本技術(shù)涉及清潔設(shè)備，具體涉及一種基站、清潔裝置以及釋放組件。

背景技術(shù)：

1、具有洗地、掃地等清潔功能的清潔機(jī)器人能夠代替用戶進(jìn)行清洗地面等清潔工作，給用戶帶來(lái)諸多便利，因而得到廣泛的應(yīng)用。清潔機(jī)器人通常配備有基站。目前的基站能夠自動(dòng)向清潔機(jī)器人補(bǔ)充清潔液，其中清潔液用以輔助清潔機(jī)器人進(jìn)行清潔工作。基站配備有用于儲(chǔ)存清潔液的水箱，水箱中具有清潔劑緩釋模塊，清潔劑緩釋模塊中的清潔劑能夠緩慢溶解于水箱的清水中以形成清潔液。

2、考慮到清潔機(jī)器人使用頻率較低的情況，目前清潔劑緩釋模塊中的清潔劑始終與水箱中的清水保持接觸，這導(dǎo)致清潔劑緩釋模塊中的清潔劑不斷溶解，致使清潔劑緩釋模塊需要頻繁地維護(hù)或更換，不僅給用戶的日常使用過(guò)程帶來(lái)諸多不便，還增加了用戶的使用成本。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本技術(shù)提供一種基站、清潔裝置以及釋放組件，能夠降低釋放組件維護(hù)或更換的頻率。

2、本技術(shù)提供一種基站，包括：基站主體；儲(chǔ)液組件，設(shè)置于基站主體，且儲(chǔ)液組件具有用于儲(chǔ)存清潔液的儲(chǔ)液腔，其中清潔液由清潔溶劑以及清潔溶質(zhì)構(gòu)成；以及釋放組件，容置于儲(chǔ)液腔中，釋放組件包括：基座，具有用于儲(chǔ)存清潔溶質(zhì)的儲(chǔ)存腔；以及釋放蓋，與基座連接，釋放蓋用于選擇性地導(dǎo)通或阻斷儲(chǔ)存腔與儲(chǔ)液腔；其中，釋放蓋被配置為能夠在第一狀態(tài)和第二狀態(tài)之間切換；第一狀態(tài)下的釋放蓋導(dǎo)通儲(chǔ)存腔與儲(chǔ)液腔，使得儲(chǔ)存腔中的清潔溶質(zhì)與儲(chǔ)液腔中的清潔溶劑混合以形成清潔液；第二狀態(tài)下的釋放蓋阻斷儲(chǔ)存腔與儲(chǔ)液腔。

3、在本技術(shù)的一實(shí)施例中，釋放蓋與基座活動(dòng)連接；其中，釋放蓋被配置為能夠相對(duì)基座在第一位置和第二位置之間活動(dòng)切換；處于第一位置的釋放蓋導(dǎo)通儲(chǔ)存腔與儲(chǔ)液腔；處于第二位置的釋放蓋阻斷儲(chǔ)存腔與儲(chǔ)液腔。

4、在本技術(shù)的一實(shí)施例中，釋放蓋的密度小于清潔溶劑的密度；其中，在向儲(chǔ)液腔添加清潔溶劑的過(guò)程中，響應(yīng)于清潔溶劑施加于釋放蓋的浮力，釋放蓋自第一位置上浮至第二位置。

5、在本技術(shù)的一實(shí)施例中，儲(chǔ)存腔的一端為第一開(kāi)口；釋放蓋包括：蓋本體；連接部，連接于蓋本體朝向基座的一側(cè)；以及抵接部，連接于連接部遠(yuǎn)離蓋本體的端部，且抵接部與蓋本體以及連接部配合圍成容置腔，基座靠近第一開(kāi)口的端部嵌設(shè)于容置腔中；其中，當(dāng)釋放蓋處于第一位置時(shí)，釋放蓋與基座之間具有流體通路，第一開(kāi)口通過(guò)流體通路與儲(chǔ)液腔連通；當(dāng)釋放蓋上浮至第二位置時(shí)，抵接部連接基座，以阻斷流體通路。

6、在本技術(shù)的一實(shí)施例中，釋放組件具有浮動(dòng)方向，釋放蓋沿浮動(dòng)方向自第一位置上浮至第二位置；儲(chǔ)液腔的橫截面面積為s；儲(chǔ)液腔的目標(biāo)儲(chǔ)液量為r；清潔溶質(zhì)的溶解速率為v；清潔液中的清潔溶質(zhì)的目標(biāo)濃度為n；在添加清潔溶劑的過(guò)程中清潔溶劑的流量為l；當(dāng)釋放蓋上浮至第二位置時(shí)，蓋本體與基座在浮動(dòng)方向上的間距為h；當(dāng)釋放蓋上浮至第二位置時(shí)，在浮動(dòng)方向上處于蓋本體與基座之間的連接部的體積為t；釋放蓋自第一位置上浮至第二位置耗費(fèi)的時(shí)長(zhǎng)為t；其中，滿足：t＝(s*h-t)/l，且v*t≥n*r。

7、在本技術(shù)的一實(shí)施例中，基座包括：基座本體，具有儲(chǔ)存腔；以及耳部，凸設(shè)于基座本體的外側(cè)壁，耳部靠近第一開(kāi)口設(shè)置，且耳部嵌設(shè)于容置腔中；其中，當(dāng)釋放蓋處于第二位置時(shí)，抵接部連接耳部。

8、在本技術(shù)的一實(shí)施例中，流體通路包括依次連通的第一通路段、第二通路段、第三通路段以及第四通路段；其中，第一通路段位于蓋本體與耳部之間；第二通路段位于連接部與耳部之間；第三通路段位于抵接部與耳部之間；第四通路段位于抵接部與基座本體的外側(cè)壁之間。

9、在本技術(shù)的一實(shí)施例中，釋放組件具有浮動(dòng)方向，釋放蓋沿浮動(dòng)方向自第一位置上浮至第二位置；其中，在浮動(dòng)方向上，蓋本體與抵接部的間距大于耳部的長(zhǎng)度。

10、在本技術(shù)的一實(shí)施例中，釋放組件具有相互垂直的浮動(dòng)方向以及參考平面，釋放蓋沿浮動(dòng)方向自第一位置上浮至第二位置；其中，容置腔在參考平面上的正投影面積大于耳部在參考平面上的正投影所限定區(qū)域的面積。

11、在本技術(shù)的一實(shí)施例中，釋放組件具有相互垂直的浮動(dòng)方向以及參考平面，釋放蓋沿浮動(dòng)方向自第一位置上浮至第二位置；抵接部圍設(shè)形成連通容置腔的第二開(kāi)口，基座穿過(guò)第二開(kāi)口而嵌設(shè)于容置腔中；其中，第二開(kāi)口在參考平面上的正投影面積大于基座本體在參考平面上的正投影面積。

12、在本技術(shù)的一實(shí)施例中，釋放組件還包括：第一密封件，設(shè)置于耳部背離蓋本體的一側(cè)和/或設(shè)置于抵接部朝向蓋本體的一側(cè)；其中，當(dāng)釋放蓋處于第二位置時(shí)，抵接部與耳部配合夾持第一密封件以形成密封。

13、在本技術(shù)的一實(shí)施例中，基座的密度大于釋放蓋的密度。

14、在本技術(shù)的一實(shí)施例中，基座的密度大于清潔溶劑的密度。

15、在本技術(shù)的一實(shí)施例中，釋放蓋與基座可拆卸連接，以當(dāng)釋放蓋與基座分離時(shí)，允許向儲(chǔ)存腔補(bǔ)充清潔溶質(zhì)。

16、在本技術(shù)的一實(shí)施例中，釋放蓋包括：蓋本體，包括主體部、固定蓋以及第二密封件，主體部圍設(shè)形成第三開(kāi)口，固定蓋可拆卸地連接于主體部以選擇性地封堵第三開(kāi)口，第二密封件夾設(shè)于主體部與固定蓋之間以形成密封；其中，當(dāng)固定蓋與主體部分離時(shí)，固定蓋開(kāi)放第三開(kāi)口，以允許基座穿過(guò)第三開(kāi)口而與釋放蓋分離。

17、在本技術(shù)的一實(shí)施例中，儲(chǔ)液組件包括：儲(chǔ)液箱，內(nèi)部設(shè)置有儲(chǔ)液腔；進(jìn)液管，與儲(chǔ)液腔連通，其中通過(guò)進(jìn)液管向儲(chǔ)液腔添加清潔溶劑；以及出液管，與儲(chǔ)液腔連通，出液管還用于連接清潔裝置，以通過(guò)出液管將儲(chǔ)液腔中的清潔液補(bǔ)充至清潔裝置。

18、相應(yīng)地，本技術(shù)還提供一種清潔裝置，包括：裝置主體；儲(chǔ)液組件，設(shè)置于裝置主體，且儲(chǔ)液組件具有用于儲(chǔ)存清潔液的儲(chǔ)液腔，其中清潔液由清潔溶劑以及清潔溶質(zhì)構(gòu)成；以及釋放組件，容置于儲(chǔ)液腔中，釋放組件包括：基座，具有用于儲(chǔ)存清潔溶質(zhì)的儲(chǔ)存腔；以及釋放蓋，與基座連接，釋放蓋用于選擇性地導(dǎo)通或阻斷儲(chǔ)存腔與儲(chǔ)液腔；其中，釋放蓋被配置為能夠在第一狀態(tài)和第二狀態(tài)之間切換；第一狀態(tài)下的釋放蓋導(dǎo)通儲(chǔ)存腔與儲(chǔ)液腔，使得儲(chǔ)存腔中的清潔溶質(zhì)與儲(chǔ)液腔中的清潔溶劑混合以形成清潔液；第二狀態(tài)下的釋放蓋阻斷儲(chǔ)存腔與儲(chǔ)液腔。

19、相應(yīng)地，本技術(shù)還提供一種釋放組件，釋放組件與清潔裝置或基站中的儲(chǔ)液組件搭配使用，釋放組件包括：基座，具有用于儲(chǔ)存清潔溶質(zhì)的儲(chǔ)存腔；以及釋放蓋，與基座連接，釋放蓋用于選擇性地導(dǎo)通或阻斷儲(chǔ)存腔與儲(chǔ)液組件；其中，釋放蓋被配置為能夠在第一狀態(tài)和第二狀態(tài)之間切換；第一狀態(tài)下的釋放蓋導(dǎo)通儲(chǔ)存腔與儲(chǔ)液組件，使得儲(chǔ)存腔中的清潔溶質(zhì)與儲(chǔ)液組件中的清潔溶劑混合以形成清潔液；第二狀態(tài)下的釋放蓋阻斷儲(chǔ)存腔與儲(chǔ)液組件。

20、本技術(shù)的有益效果是：區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)，本技術(shù)提供一種基站、清潔裝置以及釋放組件。該釋放組件包括基座以及釋放蓋?；哂杏糜趦?chǔ)存清潔溶質(zhì)的儲(chǔ)存腔。釋放蓋被配置為能夠在第一狀態(tài)和第二狀態(tài)之間切換。第一狀態(tài)下的釋放蓋導(dǎo)通儲(chǔ)存腔與儲(chǔ)液組件的儲(chǔ)液腔，使得儲(chǔ)存腔中的清潔溶質(zhì)與儲(chǔ)液腔中的清潔溶劑混合以形成清潔液。第二狀態(tài)下的釋放蓋阻斷儲(chǔ)存腔與儲(chǔ)液腔。換言之，本技術(shù)釋放蓋能夠切換至第二狀態(tài)以阻斷儲(chǔ)存腔與儲(chǔ)液腔，使得儲(chǔ)存腔中的清潔溶質(zhì)不再接觸儲(chǔ)液腔中的清潔溶劑，能夠避免釋放組件中的清潔溶質(zhì)過(guò)快消耗，因而能夠降低釋放組件維護(hù)或更換的頻率，進(jìn)而有利于方便用戶的日常使用過(guò)程以及降低用戶的使用成本。