專利名稱：真空吸附裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明是有關于一種真空吸附裝置(vacuum suction印paratus)，且特別 是有關于一種能夠自動調(diào)整吸附范圍的真空吸附裝置。
背景技術：
真空吸附裝置通常被應用于板材(如晶片、玻璃基板、電路板、膜片等) 的運送上，針對不同的板材尺寸與形狀，真空吸附裝置的吸嘴孔的設置位置需 做一定程度的調(diào)整，方可穩(wěn)定地將板材吸附并傳遞至目的地。傳統(tǒng)的真空吸附 裝置中的吸嘴孔的數(shù)量與位置會對應于所欲傳遞的板材的尺寸與形狀。 一般而 言，若要吸附不同尺寸與形狀的板材，制造者需更換真空吸附裝置的吸嘴平臺， 以使得吸嘴平臺上的吸嘴孔的數(shù)量與位置能夠對應于所欲吸附的板材。然而， 更換吸嘴平臺將導致時間與成本的龐大負擔。
在不更換吸嘴平臺的前提下，己有許多公知技術相繼地提出解決方案，以 使真空吸附裝置能夠穩(wěn)定地吸附并傳遞更多種規(guī)格的板材，如中國臺灣專利TW 266374、中國臺灣專利公開案TW 200716473、中國臺灣專利TW 527048等。在 中國臺灣專利TW 266374以及中國臺灣專利公開案TW 200716473中，真空吸附 裝置會具有多個吸嘴孔，且部分未被板材所覆蓋的吸嘴孔必須通過螺絲或其它 堵塞元件封住，以避免漏氣的現(xiàn)象產(chǎn)生，如此，真空吸附裝置才能穩(wěn)定地吸附 住板材。在吸附不同尺寸與形狀的板材時，堵塞元件必須借助人力組裝于不同 的吸嘴孔內(nèi)，此舉十分耗時且不利于量產(chǎn)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種真空吸附裝置，其吸附范圍可隨著所欲吸附的板材尺寸而調(diào)整。本發(fā)明提供一種能夠吸附板材的真空吸附裝置，其包括一吸嘴平臺、 一座體、至少一活云力觸發(fā)元件(movable trigger)以及一抽氣機(air-extractor)。吸嘴平臺具有一與板材接觸的接觸表面以及至少一位于接觸表面上的吸嘴孔， 座體與吸嘴平臺連接，且吸嘴平臺與座體共同定義出一與吸嘴孔連通的真空室?；顒佑|發(fā)元件組裝于吸嘴孔中，其中活動觸發(fā)元件具有一突出于接觸表面的接 觸部以及一能夠阻礙吸嘴孔與真空室連通的阻擋部，當板材與接觸表面接觸時， 板材推動接觸部而改變活動觸發(fā)元件于吸嘴孔內(nèi)的狀態(tài)，以使阻擋部無法阻礙 吸嘴孔與真空室連通。抽氣機與真空室連通。在本發(fā)明一實施例中，前述的吸嘴孔的數(shù)量為多個，且前述的吸嘴孔例如 是規(guī)則地(regularly)或是任意地(randomly)排列于接觸表面上。在本發(fā)明一實施例中，當板材與接觸表面接觸時，活動觸發(fā)元件會被完全 推入吸嘴孔內(nèi)。在本發(fā)明一實施例中，前述的吸嘴平臺具有至少一位于吸嘴孔內(nèi)的突起， 而活動觸發(fā)元件包括一連接于接觸部與阻擋部之間的連接部，且連接部承靠于 (lean against)突起上，以使活動觸發(fā)元件以突起為支點轉動。在本發(fā)明一實施例中，前述的吸嘴孔包括一用以容納活動觸發(fā)元件的容納 空間以及一連接于容納空間與真空室之間的貫孔，而在接觸部未與板材接觸之 前，阻擋部承靠于容納空間的底部以完全阻擋貫孔，且在板材推動接觸部之后， 阻擋部會被抬起而使貫孔與容納空間連通。在本發(fā)明一實施例中，前述的吸嘴平臺具有至少一位于吸嘴孔內(nèi)的突起， 而活動觸發(fā)元件包括一連接于接觸部與阻擋部之間的連接部，且連接部樞接于 (pivotally connected with)突起，以使活動觸發(fā)元件以突起為樞軸轉動。在本發(fā)明一實施例中，前述的吸嘴孔包括一用以容納活動觸發(fā)元件的容納 空間以及一連接于容納空間與真空室之間的貫孔，而在接觸部未與板材接觸之 前，阻擋部承靠于容納空間的底部以完全阻擋貫孔，且在板材推動接觸部之后，阻擋部會被抬起而使貫孔與容納空間連通。在本發(fā)明一實施例中，前述的吸嘴平臺具有一相對于接觸表面的內(nèi)表面， 接觸部與阻擋部直接連接，而在接觸部未與板材接觸之前，阻擋部承靠于吸嘴 平臺的內(nèi)表面以完全阻擋吸嘴孔，且在板材推動接觸部之后，阻擋部會被頂起 而使吸嘴孔與真空室連通。在本發(fā)明一實施例中，前述的阻擋部位于吸嘴孔外。在本發(fā)明一實施例中，前述的抽氣機包括一真空泵。在本發(fā)明一實施例中，前述的真空吸附裝置可進一步包括一配置于吸嘴平 臺與活動觸發(fā)元件之間的彈性體，以協(xié)助活動觸發(fā)元件在未被板材推動的情況 下復位?；谏鲜?，由于本發(fā)明能夠透過板材推動活動觸發(fā)元件的接觸部以改變活 動觸發(fā)元件在吸嘴孔內(nèi)的狀態(tài)，因此本發(fā)明的真空吸附裝置能夠自動調(diào)整其吸 附范圍。


圖1A至圖1D是依照本發(fā)明第一實施例的真空吸附裝置的剖面示意圖。圖2A至圖6B是真空吸附裝置的局部放大示意圖。圖7A與圖7B是依照本發(fā)明第二實施例的真空吸附裝置的剖面示意圖。附圖標記說明100、 200:真空吸附裝置110、 210:吸嘴平臺110a、 210a:接觸表面110b、 210b:吸嘴孔110c、 210c:突起120、 220:座體130、 230:活動觸發(fā)元件132、 232:接觸部134、 234:阻擋部 136:連接部140、 240:抽氣機150、 150，:彈性體210c:內(nèi)表面A:軸承H:貫孔P:板材S:容納空間V:真空室具體實施方式
第一實施例圖1A至圖1D是依照本發(fā)明第一實施例的真空吸附裝置的剖面示意圖。請參照圖IA與圖IB,本實施例的真空吸附裝置IOO包括一吸嘴平臺110、 一座體 120、至少一活動觸發(fā)元件130以及一抽氣機140。吸嘴平臺110具有一與板材 P接觸的接觸表面110a以及至少一位于接觸表面110a上的吸嘴孔110b。座體 120與吸嘴平臺110連接，且吸嘴平臺110與座體120共同定義出一與吸嘴孔 110b連通的真空室V?；顒佑|發(fā)元件130組裝于吸嘴孔110b中，其中活動觸發(fā) 元件130具有一突出于接觸表面110a的接觸部132以及一能夠阻礙吸嘴孔110b 與真空室V連通的阻擋部134，當板材P與接觸表面110a接觸時，板材P會推 動接觸部132而改變活動觸發(fā)元件130在吸嘴孔110b內(nèi)的狀態(tài)，以使阻擋部 134無法阻礙吸嘴孔110b與真空室V連通。此外，抽氣機140與真空室V連通。 在本實施例中，抽氣機140例如是一真空泵(vacuum pump)。在本實施例中，真空室V泛指能夠承受氣壓低于外界大計壓力的腔室，此處并不限定真空室v必須是處于完全真空的狀態(tài)。當真空吸附裝置100在運作 時，真空室V的真空程度可視所欲吸附的板材P的重量而決定，顯然，當真空 吸附裝置100所欲吸附的板材P的重量越重時，其真空室V的真空程度便須越 高，反之，當真空吸附裝置IOO所欲吸附之板材P的重量越輕時，其真空室v的真空程度則無須太高。在本實施例中，吸嘴孔110b的數(shù)量可為多個，且這些吸嘴孔110b例如是 任意地(randomly)或規(guī)則地(regularly)排列于接觸表面110a上。此領域 具有通常知識者應知，吸嘴孔110b的數(shù)量與分布位置可視制造者的實際需求而 決定，本實施例并不限定吸嘴孔110b的數(shù)量與分布位置。如圖1A與圖IB所示，吸嘴孔110b包括一用以容納活動觸發(fā)元件130的容 納空間S以及一連接于容納空間S與真空室C之間的貫孔H。此外，吸嘴平臺 110具有至少一位于吸嘴孔110a內(nèi)的突起110c，而活動觸發(fā)元件130包括一連 接于接觸部132與阻擋部134之間的連接部136，且連接部136承靠于突起110c 上。在接觸部132未與板材P接觸之前，接觸部132會突出于接觸表面110a， 而阻擋部134則會承靠于容納空間S的底部以完全阻擋貫孔H，如圖1A所繪示。 此時，真空室C與容納空間S之間無法藉由貫孔H相連通，換言之，這時候的 吸嘴孔110a不具有吸附板材P的功能。值得注意的是，本實施例可以透過配重 設計使得活動觸發(fā)元件130的阻擋部134自然地承靠于容納空間S的底部，以 封住容納空間S與貫孔H的連通處。舉例而言，制造者可讓阻擋部134的重量 大于接觸部132的重量。此外，在以突起110c為支點的情況下，制造者可讓阻 擋部134所造成的旋轉力矩大于接觸部132所造成的旋轉力矩。請參照圖1B，當真空吸附裝置100沿著重力方向的反方向靠近板材P并對 板材P進行吸附的動作時，板材P會壓迫并推動突出于接觸表面110a的接觸部 132，此時，由于板材P的重量大于阻擋部134的重量，因此活動觸發(fā)元件130 會以突起110c為支點轉動，意即，阻擋部134會被抬起而使真空室V與容納空間S透過貫孔H相連通，這時候的吸嘴孔110a便具有吸附板材P的功能。值得 注意的是，當板材P推動接觸部132后，活動觸發(fā)元件130會被完全推入吸嘴 孔110b內(nèi)，以使板材P因真空吸引而緊貼于與接觸表面110a上。此處，容納 空間S的設計以能夠完全容納轉動后之活動觸發(fā)元件130為原則，本發(fā)明不限 定容納空間S的形狀必須是如圖1A所繪示。請參照圖1B至圖1D，本實施例之真空吸附裝置100能夠吸附各種規(guī)格(不 同尺寸與形狀)的板材P，當板材P尺寸與吸嘴平臺110相當時(如圖1B所繪 示)，板材P可覆蓋住所有的吸嘴孔110b，以將所有的活動觸發(fā)元件130壓入 吸嘴孔110b內(nèi)，此時，所有的吸嘴孔110b都具有吸附板材P的功能。當板材 P尺寸明顯小于吸嘴平臺IIO時(如圖1C與1D所繪示)，板材P僅會覆蓋住部 分的吸嘴孔110b，此時，僅有部分被板材P所覆蓋的吸嘴孔110b會具有吸附 板材P的功能，其余未被板材P所覆蓋的吸嘴孔110b則不具有吸附板材P的功 能。從圖1C與1D可知，本實施例的真空吸附裝置100具有自動調(diào)整吸附范圍 的能力，且板材P可以被吸附于吸嘴平臺IIO上的任意位置，而不易有板材P 意外掉落的問題。圖1A至圖1D中所繪示的真空吸附裝置IOO僅是用以舉例說明，其并非用 以限定本發(fā)明。以下將搭配圖2A至圖6B說明其它可行的具體實施方式
。圖2A至圖6B是真空吸附裝置的局部放大示意圖。首先請參照圖2A與圖 2B，真空吸附裝置100可進一步包括一配置于吸嘴平臺110與活動觸發(fā)元件130 之間的彈性體150，以協(xié)助活動觸發(fā)元件130在未被板材P推動的情況下復位。 在本實施例中，彈性體150例如是一彈簧，在活動觸發(fā)元件130在未被板材P 壓迫的情況下，彈性體150可用以支撐活動觸發(fā)元件130的接觸部132，如圖 2A所示。當活動觸發(fā)元件130被板材P下壓時，彈性體150亦會被接觸部132 壓迫，如圖2B所示。此時，被壓迫的彈性體150能夠提供一將接觸部132上抬 之回復力，以使活動觸發(fā)元件130在未被板材P壓迫時能夠順利復位。請參照圖3A與圖3B，彈性體150亦可配置于吸嘴平臺110與阻擋部134之間。在活動觸發(fā)元件130在未被板材P壓迫的情況下，彈性體150可用以避 免活動觸發(fā)元件130的阻擋部134上抬，如圖3A所示。當活動觸發(fā)元件130 被板材P下壓時，彈性體150亦會被阻擋部134壓迫，如圖3B所示。此時，被 壓迫的彈性體150能夠提供一將阻擋部134下壓之回復力，以使活動觸發(fā)元件 130在未被板材P壓迫時能夠順利復位。請參照圖4A與圖4B，在本實施例中，活動觸發(fā)元件130的連接部136樞 接于突起110c，以使活動觸發(fā)元件130以突起110c為樞軸轉動。舉例而言， 活動觸發(fā)元件130透過一軸承A樞設于突起110c上，軸承A可以有效地控制活 動觸發(fā)元件130的轉動范圍，使活動觸發(fā)元件130能夠在未被板材P下壓時順 利復位。此外，真空吸附裝置100可進一步包括一配置于吸嘴平臺IIO與活動 觸發(fā)元件130之間的彈性體150'，以協(xié)助活動觸發(fā)元件130在未被板材P推 動的情況下復位，如圖5A、圖5B、圖6A以及圖6B所繪示。圖5A、圖5B、圖 6A以及圖6B中的彈性體150，配置方式與2A、圖2B、圖3A以及圖3B中的彈 性體150類似，故于此不再重述。第二實施例圖7A與圖7B是依照本發(fā)明第二實施例的真空吸附裝置的剖面示意圖。本 實施例的真空吸附裝置200包括一吸嘴平臺210、 一座體220、至少一活動觸發(fā) 元件230以及一抽氣機240。吸嘴平臺210具有一與板材P接觸的接觸表面210a 以及至少一位于接觸表面210a上之吸嘴孔210b。座體220與吸嘴平臺210連 接，且吸嘴平臺210與座體220共同定義出一與吸嘴孔210b連通之真空室V。 活動觸發(fā)元件230組裝于吸嘴孔210b中，其中活動觸發(fā)元件230具有一突出于 接觸表面210a之接觸部232以及一能夠阻礙吸嘴孔210b與真空室V連通的阻 擋部234，當板材P與接觸表面210a接觸時，板材P會推動接觸部232而改變 活動觸發(fā)元件230在吸嘴孔210b內(nèi)的狀態(tài)，以使阻擋部234無法阻礙吸嘴孔 210b與真空室V連通。此外，抽氣機240與真空室V連通。在本實施例中，抽 氣機240例如是一真空泵(vacuum pump)。由圖7A與圖7B可知，吸嘴平臺210具有一相對于接觸表面210a的內(nèi)表面 210c，接觸部232與阻擋部234直接連接，且阻擋部234位于吸嘴孔210a外。 在接觸部232未與板材P接觸之前，阻擋部234會承靠于吸嘴平臺210的內(nèi)表 面210c上，以完全阻擋吸嘴孔210b，此時，吸嘴孔210b不具有吸附板材P的 功能。當真空吸附裝置200沿著重力方向靠近板材P并對板材P進行吸附的動 作時，與板材P接觸的活動觸發(fā)元件230會被頂起而使真空室V與吸嘴孔210b 相連通，這時候的吸嘴孔210a便具有吸附板材P的功能。值得注意的是，本實施例的真空吸附裝置200中亦可選擇性地設置彈性體， 如彈簧、彈片等，以協(xié)助活動觸發(fā)元件順利復位?；谏鲜?，由于本發(fā)明能夠透過板材推動活動觸發(fā)元件的接觸部以改變活 動觸發(fā)元件在吸嘴孔內(nèi)的狀態(tài)，因此本發(fā)明的真空吸附裝置能夠自動調(diào)整其吸 附范圍，以吸附任意形狀與任意尺寸的板材。雖然本發(fā)明已以實施例揭露如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何所屬技 術領域中具有通常知識者，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當可作些許的更 動與潤飾，故本發(fā)明之保護范圍當視權利要求書所界定者為準。
權利要求
1. 一種真空吸附裝置，適于吸附一板材，該真空吸附裝置包括一吸嘴平臺，具有一與該板材接觸的接觸表面以及至少一位于該接觸表面上的吸嘴孔；一座體，與該吸嘴平臺連接，其中該吸嘴平臺與該座體共同定義出一與該吸嘴孔連通的真空室；至少一活動觸發(fā)元件，組裝于該吸嘴孔中，其中該活動觸發(fā)元件具有一突出于該接觸表面的接觸部以及一能夠阻礙該吸嘴孔與該真空室連通的阻擋部，當該板材與該接觸表面接觸時，該板材推動該接觸部而改變該活動觸發(fā)元件于該吸嘴孔內(nèi)的狀態(tài)，以使該阻擋部無法阻礙該吸嘴孔與該真空室連通；以及一抽氣機，與該真空室連通。
2. 如權利要求1所述的真空吸附裝置，其特征在于，吸嘴孔的數(shù)量為多個。
3. 如權利要求2所述的真空吸附裝置，其特征在于，該些吸嘴孔規(guī)則地排 列于該接觸表面上。
4. 如權利要求1所述的真空吸附裝置，其特征在于，該些吸嘴孔任意地排 列于該接觸表面上。
5. 如權利要求1所述的真空吸附裝置，其特征在于，當該板材與該接觸表 面接觸時，該活動觸發(fā)元件被完全推入該吸嘴孔內(nèi)。
6. 如權利要求1所述的真空吸附裝置，其特征在于，該吸嘴平臺具有至少 一位于該吸嘴孔內(nèi)的突起，而該活動觸發(fā)元件包括一連接于該接觸部與該阻擋 部之間的連接部，且該連接部承靠于該突起上，以使該活動觸發(fā)元件以該突起 為支點轉動。
7. 如權利要求6所述的真空吸附裝置，其特征在于，該吸嘴孔包括一用以 容納該活動觸發(fā)元件的容納空間以及一連接于該容納空間與該真空室之間的貫 孔，而在該接觸部未與該板材接觸之前，該阻擋部承靠于該容納空間的底部以 完全阻擋該貫孔，且在該板材推動該接觸部之后，該阻擋部被抬起而使該貫孔與該容納空間連通。
8. 如權利要求1所述的真空吸附裝置，其特征在于，該吸嘴平臺具有至少 一位于該吸嘴孔內(nèi)的突起，而該活動觸發(fā)元件包括一連接于該接觸部與該阻擋 部之間的連接部，且該連接部樞接于該突起，以使該活動觸發(fā)元件以該突起為 樞軸轉動。
9. 如權利要求8所述的真空吸附裝置，其特征在于，該吸嘴孔包括一用以 容納該活動觸發(fā)元件的容納空間以及一連接于該容納空間與該真空室之間的貫 孔，而在該接觸部未與該板材接觸之前，該阻擋部承靠于該容納空間的底部以 完全阻擋該貫孔，且在該板材推動該接觸部之后，該阻擋部被抬起而使該貫孔 與該容納空間連通。
10. 如權利要求1所述的真空吸附裝置，其特征在于，該吸嘴平臺具有一相 對于該接觸表面的內(nèi)表面，該接觸部與該阻擋部直接連接，而在該接觸部未與 該板材接觸之前，該阻擋部承靠于該吸嘴平臺的該內(nèi)表面以完全阻擋該吸嘴孔， 且在該板材推動該接觸部之后，該阻擋部被頂起而使該吸嘴孔與該真空室連通。
11. 如權利要求10所述的真空吸附裝置，其特征在于，該阻擋部位于該吸 嘴孔外。
12. 如權利要求1所述的真空吸附裝置，其特征在于，該抽氣機包括一真空泵。
13. 如權利要求1所述的真空吸附裝置，其特征在于，更包括一彈性體，配 置于該吸嘴平臺與該活動觸發(fā)元件之間，以協(xié)助該活動觸發(fā)元件在未被該板材 推動的情況下復位。
全文摘要
一種能夠吸附板材的真空吸附裝置，其包括一吸嘴平臺、一座體、至少一活動觸發(fā)元件以及一抽氣機。吸嘴平臺具有一與板材接觸的接觸表面以及至少一位于接觸表面上的吸嘴孔，座體與吸嘴平臺連接，且吸嘴平臺與座體共同定義出一與吸嘴孔連通的真空室?；顒佑|發(fā)元件組裝于吸嘴孔中，其中活動觸發(fā)元件具有一突出于接觸表面的接觸部以及一能夠阻礙吸嘴孔與真空室連通的阻擋部，當板材與接觸表面接觸時，板材推動接觸部而改變活動觸發(fā)元件于吸嘴孔內(nèi)的狀態(tài)，以使阻擋部無法阻礙吸嘴孔與真空室連通。抽氣機與真空室連通。
文檔編號B25J15/06GK101531007SQ20091013511
公開日2009年9月16日 申請日期2009年4月20日 優(yōu)先權日2009年4月20日
發(fā)明者王健發(fā), 鄧國鑫, 陳文鈞, 陳明暉 申請人:友達光電股份有限公司