘貼層,該第一護(hù)膜單元的貼覆層具有一個(gè)與該第二護(hù)膜單元的粘貼層貼合的貼靠網(wǎng)面,以及數(shù)個(gè)間隔設(shè)置且與該貼靠網(wǎng)面具有高度差的凹室。本實(shí)用新型所述的護(hù)膜裝置,該第一護(hù)膜單元的貼覆層的貼靠網(wǎng)面具有數(shù)條彼此平行的第一凸條部,以及數(shù)條相互平行并與所述第一凸條部交叉設(shè)置的第二凸條部。本實(shí)用新型所述的護(hù)膜裝置,該第一護(hù)膜單元的貼覆層的貼靠網(wǎng)面與所述凹室的聞度差是3 u m-50 u m。本實(shí)用新型所述的護(hù)膜裝置,該第一護(hù)膜單元的貼覆層的貼靠網(wǎng)面與所述凹室的聞度差是10 U m-25 u m。本實(shí)用新型所述的護(hù)膜裝置,該第一護(hù)膜單元的貼覆層的貼靠網(wǎng)面的面積是該貼覆層的表面積的20-60%。本實(shí)用新型所述的護(hù)膜裝置,該第一護(hù)膜單元還包括一個(gè)與該第一基材層結(jié)合的表層,該表層與該貼覆層分別位于該第一基材層的相反側(cè)。 本實(shí)用新型所述的護(hù)膜裝置,該第一護(hù)膜單元的第一基材層具有一個(gè)鄰近該表層的印刷面。本實(shí)用新型的有益效果在于前述設(shè)計(jì)可以在不需要使用離型劑的情況下,讓該第一護(hù)膜單元及該第二護(hù)膜單元可以輕易地分離,且由于該貼靠網(wǎng)面及所述凹室在制造時(shí),只要利用簡(jiǎn)單的車溝技術(shù)就可以在滾輪表面形成交叉設(shè)置且對(duì)應(yīng)的凹溝,故本實(shí)用新型也可以簡(jiǎn)化加工工序,同時(shí)提高加工方便性。
圖I是中國臺(tái)灣證書號(hào)數(shù)第M407248號(hào)實(shí)用新型的一個(gè)立體示意圖;圖2是該圖I的實(shí)用新型的一個(gè)使用狀態(tài)參考圖;圖3是本實(shí)用新型護(hù)膜裝置的一個(gè)較佳實(shí)施例的一個(gè)立體示意圖;圖4是該較佳實(shí)施例的一個(gè)使用狀態(tài)參考圖,說明該護(hù)膜裝置與數(shù)個(gè)晶粒的相對(duì)關(guān)系;圖5是該較佳實(shí)施例的一個(gè)加工示意圖,說明該護(hù)膜裝置的一個(gè)第一護(hù)膜單元與一個(gè)滾輪的相對(duì)關(guān)系。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)說明。參閱圖3、4、5,本實(shí)用新型護(hù)膜裝置的一個(gè)較佳實(shí)施例可將數(shù)個(gè)晶粒2包覆其中,并包含一個(gè)第一護(hù)膜單元3,以及一個(gè)第二護(hù)膜單元4,該第一護(hù)膜單元3包括一片紙材制成的第一基材層31,以及以涂布方式分別固定在該第一基材層31相反側(cè)的一個(gè)貼覆層32、一個(gè)表層33。本實(shí)施例的第一基材層31是由紙材制成,并具有一個(gè)鄰近該表層33且透光的印刷面311,上述印刷面311除了可以印刷例如商標(biāo)等等的圖案外,還具有方便使用者辨識(shí)該貼覆層32的功能,為了方便使用者辨識(shí)所述晶粒2的數(shù)量,該第一基材層31的厚度以50g/m2以上為較佳,更佳為50-160g/m2。本實(shí)施例的貼覆層32及該表層33都是聚合物的材質(zhì),較佳是選自于聚丙烯(PP)、聚乙烯(PE)、聚烯烴(PO)、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物(EVA),或前述物質(zhì)的任一組合,該表層33除了可以提高該第一護(hù)膜單元3整體的挺度外,還可以避免紙材制成的第一基材層31的纖維掉落污染環(huán)境,同時(shí)降低該第一基材層31的吸濕性,避免該紙制的第一基材層31吸濕變形產(chǎn)生翹曲,影響到后續(xù)加工時(shí)機(jī)臺(tái)的夾取作業(yè)。在設(shè)計(jì)上,本實(shí)用新型并不以具有該印刷面311及該表層33為必要。本實(shí)施例的貼覆層32具有一個(gè)朝向所述晶粒2且網(wǎng)格規(guī)則的貼靠網(wǎng)面320,以及數(shù)個(gè)相對(duì)于該貼靠網(wǎng)面320具有一個(gè)高度差34的凹室321。較佳地,該貼靠網(wǎng)面320具有數(shù)個(gè)平行間隔的第一凸條部322,以及數(shù)個(gè)彼此平行并與所述第一凸條部322交叉的第二凸條部323,而所述凹室321位于交叉設(shè)置的第一凸條部322及第二凸條部323間。又本實(shí)施例的貼靠網(wǎng)面320的面積是整個(gè)貼覆層32的表面積的20_60%,較佳是25-35%,上述比值的限定可以兼顧加工方便性及粘貼效果。而該貼靠網(wǎng)面320與所述凹室321之間的高度差34以3μπι-50μπι為佳,更佳為10 μ m_25 μ m。本實(shí)施例的第二護(hù)膜單元4包括一片第二基材層41,以及一片以涂布方式附著在 該第二基材層41上并且能和該第一護(hù)膜單元3的貼覆層32粘貼的粘貼層42。該第二基材層41為聚合物薄膜,較佳地是選自于聚丙烯(PP)、聚乙烯(PE)、聚氯乙烯烴(PVC)及聚對(duì)苯二甲酸酯(PET),而該粘貼層42為調(diào)配有粘劑的組成物。粘貼層42的具體例是使用壓克力系或橡膠系的感壓膠,該感壓膠的接著強(qiáng)度以40gf/25mm-200gf/25mm為佳。當(dāng)接著力太小時(shí),該粘貼層42對(duì)于所述晶粒2及該貼覆層32的粘附力不足,使用上比較困難。若接著強(qiáng)度太大,則會(huì)造成拾取所述晶粒2時(shí)的不方便,同時(shí)也會(huì)使得該粘貼層42及該貼覆層32之間的靜電大,造成撕開時(shí)的不方便。本實(shí)施例的護(hù)膜裝置在制造時(shí),是以涂布的方式在該第二基材層41上形成該粘貼層42,同樣以涂布的方式在該第一基材層31的相反側(cè)形成該貼覆層32及該表層33。然后以圖5所示的一個(gè)滾輪5來加工該第一護(hù)膜單元3的貼覆層32,所述滾輪5包括一個(gè)輪面51、數(shù)條彼此平行的第一凹溝52,以及數(shù)條與前述第一凹溝52交叉設(shè)置的第二凹溝53,當(dāng)該滾輪5碾壓過該貼覆層32時(shí),會(huì)在該貼覆層32上形成該貼靠網(wǎng)面320及所述凹室321。前述結(jié)構(gòu)所使用的滾輪5具有規(guī)律且交叉設(shè)置的第一凹溝52及第二凹溝53,因此,在加工制造該滾輪5時(shí),可以利用簡(jiǎn)易的車溝加工在該滾輪5的輪面51上車制出所述第一凹溝52及所述第二凹溝53,此項(xiàng)設(shè)計(jì)與以往者需要以雕刻方式形成一個(gè)個(gè)間隔設(shè)置的凹槽的結(jié)構(gòu)作比較,確實(shí)具有簡(jiǎn)化加工工序,以及提高制造方便性的功效。當(dāng)本實(shí)施例的護(hù)膜裝置在制造后,該第一護(hù)膜單元3的貼覆層32是和該第二護(hù)膜單元4的粘貼層42貼合在一起,粘貼后由于該貼覆層32與所述晶粒2的接觸面積只有該貼覆層32的貼靠網(wǎng)面320,故其接觸面積小。當(dāng)使用者要拾取所述晶粒2時(shí),將該第一護(hù)膜單元3及該第二護(hù)膜單元4撕開,在撕開的過程中,由于該第一護(hù)膜單元3的貼覆層32上具有該貼靠網(wǎng)面320,因此,兩者間容易撕開,也方便將該晶粒2夾設(shè)其間。因此,本實(shí)施例可以在不需要使用離型劑的情況下,達(dá)到好撕好粘的目的。
權(quán)利要求1.一種晶粒的護(hù)膜裝置,用來保護(hù)數(shù)個(gè)晶粒,并包含;一個(gè)第一護(hù)膜單元及一個(gè)第二護(hù)膜單元,該第一護(hù)膜單元包括一個(gè)第一基材層,以及一個(gè)與該第一基材層結(jié)合的貼覆層,而該第二護(hù)膜單元是可撕離地和該第一護(hù)膜單元粘貼,并包括一個(gè)第二基材層,以及一個(gè)能和該第一護(hù)膜單元的貼覆層粘合的粘貼層;其特征在于 該第一護(hù)膜單元的貼覆層具有一個(gè)貼靠網(wǎng)面,以及數(shù)個(gè)與該貼靠網(wǎng)面具有高度差的凹室。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的晶粒的護(hù)膜裝置,其特征在于該第一護(hù)膜單元的貼覆層的貼靠網(wǎng)面具有數(shù)條彼此平行的第一凸條部,以及數(shù)條相互平行并與所述第一凸條部交叉設(shè)置的第二凸條部。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的晶粒的護(hù)膜裝置,其特征在于該第一護(hù)膜單元的貼覆層的貼靠網(wǎng)面與所述凹室的高度差是3 μ m-50 μ m。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的晶粒的護(hù)膜裝置,其特征在于該第一護(hù)膜單元的貼覆層的貼靠網(wǎng)面與所述凹室的高度差是10 μ m-25 μ m。
5.根據(jù)權(quán)利要求I至4中任一項(xiàng)所述的晶粒的護(hù)膜裝置,其特征在于該第一護(hù)膜單元的貼覆層的貼靠網(wǎng)面的面積是該貼覆層的表面積的20-60%。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的晶粒的護(hù)膜裝置,其特征在于該第一護(hù)膜單元還包括一個(gè)與該第一基材層結(jié)合的表層,該表層與該貼覆層分別位于該第一基材層的相反側(cè)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的晶粒的護(hù)膜裝置,其特征在于該第一護(hù)膜單元的第一基材層具有一個(gè)鄰近該表層的印刷面。
專利摘要一種晶粒的護(hù)膜裝置,用來保護(hù)數(shù)個(gè)晶粒,并包含可撕離地粘貼的一個(gè)第一護(hù)膜單元、一個(gè)第二護(hù)膜單元,該第一護(hù)膜單元包括一個(gè)第一基材層及一個(gè)貼覆層,而該第二護(hù)膜單元包括一個(gè)第二基材層,以及一個(gè)與該第一護(hù)膜單元的貼覆層粘合的粘貼層,該第一護(hù)膜單元的貼覆層具有一個(gè)與該第二護(hù)膜單元的粘貼層粘合的貼靠網(wǎng)面,以及數(shù)個(gè)與該貼靠網(wǎng)面具有高度差的凹室。前述設(shè)計(jì)可以在不需要使用離型劑的情況下,讓第一護(hù)膜單元及第二護(hù)膜單元可以輕易地分離,且由于該貼靠網(wǎng)面及所述凹室在制造時(shí),只要利用簡(jiǎn)單車溝技術(shù)就可以在滾輪表面形成對(duì)應(yīng)的網(wǎng)狀凹溝,故本實(shí)用新型可以簡(jiǎn)化加工工序,同時(shí)提高加工方便性。
文檔編號(hào)B32B7/12GK202592832SQ201220159280
公開日2012年12月12日 申請(qǐng)日期2012年4月16日 優(yōu)先權(quán)日2012年4月16日
發(fā)明者黃培峰, 林道新, 楊嘉彬, 方聰賢 申請(qǐng)人:鉅侖科技股份有限公司