本實(shí)用新型涉及，尤其涉及一種煎烤機(jī)。

背景技術(shù)：

現(xiàn)有的煎烤機(jī)一般為單個(gè)加熱元件對烤盤進(jìn)行加熱，并且基于單個(gè)加熱元件進(jìn)行單溫控制，導(dǎo)致烤盤表面各區(qū)域的溫度不均，烤盤中心區(qū)域與烤盤邊緣區(qū)域之間的溫度差較大，甚至?xí)_(dá)到六十度以上的溫度差，過大的溫度差就造成烤盤內(nèi)加熱的食物整體受熱非常不均，導(dǎo)致出現(xiàn)烤盤中心處的食物已經(jīng)熟了而邊緣處的食物未熟，邊緣處食物熟的時(shí)候，烤盤中心的食物已經(jīng)燒焦的現(xiàn)象，烹飪效果差。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型提供一種煎烤機(jī)，其主要目的在于解決現(xiàn)有技術(shù)中煎烤機(jī)加熱過程中均勻性過低的技術(shù)問題。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供一種煎烤機(jī)，該煎烤機(jī)包括烤盤、固定設(shè)置在靠近所述烤盤中央處的主發(fā)熱元件和設(shè)置在靠近所述烤盤邊緣處的輔助發(fā)熱元件，所述煎烤機(jī)還包括與所述主發(fā)熱元件連接的主溫控器，以及與所述輔助發(fā)熱元件連接的輔助溫控器。

可選地，所述主溫控器和所述輔助溫控器分別與所述烤盤的內(nèi)表面接觸設(shè)置。

可選地，所述輔助發(fā)熱元件有多個(gè)且均為環(huán)狀，所述多個(gè)輔助發(fā)熱元件由所述烤盤的中心區(qū)域向邊緣處依次環(huán)繞設(shè)置，每一個(gè)輔助發(fā)熱元件均連接有對應(yīng)的所述輔助溫控器。

可選地，所述主發(fā)熱元件和所述輔助發(fā)熱元件為電熱管、具有正溫度系數(shù)PTC特性的加熱器或者電熱膜。

可選地，所述煎烤機(jī)還包括控制器，用于根據(jù)所述主溫控器檢測到的第一溫度與所述輔助溫控器檢測到的第二溫度控制所述輔助溫控器的斷開與閉合。

可選地，所述控制器還用于在所述第一溫度與所述第二溫度的溫度差大于第一預(yù)設(shè)溫度差、且所述輔助溫控器處于斷開狀態(tài)時(shí)，控制所述輔助溫控器閉合，以使輔助發(fā)熱元件進(jìn)入加熱狀態(tài)。

可選地，所述控制器還用于在所述第一溫度大于所述主發(fā)熱元件的上限溫度閾值、且所述主發(fā)熱元件處于加熱狀態(tài)時(shí)，控制所述主溫控器斷開，以使所述主發(fā)熱元件停止加熱。

可選地，所述控制器還用于當(dāng)所述第二溫度大于所述輔助發(fā)熱元件對應(yīng)的上限溫度閾值，且所述輔助發(fā)熱元件處于加熱狀態(tài)時(shí)，控制與所述輔助發(fā)熱元件對應(yīng)的輔助溫控器斷開，以使所述輔助發(fā)熱元件停止加熱。

本實(shí)用新型提出的煎烤機(jī)，在烤盤上設(shè)置主發(fā)熱元件和輔助發(fā)熱元件，以及分別對應(yīng)于主發(fā)熱元件和輔助發(fā)熱元件設(shè)置的主溫控器和輔助溫控器，在煎烤機(jī)的工作過程中，通過對主發(fā)熱元件和輔助發(fā)熱元件進(jìn)行聯(lián)合控制，實(shí)現(xiàn)多重加熱，縮小烤盤邊緣處的溫度與烤盤中央?yún)^(qū)域之間的溫度差，提高烤盤整體溫度的均勻性，以避免烤盤內(nèi)的食物整體受熱不均勻，解決了現(xiàn)有技術(shù)中煎烤機(jī)加熱過程中均勻性過低的技術(shù)問題。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型煎烤機(jī)的較佳實(shí)施例的組裝結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本實(shí)用新型煎烤機(jī)的較佳實(shí)施例的爆炸圖。

本實(shí)用新型目的的實(shí)現(xiàn)、功能特點(diǎn)及優(yōu)點(diǎn)將結(jié)合實(shí)施例，參照附圖做進(jìn)一步說明。

具體實(shí)施方式

應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。

本實(shí)用新型提供一種煎烤機(jī)。參照圖1所示，為本實(shí)用新型煎烤機(jī)的較佳實(shí)施例的組裝結(jié)構(gòu)示意圖，參照圖2所示，為本實(shí)用新型煎烤機(jī)的較佳實(shí)施例的爆炸圖。

在該實(shí)施例中，煎烤機(jī)10包括烤盤20、固定設(shè)置在靠近烤盤20中央處的主發(fā)熱元件30和設(shè)置在靠近烤盤20邊緣處的輔助發(fā)熱元件40，煎烤機(jī)10還包括與主發(fā)熱元件30連接的主溫控器50，以及與輔助發(fā)熱元件40連接的輔助溫控器60。

進(jìn)一步地，主溫控器50和輔助溫控器60分別與烤盤20的內(nèi)表面接觸設(shè)置，以檢測烤盤20的溫度。

進(jìn)一步地，輔助發(fā)熱元件40有多個(gè)且均為環(huán)狀，多個(gè)輔助發(fā)熱元件40由烤盤20的中心區(qū)域向邊緣處依次環(huán)繞設(shè)置，每一個(gè)輔助發(fā)熱元件40均連接有對應(yīng)的輔助溫控器60。

具體地，可以根據(jù)烤盤20的加熱區(qū)域的面積的大小，設(shè)置輔助發(fā)熱元件40的個(gè)數(shù)。作為一種實(shí)施方式，當(dāng)烤盤20的加熱區(qū)域的面積較小時(shí)，可以設(shè)置一個(gè)輔助發(fā)熱元件40，該輔助發(fā)熱元件40與主發(fā)熱元件30之間的距離可以由烤盤20的加熱區(qū)域的面積的大小來確定。溫控器可以靠近設(shè)置在與其對應(yīng)的發(fā)熱元件處，以準(zhǔn)確的檢測其對應(yīng)的發(fā)熱元件對應(yīng)的烤盤20的加熱區(qū)域所達(dá)到的溫度。

通過控制主溫控器50的閉合與斷開，相應(yīng)的控制主發(fā)熱元件30開始加熱或者停止加熱；同理，通過控制輔助溫控器60的閉合與斷開，相應(yīng)的控制輔助發(fā)熱元件40開始加熱或者停止加熱。

可以理解的是，煎烤機(jī)10可以只在下殼體的設(shè)置烤盤20，也可以在上殼體與下殼體均設(shè)置烤盤20，當(dāng)上殼體與下殼體均設(shè)置烤盤20時(shí)，其烤盤20上設(shè)置的發(fā)熱元件均可以按照本實(shí)用新型提出的方式進(jìn)行設(shè)置，具體地，在上殼體和下殼體的烤盤20上設(shè)置主發(fā)熱元件30和輔助發(fā)熱元件40，其中，輔助發(fā)熱元件40可以是一個(gè)或者多個(gè)。

本實(shí)施例提出的煎烤機(jī)10，在烤盤20上設(shè)置主發(fā)熱元件30和輔助發(fā)熱元件40，以及分別對應(yīng)于主發(fā)熱元件30和輔助發(fā)熱元件40設(shè)置的主溫控器50和輔助溫控器60，在煎烤機(jī)10的工作過程中，通過對主發(fā)熱元件30和輔助發(fā)熱元件40進(jìn)行聯(lián)合控制，實(shí)現(xiàn)多重加熱，縮小烤盤20邊緣處的溫度與烤盤20中央?yún)^(qū)域之間的溫度差，提高烤盤20整體溫度的均勻性，以避免烤盤20內(nèi)的食物整體受熱不均勻，解決了現(xiàn)有技術(shù)中煎烤機(jī)10加熱過程中烤盤20溫度不均勻的技術(shù)問題。

可選地，在該實(shí)施例中，參照圖1所示，主發(fā)熱元件30和輔助發(fā)熱元件40的形狀設(shè)置為“Ω”狀，在其他實(shí)施例中，主發(fā)熱元件30與輔助發(fā)熱元件40可以根據(jù)需要設(shè)置為其他形狀，按照合理的距離分布在烤盤20的內(nèi)側(cè)，其中，主發(fā)熱元件30的形狀可以與輔助發(fā)熱元件40的形狀相同或者相似。

進(jìn)一步地，作為一種實(shí)施方式，輔助發(fā)熱元件40有多個(gè)，每相鄰設(shè)置的兩個(gè)輔助發(fā)熱元件40之間具有預(yù)設(shè)距離，每一個(gè)輔助發(fā)熱元件40均連接有對應(yīng)的所述輔助溫控器60，其中，預(yù)設(shè)距離可以根據(jù)烤盤20的加熱區(qū)域的面積大小合理設(shè)置。

本實(shí)施例中的煎烤機(jī)10通過對主發(fā)熱元件30和輔助發(fā)熱元件40的多重控制，以使烤盤20的加熱區(qū)域的溫度能夠得到均勻，避免溫差過大。以下為了方便說明，以煎烤機(jī)10具有一個(gè)輔助發(fā)熱元件40為例進(jìn)行說明，并不用于限制本實(shí)用新型。

進(jìn)一步地，煎烤機(jī)10還包括控制器，該控制器根據(jù)主溫控器50檢測到的溫度控制主控溫器的開關(guān)，并根據(jù)主溫控器50檢測到的第一溫度與輔助溫控器60檢測到的第二溫度控制輔助溫控器60的斷開與閉合；或者根據(jù)輔助溫控器60檢測到的溫度控制輔助溫控器60的開關(guān)。

具體地，在煎烤機(jī)10的加熱過程中，控制器對于主溫控器50檢測到的第一溫度和輔助溫控器60檢測到的第二溫度進(jìn)行實(shí)時(shí)獲取，當(dāng)檢測到第一溫度與第二溫度之間的溫差大于或等于預(yù)先設(shè)置的第一溫度差，且輔助發(fā)熱元件40當(dāng)前處于停止加熱狀態(tài)時(shí)，說明，此時(shí)只有主發(fā)熱元件30在工作，烤盤20上靠近主發(fā)熱元件30的中央?yún)^(qū)域溫度已經(jīng)較高，而由于烤盤20邊緣處距離主發(fā)熱元件30較遠(yuǎn)，造成邊緣處與中央處的溫度差較大，此時(shí)，控制器控制輔助發(fā)熱元件40的輔助溫控器60閉合，以使輔助發(fā)熱元件40開始加熱，隨著輔助發(fā)熱元件40的工作，參照圖1所示，對應(yīng)烤盤20邊緣處的溫度快速上升，逐漸縮小與烤盤20中央?yún)^(qū)域之間的溫度差，提高烤盤20整體溫度的均勻性。

此外，對于每一個(gè)溫控器均設(shè)置有上限溫度閾值和下限溫度閾值，在煎烤機(jī)10的工作過程中，當(dāng)該溫控器檢測到的溫度達(dá)到對應(yīng)的上限溫度閾值時(shí)，控制器控制該溫控器斷開，以使對應(yīng)的發(fā)熱元件停止加熱；當(dāng)該溫控器檢測到的溫度小于對應(yīng)的下限溫度閾值時(shí)，控制器控制該溫控器閉合，以使對應(yīng)的發(fā)熱元件重新開始加熱。

進(jìn)一步地，當(dāng)獲取到的所述第二溫度大于所述輔助發(fā)熱元件40對應(yīng)的上限溫度閾值，且所述輔助發(fā)熱元件40處于加熱狀態(tài)時(shí)，判斷獲取到的所述第一溫度與所述第二溫度的溫度差是否小于第二預(yù)設(shè)溫度差，其中，所述第二預(yù)設(shè)溫度差小于所述第一預(yù)設(shè)溫度差；若是，則控制與所述輔助發(fā)熱元件40對應(yīng)的輔助溫控器60斷開。

可選地，第二預(yù)設(shè)溫度差設(shè)置為1-15度。

第一預(yù)設(shè)溫度差、第二預(yù)設(shè)溫度差，以及各個(gè)溫控器的上限溫度閾值和下限溫度閾值均預(yù)先根據(jù)需要設(shè)置?？蛇x地，作為一種實(shí)施方式，第一預(yù)設(shè)溫度差為10-30度；作為一種實(shí)施方式，第一預(yù)設(shè)溫度差為18-22度。

可選地，主加熱元件和輔助加熱元件均可以是電熱管、具有PTC特性的金屬加熱器、電熱膜或者具有PTC特性的陶瓷發(fā)熱器等。本實(shí)用新型煎烤機(jī)10中的主加熱元件與輔助加熱元件的類型不作限制，可以是上述各種類型的發(fā)熱元件中的任一種，并且，主加熱元件與輔助加熱元件的類型可以相同，也可以不相同。

可以理解的是，在輔助發(fā)熱元件40有多個(gè)時(shí)，對于每一個(gè)輔助發(fā)熱元件40來說，都有對應(yīng)的上限溫度閾值和下限溫度閾值，并且，都可以根據(jù)該輔助發(fā)熱元件40對應(yīng)的溫控器與主溫控器50檢測到的溫度之間的溫差來控制，與輔助發(fā)熱元件40只有一個(gè)時(shí)的控制原理相同。

需要說明的是，在本文中，術(shù)語“包括”、“包含”或者其任何其他變體意在涵蓋非排他性的包含，從而使得包括一系列要素的過程、方法、物品或者裝置不僅包括那些要素，而且還包括沒有明確列出的其他要素，或者是還包括為這種過程、方法、物品或者裝置所固有的要素。在沒有更多限制的情況下，由語句“包括一個(gè)……”限定的要素，并不排除在包括該要素的過程、方法、物品或者裝置中還存在另外的相同要素。

另外，在實(shí)用新型中涉及“第一”、“第二”等等的描述僅描述目的，而不能理解為指示或暗示其相對重要性或者隱含指明所指示的技術(shù)特征的數(shù)量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括至少一個(gè)該特征。另外，各個(gè)實(shí)施例之間的技術(shù)方案可以相互結(jié)合，但是必須是以本領(lǐng)域普通技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)為基礎(chǔ)，當(dāng)技術(shù)方案的結(jié)合出現(xiàn)相互矛盾或無法實(shí)現(xiàn)時(shí)應(yīng)當(dāng)人認(rèn)為這種技術(shù)方案的結(jié)合不存在，也不在本實(shí)用新型要求的保護(hù)范圍之內(nèi)。

以上僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例，并非因此限制本實(shí)用新型的專利范圍，凡是利用本實(shí)用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍內(nèi)。