專利名稱：：涂覆玻璃板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及具有低輻射(low-e)和/或日光控制涂層的涂覆玻璃板。這樣的可見光透明涂層在現(xiàn)有技術(shù)中是公知的，且通常包含至少一層紅外反射層，所述紅外反射層嵌在透明的下方介電抗反射層和上方介電抗反射層之間。
背景技術(shù)：
：對這樣的可熱處理的涂覆玻璃板的需要與日俱增。許多應(yīng)用領(lǐng)域需要熱處理的玻璃板，這些玻璃被鋼化以賦予安全性能和/或被彎曲，例如，用于建筑或機(jī)動車的窗玻璃。已知為了熱鋼化和/或彎曲玻璃板，需要如下處理玻璃板通過在接近或高于所用玻璃的軟化點(diǎn)的溫度下所述玻璃。標(biāo)準(zhǔn)鈉鈣硅玻璃型浮法玻璃的相關(guān)溫度范圍典型為約580-690°C，在開始實(shí)際鋼化和/或彎曲處理之前將玻璃板保持在這個(gè)溫度范圍內(nèi)持續(xù)至多幾分鐘。以下說明書和權(quán)利要求中的術(shù)語"熱處理，，、"熱處理的"和"可熱處理的，，意指熱彎曲和/或鋼化處理(例如上文提及的)，并且意指如下的其它熱處理在這些熱處理中涂覆玻璃板達(dá)到約580-690匸的溫度并持續(xù)至多幾分鐘。如果這些玻璃板具有涂層，特別是具有包含至少一個(gè)銀基紅外反射層的涂層，例如用以賦予日光控制和/或低輻射性能以減少特定光譜范圍內(nèi)穿過涂覆玻璃板的能量傳遞，則可能產(chǎn)生困難。這樣的涂層本身不是可熱處理的。過去，提出了許多關(guān)于如何提供具有至少一層紅外反射層的可見光透明涂層的建議，所述涂層可施用于平面玻璃板并隨后經(jīng)歷熱處理而不破壞涂層且特別是紅外反射層。特別旨在提供在熱處理期間僅輕微改變涂層光學(xué)性能的涂層。為實(shí)現(xiàn)涂覆玻璃板的可熱處理性，需要仔細(xì)選擇(一層或多層)紅外反射層之上和之下的層。已知，可以通過例如下列方式使用在熱處理期間能夠保護(hù)(一層或多層)紅外反射層的層提供關(guān)于氧的阻擋或關(guān)于氧的捕獲/吸收功能，所述氧會擴(kuò)散穿過涂層到達(dá)(一層或多層)紅外反射層，和/或抵抗涂層或玻璃基材中的成分?jǐn)U散的阻擋功能；^使(一層或多層)紅外反射層穩(wěn)定以抵抗結(jié)塊(agglomeration)或其它手段?？梢酝ㄟ^向涂層中加入薄的輔助層來提供這樣的功能，例如EP0233003Al、EP0229921Al、EP0761618Al、EP1089947Al、EP1140721Al、EP1385798Al(僅提及一些文獻(xiàn))中乂>開的所述輔助層。為低輻射和/或日光控制涂層提供可熱處理性的其它建議教導(dǎo)仔細(xì)選擇用于抗反射層的材料使得它們或多或少由本身提供上述的功能。特別提出使用硅和/或鋁的(氧)氮化物或者具有阻擋功能的特定硅化合物作為抗反射層或至少作為其主要組成部分(part)(例如EP0718250Bl)，這里和下面的(氮)氧化物包括氧氮化物以及基本無氧的氮化物。還建議使用Zn-Sn氧化物(例如錫酸鋅)用于可熱處理涂層的抗反射層，如參見EP1140721Bl、W000/76930Al、EP0275474Bl。本發(fā)明的發(fā)明人發(fā)現(xiàn)在熱處理之前和之后，上文所述的若干涂覆玻璃板在其貯存、運(yùn)輸和使用期間不能經(jīng)受住一種或其它模擬普通環(huán)境影響的測試，并且在通常的操作和處理步驟期間不能經(jīng)受住作用在涂覆玻璃板上的機(jī)械和化學(xué)條件。某些已知涂層在熱處理之后顯示出的非常高的故障水平以致它們對于大多數(shù)汽車或建筑應(yīng)用的使用不可接受。特別發(fā)現(xiàn)具有Zn-Sn氧化物抗反射層的涂層在高于650X:溫度下的熱處理期間逐步顯示出相對高的霧度值，而具有硅(氧)氮化物抗反射層的涂層顯示出不理想的抵抗機(jī)械和化學(xué)影響的堅(jiān)固性(robustness)。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明主要旨在提供如上文所述的涂覆玻璃板，該玻璃板顯示出良好低輻射和/或日光控制性能、高的光透射率、低霧度以及高的機(jī)械和化學(xué)堅(jiān)固性。在某些實(shí)施方案中，本發(fā)明的低輻射和/或日光控制涂層應(yīng)該(任選在熱處理之后)提供低的薄層電阻，同時(shí)顯示出高的光透射率(TJ和低的霧度值。本發(fā)明的低輻射和/或日光控制涂層應(yīng)該優(yōu)選至少在一些實(shí)施方案中是可熱處理的并在熱處理后顯示出低的霧度值。更具體地，根據(jù)本發(fā)明的某些涂覆玻璃板應(yīng)該是可熱處理的而其光學(xué)性能無大的改變，特別是其光透射率和/或其反射顏色。此外，該涂覆玻璃板在熱處理之前和之后在其貯存、運(yùn)輸和使用期間還應(yīng)該經(jīng)受住普通環(huán)境影響，并且在通常的操作和處理步驟期間耐受作用在涂覆玻璃板上的機(jī)械和化學(xué)條件而無明顯損壞。本發(fā)明還旨在提供具有高的光透射率和低的發(fā)射率(對應(yīng)于低的薄層電阻)和/或具有良好日光控制性能即低太陽能透射率與高光透射率結(jié)合的可熱處理的涂覆玻璃板。本發(fā)明更特別旨在提供與主要在其抗反射層中主要使用氮化硅的涂層相比具有改善性能的低輻射和/或日光控制涂層。上述一個(gè)或多個(gè)問題的解決方案是權(quán)利要求1的主題。產(chǎn)品權(quán)利要求2-19中提出了優(yōu)選的實(shí)施方案。權(quán)利要求22中提出了由依據(jù)上述產(chǎn)品權(quán)利要求的涂覆玻璃板制造的熱處理的涂覆玻璃板。權(quán)利要求23中提出了一種疊層玻璃板，所述疊層玻璃板包含至少一個(gè)依據(jù)上述產(chǎn)品權(quán)利要求的熱處理的涂覆玻璃板。根據(jù)本發(fā)明的涂覆玻璃板的優(yōu)選用途是權(quán)利要求22和23的主題。7權(quán)利要求26中提出了如產(chǎn)品權(quán)利要求中所規(guī)定的熱處理的涂覆玻璃板的制造方法。意外發(fā)現(xiàn)，如果涂層的抗反射層中至少之一包含至少一個(gè)含Si和/或Al的(氧)氮化物與Zn0的混合物的化合物層，則可以提供具有優(yōu)異的機(jī)械和化學(xué)耐久性的低輻射和/或日光控制涂層，所述涂層在一些實(shí)施方案中是可熱處理的。應(yīng)理解，這樣的混合物可以在微觀水平呈現(xiàn)不同的形式。在本發(fā)明的上下文中，如果Si和/或Al、Zn、0和N原子在層中是可檢測到的，則層是最寬泛含義中的化合物層，而不管它們在微觀水平是如何彼此結(jié)合的。然而，認(rèn)為在大多數(shù)實(shí)施方案中，本發(fā)明的化合物層在微觀上實(shí)際包含Si和/或Al的(氧)氮化物(一方面)和氧化鋅(另一方面)的真實(shí)化合物的混合物。根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施方案，化合物層基本上是均勻?qū)?。例如可以通過在含氮的濺射氣氛中從包含Si和/或Al與Zn0的混合物的混合靼濺射沉積化合物層來獲得這樣的基本均勻?qū)?。如果層的核心而非其邊界或表面區(qū)域基本是均勻的，則認(rèn)為層是"基本均勻的"。應(yīng)理解，即使對于這樣的均勻?qū)樱?dāng)接近它們的表面或邊界時(shí)，它們的組成也可能根據(jù)沉積條件和/或根據(jù)在隨后或先前層中使用的材料而變化。根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施方案，該化合物層具有漸變的組成，使得Si和/或Al的(氧)氮化物與Zn0的比率(以Si和/或Al原子與Zn原子的比率表示)跨其厚度甚至在其核心部分顯著變化(即，在平均組成附近變化超過約+/-5%)?？梢酝ㄟ^在含氮濺射氣氛中對一方面Si和/或Al(任選地被摻雜)以及另一方面Zn0(任選地被摻雜)的靶對進(jìn)行共濺射并且通過以給定的速度相對于所述靶對移動待涂覆的玻璃板來得到這樣的漸變層，從而因?yàn)榫嗖煌械木嚯x變化，沉積跨其厚度具有逐漸改變的組成的化合物。依據(jù)最后所述的實(shí)施方案的優(yōu)選變體，Si和/或Al的(氧)氮化物與Zn0的比率(以Si和/或Al原子相對Zn原子的比率表示)跨化合物層的厚度反復(fù)地顯著增大和降低?？梢酝ㄟ^如下方式產(chǎn)生這樣的層在含氮濺射氣氛中對一方面Si和/或Al(任選地被摻雜)以及另一方面Zn0(任選地被摻雜)的幾個(gè)靶對進(jìn)行共濺射并且通過相對于一個(gè)靶對然后相對于另一個(gè)靶對移動待涂覆的玻璃板，由此以反復(fù)降低和增大涂層成分比率的方式沉積涂層?；蛘撸梢韵鄬我话覍ο蚯昂拖蚝蠓磸?fù)移動玻璃板，由此在基材相對于把對的若干次移動期間逐步沉積化合物層。如果跨化合物層的反復(fù)組成變化的次數(shù)足夠高，使得所述層的組成有效地接近基本均勻狀態(tài)，則這是特別優(yōu)選的。如果化合物層中的Si和/或Al相對于Zn的平均原子比為約20:l至l:20，優(yōu)選約10:1至1:10,更優(yōu)選約5:1至1:5，則可獲得特別良好的結(jié)果。例如出于生產(chǎn)率原因，當(dāng)用于單一或多重銀層涂層的下方抗反射層和/或用于多層(例如雙層)銀層涂層的銀層之間的間隔層時(shí)，可以優(yōu)選Si和/或Al相對于Zn的原子比為約1:1或更低的富Zn的化合物層。已發(fā)現(xiàn)，可以按特別高的生產(chǎn)率濺射沉積具有約1:2至1:5、優(yōu)選約1:4的原子比的化合物層，而不會損害涂層的可熱處理性或其它相關(guān)性能。對于本發(fā)明涂層的上方(最外層)抗反射層，如果要獲得優(yōu)異的可熱處理性，則應(yīng)使用更富含Si和/或Al的化合物層，其中設(shè)定Si和/或Al相對于Zn的原子比為約1:1.5至3:1。本發(fā)明的化合物層可以在大厚度范圍內(nèi)施用或有用。當(dāng)用于涂層的上方或下方抗反射層時(shí)，在由干涉光學(xué)給出的實(shí)際相關(guān)范圍中，它們優(yōu)選的厚度范圍可以為優(yōu)選約10-60nm，更優(yōu)選為約15-50nm，且更加優(yōu)選為約25-40nm。25-40nm的范圍適用于當(dāng)化合物層構(gòu)成下方或上方抗反射層的主要組成部分的情形。如果用于兩層紅外反射層之間的介電間隔層，則本發(fā)明化合物層的優(yōu)選厚度范圍是10-120nm，更優(yōu)選15-100nm,且更加優(yōu)選25-90nm。上面給出的厚度范圍的較小厚度值適用于涂層疊層設(shè)計(jì)，其中抗反射除本發(fā)明的化合物層之外還包含至少一個(gè)另外的介電層，使得可以獲得需要有效使紅外反射層抗反射的總厚度。由于摻雜的靶通常比純金屬氧化物或半導(dǎo)體靶更易于濺射，因此9化合物層還可以包含另外的金屬或半導(dǎo)體或它們的氧化物或(氧)氮化物。優(yōu)選的Zn0濺射靶摻雜劑是Al(A1203)，其在某些可商購的Al-摻雜的ZnO濺射靶中的含量是至多約2wt.%(在摻雜的氧化物靶中的八1203含量)，不排除更高的摻雜劑含量。優(yōu)選的Si靶摻雜劑也是Al，其通常以至多l(xiāng)Owt.%或更大的量加入可商購的Si'減射靼。而純Al靶可用于濺射本發(fā)明化合物層的鋁(氧)氮化物成分，使用摻雜鋁乾也在本發(fā)明的范圍內(nèi)，例如由包含諸如Ti、Zn、Mg、Si、Cu等摻雜劑的技術(shù)Al合金制得的濺射靶，所述摻雜劑的量大約為至多幾個(gè)重量百分比。因?yàn)閾诫s劑將嵌入由這些摻雜的乾產(chǎn)生的化合物層中，因此應(yīng)選擇它們的量和材料使得它們不顯著損害本發(fā)明所針對的涂覆玻璃板的性質(zhì)。為荻得具有特別高的光學(xué)和熱學(xué)性能的涂覆玻璃板，即，具有高光透射率以及高紅外反射率，優(yōu)選提供生長促進(jìn)層作為紅外反射層之下的下方抗反射層的上方組成部分。在沉積銀基紅外反射層之前，通過提供生長促進(jìn)層(該生長促進(jìn)層的材料與下方抗反射層的基礎(chǔ)層的材料不同，其可以是根據(jù)本發(fā)明的化合物層)，這通常旨在改善紅外反射層的生長基礎(chǔ)以提高其比電導(dǎo)率(換言之，減小其在給定層厚下的薄層電阻)。通常恰好在沉積紅外反射層之前沉積生長促進(jìn)層并直接與紅外反射層接觸。然而在本發(fā)明的范圍內(nèi)，直接在銀基紅外反射層之下且特別在生長促進(jìn)層和后續(xù)銀基紅外反射層之間設(shè)置如現(xiàn)有技術(shù)已知的極薄輔助層(例如底涂層、附著促進(jìn)層、除氧劑層)，則可以由此進(jìn)一步改善涂層性質(zhì)。對于具有低nm范圍厚度的這些輔助層，已提出金屬、金屬合金和其低價(jià)氧化物，例如n或TiO,、NiCr或NiCrOx，然而不排除其它材料。生長促進(jìn)層優(yōu)選包含ZnO、金屬摻雜ZnO(如Al摻雜的ZnO或Sn摻雜的ZnO)、金屬摻雜的銦氧化物(如Sn摻雜的銦氧化物(ITO))、Al的(氧)氮化物與ZnO的混合物、Zn-Si氧化物中的一種或多種。ZnO和金屬摻雜的ZnO，如Al摻雜的ZnO或Sn摻雜的ZnO或其混合物，實(shí)際上是最優(yōu)選的材料。生長促進(jìn)層優(yōu)選具有約2-20nm的厚度，更優(yōu)選約4-18nm的厚度。為了在沉積處理期間以及在后續(xù)熱處理期間保護(hù)紅外反射層，優(yōu)選在紅外反射層之上提供另外的阻擋層，其可以特別包含Ti、nox、金屬摻雜的ZnO(如鋁摻雜的ZnO)、錫摻雜的錮氧化物(ITO)、Zn-Si氧化物的一種或多種，而不排除在方面中已知的其它材料，如特定的金屬或金屬合金、金屬(低價(jià))氧化物或金屬(氧)氮化物。優(yōu)選以至少稍孩吏亞化學(xué)計(jì)量比的氧化物形式沉積TiOx阻擋層(x<2)。基本為化學(xué)計(jì)量比(x=2)或甚至稍微超化學(xué)計(jì)量比(x>2)的組成也可在某些情形中提供足夠的阻擋性質(zhì)。阻擋層可以含少量的金屬摻雜劑，例如當(dāng)其由金屬摻雜的TiOx靶(EP1284302Al)或由鋁摻雜的ZnO乾沉積時(shí)。阻擋層的厚度應(yīng)該為約0.5-15nm，優(yōu)選約l-10nm。如果其吸收(金屬)的特性越大，則其厚度通常將越接近下限，并且如果其越透明(氧化的)則可被制造的越厚。至少稍微亞化學(xué)計(jì)量比的氧化阻擋層至少立即在其沉積之后可以提供在熱處理期間和沉積后續(xù)層期間對紅外反射層的更好保護(hù)，相比于完全氧化的阻擋層。通常組合選擇阻擋層的厚度以及它們在熱處理期間吸收(去除)氧的潛力，使得(至少如果目的在于高的光透射率的話)在熱處理之后它們基本完全被氧化并顯示低的光吸收率。本發(fā)明涂層的特別優(yōu)選的阻擋層包含TiOx和鋁摻雜的ZnO，要么作為兩個(gè)獨(dú)立或重疊(漸變)的分層(partiallayer)，要么作為混合層?？梢詢?yōu)選通過共濺射TiOx靶和Al摻雜的ZnO靶來產(chǎn)生這樣的層。如果每個(gè)抗反射層都包含含有Si和/或Al的(氧)氮化物與ZnO的混合物的化合物層，則可以獲得簡單的涂層設(shè)計(jì)。因此，這樣的本發(fā)明涂層的基本層序列將是玻璃板/任選的介電層如高折射率層/化合物層/任選的生長促進(jìn)層/任選的薄底涂層/Ag/任選的阻擋層/化合物層/任選的保護(hù)層ii然而，如果其介電層至少之一、特別是其Si和/或Al(氧)氮化物層之一或其Zn-Sn氧化物層之一被根據(jù)本發(fā)明的化合物層所取代，久性和/或可熱處理性的可測量的改善。既包含本發(fā)明的化合物層又包含Si/Al(氧)氮化物或Zn-Sn氧化物型常規(guī)層的更一般的本發(fā)明層序列的一些非限定性例子是玻璃板/任選的介電層如高折射率層/化合物層/任選的生長促進(jìn)層/任選的薄底涂層/Ag/任選的阻擋層/介電層，例如包含Si和/或Al(氧)氮化物和/或Zn-Sn氧化物層/任選的保護(hù)層；或玻璃板/任選的介電層如高折射率層/介電層，例如包含Si和/或Al的(氧)氮化物和/或Zn-Sn氧化物層/生長促進(jìn)層/任選的薄底涂層/Ag/阻擋層/化合物層/任選的保護(hù)層因此，作為本發(fā)明化合物層的補(bǔ)充或替代，抗反射層的至少之一可以包含至少一層介電層，特別地如果要涂覆玻璃板為可熱處理的話，該介電層可以包含下列中的一種或多種Zn-Si氧化物、Zn-Sn氧化物(例如錫酸鋅)、硅(氧)氮化物、鋁(氧)氮化物、In-Sn氧化物(IT0)、鉍氧化物、Sn-Si氧化物、Bi-Sn氧化物等?？梢赃x擇(550艦下)折射率大于約2.3的高折射率材料，例如本領(lǐng)域中公知的鈦氧化物(Ti02)或鉍氧化物，作為下方抗反射層的分層以獲得涂覆玻璃板的更中性外觀?？扇芜x地選擇因抗反射目的而為人所知的其它介電材料用于本發(fā)明涂層的分層，如果涂覆玻璃板無需是可熱處理的，則材料的選擇明顯較多。作為對高折射率層的替代，可優(yōu)選地提供與玻璃基材接觸的下方抗反射層的任選的最低介電層作為鋁(氧)氮化物層，要么單獨(dú)提供要么與至少一層后續(xù)介電層(特別是化合物層)和/或生長促進(jìn)層組合提供。雖然本發(fā)明的化合物層可以有利地與多種紅外反射層一起使用，然而本發(fā)明特別關(guān)注其中紅外反射層包含銀或銀基合金的涂覆玻璃板。雖然本發(fā)明對涂層的(一層或多層)紅外反射層的厚度未加限制(只要其是透光的)，但是如果銀或銀基合金的紅外反射層具有約6-20mn、優(yōu)選約6-15nm的厚度，則其在大多數(shù)情形中是優(yōu)選的。已證明本發(fā)明對低輻射和/或日光控制涂層特別有用，所述涂層包含兩層或更多層紅外反射層，所述紅外反射層與下方和上方的抗反射層以及將兩個(gè)后續(xù)紅外反射層隔開的間隔層一起充當(dāng)Fabry-Perot型干涉濾光體。這樣的涂層在建筑和汽車應(yīng)用中是眾所周知的，這些應(yīng)用中的目標(biāo)在于特別高的光透射率和太陽能透射率之間的比率("選擇性")和/或這些應(yīng)用中特別需要滿足窄的反射或透射顏色規(guī)范。因此，本發(fā)明在一個(gè)實(shí)施方案中針對這樣的涂層該涂層包含至少兩個(gè)層序列"下方抗反射層(任選包括上方生長促進(jìn)層)/紅外反射層/任選的阻擋層/上方抗反射層"，其中一個(gè)層序列的上方抗反射層與后續(xù)層序列的下方抗反射層結(jié)合以便在兩層紅外反射層之間提供間隔層，并且其中所述抗反射層中至少之一包含本發(fā)明的化合物層。此外，簡化涂層設(shè)計(jì)的一個(gè)實(shí)施方案的特征在于，每個(gè)抗反射層和(一層或多層)間隔層包含含有Si和/或Al的(氧)氮化物與Zn0的混合物的化合物層。該涂層的一個(gè)基本的非限定性層序列將是玻璃板/任選的介電層，如高折射率層/化合物層/任選的生長促進(jìn)層/任選的薄底涂層/Ag/任選的阻擋層/化合物層/任選的生長促進(jìn)層/任選的薄底涂層/Ag/任選的阻擋層/化合物層/任選的保護(hù)層。更通常地，前述層序列中的至少一個(gè)(但并非全部)化合物層可以被取代或者至少一個(gè)化合物層可以被其它介電層如特別是Si和/或Al的(氧)氮化物或者Zn-Sn氧化物層所補(bǔ)充以獲得有用的低輻射和/或日光控制涂層。此外，可以優(yōu)選以鋁(氧)氮化物層提供與玻璃基材接觸的下方抗反射層的任選的最下介電層?？梢詫⒘硗獾妮o助層添加到涂層中以優(yōu)化其行為。例如如果另外在最外抗反射層之上提供金屬(合金)的氧化物或(氧)氮化物的保護(hù)層或?qū)⑵淝度脒@樣的層中作為分割層(splittinglayer)，則可以進(jìn)一步改善涂覆玻璃板的機(jī)械和化學(xué)耐受性。特別優(yōu)選包含鈦、硅、鋁和/或Zn-Si的氧化物或(氧)氮化物的保護(hù)層。可以按約0.5-lOnm的厚度、優(yōu)選以l-6nm的厚度施用這種類型的保護(hù)層，然而不排除更厚的層。這樣的保護(hù)層可以作為替代或作為補(bǔ)充用于調(diào)節(jié)(改善)涂層對疊層玻璃板(該疊層玻璃板包含本發(fā)明的涂覆玻璃板)的中間層的附著或用于提供與中間層相匹配的更好折射率。本發(fā)明主要針對于高光透射率和高紅外反射率的涂層。對于這樣的涂層，應(yīng)優(yōu)選地選擇并沉積所有的分層使得它們至少在熱處理之后具有低水平的光和紅外吸收率。然而，如果要增強(qiáng)涂層的日光控制性能并降低太陽能和光的透射率，則本發(fā)明的涂層可以包含可吸收光和/或太陽能的分層，要么通過添加至少一層吸收層要么通過設(shè)計(jì)任何分層作為吸收層，如本領(lǐng)域中公知的那樣。本發(fā)明還針對于一種制備熱處理的涂覆玻璃板的方法，其中在580-690。C溫度下熱處理根據(jù)本發(fā)明的涂覆玻璃板約1-10分鐘，并隨后彎曲和/或鋼化。本發(fā)明還包含根據(jù)本發(fā)明的具有低輻射和/或日光控制涂層的熱處理的涂覆玻璃板，其具有低于約0.5%的霧度值，優(yōu)選至多約0.3%。相比現(xiàn)有技術(shù)的某些可熱處理涂層，本發(fā)明化合物層的特別優(yōu)勢是至少在本發(fā)明的某些實(shí)施方案中，獲得了顯著低于0.5%的霧度值，即使是在580-690X:溫度范圍的更劇烈的較高部分的熱處理之后。優(yōu)選將本發(fā)明的熱處理的涂覆玻璃板應(yīng)用于汽車窗玻璃(例如，擋風(fēng)玻璃、側(cè)窗、后窗、采光天窗)或應(yīng)用于建筑物的窗玻璃(例如，窗口窗玻璃、正面窗玻璃、內(nèi)部窗玻璃)。由于涂層通常不能足夠穩(wěn)定地用在單片窗玻璃上，因此本發(fā)明的涂覆玻璃板通常與窗玻璃如疊層玻璃板或多重窗玻璃組裝在一起，其中涂層要么面向粘塑性(adhesiveplastic)中間層要么面向填充氣體的密封間隙。包含至少一片熱處理過(例如彎曲)的本發(fā)明的涂覆玻璃板、至少一層粘塑性中間層、任選的至少一層另外玻璃或塑料板的疊層玻璃板特別適用于汽車擋風(fēng)玻璃或其它汽車窗玻璃，其中所述玻璃板的涂層面向中間層。優(yōu)選地，通過選擇合適的層序列以及通過調(diào)節(jié)單個(gè)層的厚度來設(shè)計(jì)本發(fā)明的涂層，使得這樣的疊層玻璃板獲得至少70%、優(yōu)選至少75%的光透射率值IY，以使得其能夠用作日光控制汽車擋風(fēng)玻璃。不言而喻，本發(fā)明也適用于涂覆玻璃板以及由其制成的具有較低光透射率的產(chǎn)品。下面借助非限定性附圖和實(shí)施例詳細(xì)說明本發(fā)明。附圖示出圖l是具有一層紅外反射層的本發(fā)明第一實(shí)施方案的示意截面，圖2是具有兩層紅外反射層的本發(fā)明第二實(shí)施方案的示意截面，圖3是反應(yīng)由XPS分析得到的本發(fā)明示例涂層的層序列的坐標(biāo)圖，圖4是反應(yīng)由XPS分析得到的本發(fā)明另一示例涂層的層序列的坐標(biāo)圖，圖5-7的坐標(biāo)圖顯示了根據(jù)本發(fā)明的包含硅(氧)氮化物-ZnO化合物層的涂層與類似的硅氮化物基涂層之間的某些性質(zhì)的比較。具體實(shí)施例方式圖1顯示了僅具有一層紅外反射層的本發(fā)明低輻射和/或日光控制涂層的基本層序列，所述紅外反射層沉積于玻璃板1上。玻璃板1通常由鈉鈣硅玻璃構(gòu)成，但本發(fā)明并不受限于此。其可以是透明或本體帶色彩的。在某些實(shí)施方案中，玻璃板1可以用作單片玻璃板。然而，在涂層沉積之前或之后，可以優(yōu)選將玻璃板1層與疊層玻璃板的其它組元層疊。還可以將其與其它板等組裝成多層窗玻璃單元。其厚度并不特別受限；其厚度典型為l-20mm。圖1的涂層從玻璃板1表面起依次包含-下方抗反射層2，其由基礎(chǔ)層5和任選的生長促進(jìn)層6構(gòu)成，-紅外反射層3，-任選的阻擋層7，-上方抗反射層4，和-任選的最外保護(hù)層9?？狗瓷鋵?、4中的至少一個(gè)包含根據(jù)本發(fā)明的化合物層。在本發(fā)明的簡單實(shí)施方案中，抗反射層2、4之一或兩者可以僅由本發(fā)明的化合物層構(gòu)成，而無任何另外的分層。然而，一個(gè)選擇是使用本發(fā)明的化合物層僅作為抗反射層2、4的分層并用另外的分層對其補(bǔ)償。如圖l所示，如果下方抗反射層2至少包含基礎(chǔ)層5和由與基礎(chǔ)層5不同的材料組成的生長促進(jìn)層6，則其是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方案。在該情形中，相對厚的基礎(chǔ)層5特別起到下方抗反射層2的主要組成部分的作用，可能與阻擋層結(jié)合起到抵抗玻璃板1的原子在熱處理期間擴(kuò)散穿過涂層。通常較薄的生長促進(jìn)層6主要作為后續(xù)沉積的紅外反射層3的生長促進(jìn)基礎(chǔ)。在某些情形中，可以在生長促進(jìn)層6和紅外反射層3之間提供另外的極薄輔助層(未顯示)，例如用以改善這兩層之間的附著、充當(dāng)除氧劑或吸收劑或進(jìn)一步改善可熱處理性。根據(jù)本發(fā)明的化合物層可以優(yōu)選地用于下方抗反射層2的基礎(chǔ)層5。至少在其硅(氧)氮化物-ZnO形式中，發(fā)現(xiàn)其特別不適合用作生長促進(jìn)層6。如果硅(氧)氮化物與Zn0混合物的化合物層用于下方抗反射層2，則其應(yīng)該優(yōu)選用作基礎(chǔ)層5并由Zn0等的生長促進(jìn)層6所補(bǔ)償以降低后續(xù)銀基紅外反射層3的薄層電阻。如上所述，本發(fā)明的化合物層能夠在已知的低輻射和/或日光控制涂層中取代Al和/或Si(氧)氮化物、鋅氧化物或Zn-Sn氧化物類型的層，僅需要稍微的厚度調(diào)節(jié)，因?yàn)檫@些層具有非常相似的折射率。由ZnO或者金屬摻雜的Zn0如Al摻雜的Zn0或錫摻雜的Zn0構(gòu)成的生長促進(jìn)層6優(yōu)選與本發(fā)明的化合物層結(jié)合使用，如果提供其作為基礎(chǔ)層5的話。如上所說明，化合物層可以按變化的比率(以Si和/或Al原子相對Zn原子的比率表示)一方面含有其Si和/或Al的(氧)氮化物成分以及另一方面含有Zn0，原子比率優(yōu)選約20:1至1:20，更優(yōu)選約10:1至1:10，且最優(yōu)選為5:1至1:5。已證明(鋁摻雜的)硅(氧)氮化物與(鋁摻雜的)Zn0的混合物是用于化合物層的最合適的材料，用以提供具有高光透射率和低太陽能透射率的高品質(zhì)可熱處理涂層。已發(fā)現(xiàn)，對于約20:1至1:20的Si和/或Al相對于Zn的原子比率，這樣化合物層的折射率(550nm下)在約2-2.2的范圍內(nèi)，這使得這些化合物層特別適合于取代中等折射率材料，如ZnO、Sn02、Zn-Sn氧化物(錫酸鋅)或硅(氧)氮化物，作為低輻射和/或日光控制涂層中的介電層。可以使用不同的方法和設(shè)備沉積該化合物層，最優(yōu)選利用常規(guī)大面積賊射設(shè)備和方法的濺射?？蓛?yōu)選以平面或圓柱形(旋轉(zhuǎn))靶來提供化合物層的成分(或在反應(yīng)濺射情形中的其它基本組分)。根據(jù)靶的特性，可以在直流、脈沖直流、高頻(射頻)或中等頻率(中頻)或任何其它合適的條件下濺射所述靶。可以在基本水平設(shè)置的靶之下或之上或沿基本豎向設(shè)置的靶移動有待涂覆的玻璃板。特別優(yōu)選使用一方面的Si和/或Al(任選被摻雜)和另一方面的金屬摻雜Zn0(例如Al摻雜的Zn0-Zn0:Al)的靶對(或甚至多于兩個(gè)靼的群體)并且在如下'減射氣氛中濺射這些靶對或靶群所述濺射氣氛除必需的惰性成分(Ar)以外僅僅或主要含有氮作為反應(yīng)濺射氣體?？梢岳弥械阮l率、直流、脈沖直流或任何其它適宜的濺射技術(shù)。氧優(yōu)選僅作為部分不可避免的殘留或吸附氣體而存在。由此能夠沉積化合物層的(氧)氮化物成分而不發(fā)生易氧化元素Al和/或Si的過度氧化。同時(shí)，利用可以在濺射氣氛中由陶瓷金屬摻雜ZnO靶濺射金屬摻雜ZnO的事實(shí)，所述'踐射氣氛中無氧或僅加入很少比例的氧。作為替代，可在含有氮?dú)庾鳛榉磻?yīng)濺射氣體的濺射氣氛中濺射含Si和/或Al與Zn0的混合乾。通常最優(yōu)選地，控制沉積過程使得具有低數(shù)值的折射率虛部的化合物層被沉積，使得在光譜的可見部分基本無吸收。作為本發(fā)明化合物層的補(bǔ)充或替代，抗反射層2可以包含如上文所述的至少一層(另外的分)介電層(未顯示)。17在大多數(shù)情形中，優(yōu)選地或必須在紅外反射層3之上提供輔助阻擋層7，特別是當(dāng)涂覆玻璃板需要為可熱處理的時(shí)候。這樣的阻擋層7用于在涂層制造期間和后續(xù)的熱處理期間通過提供擴(kuò)散阻擋功能和/或除氧劑功能(如現(xiàn)有技術(shù)所已知的)來保護(hù)紅外反射層3。阻擋層7可以包含單一層或若干分層。阻擋層總厚度通常為約0.5-15nm，如上文所述。在針對于高光透射率的情形中，優(yōu)選地，要么使用至少在熱處理后在可見光范圍至多稍微吸收的材料，要么使用極薄的光i脊吸收阻擋層7。阻擋層7的合適材料是(本領(lǐng)域技術(shù)人員所熟知的)金屬和金屬合金、其亞化學(xué)計(jì)量比的氧化物或在一些情形中甚至其(至多稍微亞化學(xué)計(jì)量比)的氧化物、其氧氮化物和其氮化物。在本發(fā)明的上下文中，用于阻擋層7的材料優(yōu)選地選自下列的一種或多種Ti、TiOx、金屬摻雜的Zn0如Al摻雜的Zn0(作為最優(yōu)選的材料)、錫摻雜的銦氧化物(IT0)、Zn-Si氧化物。本發(fā)明涂層特別優(yōu)選的阻擋層7同時(shí)包含TiOx和Al摻雜的ZnO,要么為兩個(gè)單獨(dú)的分層壓要么為重疊(漸變)層要么為混合層。優(yōu)選地，可以通過共濺射TiOx靶(任選為亞化學(xué)計(jì)量比的和/或摻雜的)和鋁摻雜的Zn0靶來制備這樣的混合或漸變阻擋層7。上方抗反射層4可以是(如同下方抗反射層2)單一層或包含若干分層。在其最簡單設(shè)計(jì)中，其可以僅由根據(jù)本發(fā)明的化合物層構(gòu)成4。如同下方抗反射層2，上方抗反射層4作為補(bǔ)充或作為替代可以包含至少一層(另外的分)介電層，例如，對于下方抗反射層2優(yōu)選的上述那些。任選的最外保護(hù)層9用于增加涂層抵抗機(jī)械或化學(xué)影響的堅(jiān)固性，并且如果其厚度在約l-10nm且優(yōu)選約2-6nm的范圍內(nèi)，則其通常對涂層的光學(xué)性質(zhì)僅具有可忽略的影響。保護(hù)層9可以由因其硬度和化學(xué)耐受性而為人所熟知的材料構(gòu)成。雖然若干金屬(合金)氧化物或(氧)氮化物適合于這樣的保護(hù)層9，然而優(yōu)選Ti、Si、Al和/或Zn-Si的氧化物或(氧)氮化物。如上所述，這樣的保護(hù)層9可以作為替代或作為補(bǔ)充地用于調(diào)節(jié)(改善)涂層與疊層玻璃板(該疊層玻璃板包含本發(fā)明的涂覆玻璃板)中間層的附著，或者用于提供與中間層相匹配的更好的折射率。這里對于其它目的，使用更厚的最外保護(hù)層9可以是適合的。作為替代，可以設(shè)置保護(hù)層作為嵌入在外部抗反射層(未顯示)的分隔層。下文示出了具有單一紅外反射層3的涂層的某些有利的層序列，然而不希望將本發(fā)明限制與此玻璃板/SiNx-ZnO(Al摻雜)的化合物層作為基礎(chǔ)層5/(金屬摻雜的)ZnO作為生長促進(jìn)層6/Ag作為紅外反射層3/包含例如TiOx和/或ZnO:Al的阻擋層7/作為上方抗反射層4的SiNx-ZnO(鋁摻雜)的化合物層/任選的保護(hù)層9，其為例如Si和/或Al的氧化物或(氧)氮化物、Ti02。圖2的低輻射和/或日光控制涂層從玻璃板1表面起依次包含-第一下方抗反射層12，其由第一基礎(chǔ)層15和第一(任選)生長促進(jìn)層16構(gòu)成，-第一紅外反射層13，-第一(任選)阻擋層17，-間隔層20，其由中央層39和第二(任選)生長促進(jìn)層26構(gòu)成，-第二紅外反射層23，-第二(任選)阻擋層27，和-第二上方抗反射層24。圖2的涂層包含相同總體結(jié)構(gòu)的兩個(gè)層序列，每個(gè)層序列包含下方抗反射層、紅外反射層13、23和上方抗反射層。第一個(gè)下方層序列的第一上方抗反射層與第二個(gè)層序列的第二下方抗反射層結(jié)合形成間隔層20，該間隔層將兩層紅外反射層13、23隔開，使得它們作為Fabry-Perot型干涉濾光體。在圖2所示的示例性實(shí)施方案中，包含基礎(chǔ)層15和生長促進(jìn)層16的第一下方抗反射層12與第二上方抗反射層24起到與圖1中的層2、5、6和4相似的功能。在第二紅外反射層23之下和中央層39之上提供第二生長促進(jìn)層26，其實(shí)際上是第一層序列的第一上方抗反射層和第二層序列的第二下方抗反射層的第二基礎(chǔ)層的結(jié)合。圖2中未顯示最外保護(hù)層，但如果需要，可提供最外保護(hù)層以增加涂層的堅(jiān)固性或其它性質(zhì)，如上文關(guān)于單一紅外反射層涂層所述。關(guān)于圖1的涂層所說明的且特別是關(guān)于本發(fā)明化合物層的使用所說明的通常也施用于圖2的涂層。優(yōu)選的層序列如下玻璃板/SiNx-ZnO(Al摻雜)的化合物層作為第一基礎(chǔ)層15/(金屬摻雜的)ZnO作為第一生長促進(jìn)層16/銀作為第一紅外反射層13/包含例如TiO,和/或ZnO:Al的第一阻擋層17/SiNx-ZnO(鋁摻雜)的化合物層作為中央層39/(金屬摻雜的)ZnO作為第二生長促進(jìn)層26/銀作為第二紅外反射層23/包含例如TiOx和/或ZnO:Al的第二阻擋層27/作為上方抗反射層24的SiNx-ZnO(鋁摻雜)的化合物層/任選的保護(hù)層，例如Si和/或Al的氧化物或(氧)氮化物、Ti02在本發(fā)明的上下文中應(yīng)理解而無需詳細(xì)解釋，單個(gè)層的厚度需要根據(jù)針對特定應(yīng)用的涂覆玻璃板的光學(xué)和其它性質(zhì)而設(shè)定。本領(lǐng)域技術(shù)人員可利用計(jì)算和模擬低輻射和/或日光控制涂層的公式和軟件來計(jì)算合適的層厚度?，F(xiàn)在通過幾個(gè)實(shí)施例說明本發(fā)明。在所有的實(shí)施例中，使用2.lmm厚的透明浮法玻璃板(1\-90%)作為待涂覆的基材。實(shí)施例1在具有若干獨(dú)立的濺射腔室的濺射裝置中向玻璃板上沉積包含下表l中所示若干層的涂層，在所述腔室中設(shè)置以下的靶或靶對(1)第一靶對，包含(a)金屬摻雜的硅靶(以SISPATM10商購自W.C.Heraeus)，其包含約10wt.y。的Al作為主要摻雜劑，和(b)陶瓷的鋁摻雜鋅氧化物靼(以ZA(T商購自W.C.Heraeus)，其包含約2wt.%的A1203;(2)鋅靶；(3)銀靶；(4)第二靶對，包含(a)陶瓷的Ti0x靶(x〈2)(TiOx靶是以CLAT0商購自W.C.Heraeus)(b)陶瓷的ZnO:Al靼(以ZA(T商購自W.C.Heraeus)，其包含約2wt.%的A1203。該濺射裝置允許在一次或若干次移動期間相對于其腔室之一中的靶或靶對以受控的速率移動玻璃板直到沉積了期望的層厚度。當(dāng)需要多于一次的移動時(shí)，在一次移動后逆轉(zhuǎn)基材傳送方向并在后續(xù)的移動期間以相反的方向移動基材。在一個(gè)層的沉積完成之后，將玻璃板傳送到另一濺射腔室以使得能夠沉積后續(xù)層。靶對是雙陰極脈沖直流濺射設(shè)備的一部分，該脈沖設(shè)備使用可商購的電源工作在約150kHz下。在開始沉積處理之前抽空腔室，然后按需要引入適宜的濺射氣體，如表2所示。實(shí)施例1的涂層具有表1所示的層序列(從玻璃表面開始)表l<table>tableseeoriginaldocumentpage21</column></row><table>關(guān)于化合物層給出的原子比是指使用Kratos制造的AmicusXPS設(shè)備進(jìn)行XPS測定的漸變層的平均組成。分析方法是半定量的，并且使用瓦格納(Wagner)相對敏感性因子處理所得結(jié)果以提供上表1和下表5給出的原子比。在表2概迷的條件下執(zhí)行單個(gè)層的沉積:表2<table>tableseeoriginaldocumentpage22</column></row><table>通過XPS來分析具有實(shí)施例1和2的層堆疊的涂覆玻璃板，且圖3(對應(yīng)于實(shí)施例1的層堆疊)和圖4(對應(yīng)于實(shí)施例2的層堆疊)示出了結(jié)果。XPS分析提供了涂層的層序列的半定量分析。圖3和圖4的對比顯示在這兩種情形中，設(shè)置在兩層銀紅外反射層之下、之上和之間的化合物層是非均勻的漸變層，鋁摻雜的硅氮化物和Al摻雜的Zn0的相對比例跨每一化合物層的厚度顯著變化。在實(shí)施例1中，變化的幅度顯著高于實(shí)施例2中的幅度，且峰和谷的數(shù)目僅是實(shí)施例2中數(shù)目的四分之一，這歸因于與實(shí)施例1中的2-4-2移動相比，實(shí)施例2中在靶對下方以更高速率的更高移動次數(shù)(8-16-8)。更高的移動次數(shù)顯然導(dǎo)致接近基本均勻狀態(tài)的化合物層的組成。對比例3制備對比涂層，其具有與實(shí)施例1和2相似的層序列，區(qū)別僅在于，所有的化合物層15，39和24被適當(dāng)厚度的純(鋁摻雜)硅氮化物層取代，所述純(鋁摻雜)硅氮化物層是在含Ar和^作為濺射氣體的濺射氣氛中通過鋁摻雜硅靶的反應(yīng)濺射制備的。在650。C和68(TC下熱處理依據(jù)實(shí)施例1和2以及對比例3的涂覆玻璃板，這導(dǎo)致下表4中所示的光透射率和薄層電阻的數(shù)值表4<table>tableseeoriginaldocumentpage23</column></row><table>可以看出，實(shí)施例1的涂層在兩個(gè)溫度下實(shí)際表現(xiàn)相同，而實(shí)施例2時(shí)改善的性質(zhì)(稍微更好的光透射率和顯著減小的薄層電阻)。因此，更均勻的化合物層可以更適宜于可熱處理的涂層，該涂層應(yīng)在580-690°C溫度范圍的上部進(jìn)行熱處理。依據(jù)對比例3的SiNx基涂層在熱處理期間顯示出較低的薄層電阻降低速率，且在熱處理之前和之后其薄層電阻都顯著高于本發(fā)明涂層的薄層電阻，這與基本相同的紅外反射層厚度下更高的標(biāo)準(zhǔn)發(fā)射率有關(guān)。680。C下的熱處理導(dǎo)致對比例3的涂覆玻璃板的光透射率的降低。實(shí)施例1和2的熱處理的涂覆玻璃板的最終光透射率顯著高于對比例3的涂覆玻璃板的最終光透射率。因此，根據(jù)本發(fā)明的熱處理的涂覆玻璃板使得能夠?qū)崿F(xiàn)相比SiNx基涂層顯著更低的薄層電阻(更高的紅外反射)和顯著更高的最終光透射率。在一些另外實(shí)驗(yàn)中，制備具有與實(shí)施例l和對比例3基本相同的層序列的涂覆玻璃板，區(qū)別如下-分別設(shè)定本發(fā)明涂層中的化合物層15、39和24的厚度以及對比例涂層中的Si比層的厚度為40、80和40mn(與實(shí)施例1中的35、70和35nm對比)，在靶下方以稍微降低的速率實(shí)現(xiàn)2-4-2移動；-用于沉積本發(fā)明另外實(shí)施例的化合物層15、39和24的Si:A1/ZnO:Al耙的功率比為10kW:4kW，由此在這些層中實(shí)現(xiàn)約1:1.2的Si:Zn原子比(由XPS分析得到)。在馬弗爐中在650°C、66(TC、670X:和680〔下熱處理涂覆玻璃板5分鐘。在熱處理之前和之后，測量涂覆玻璃板的薄層電阻、光透射率和霧度值。圖5-7示出了這些結(jié)果?？梢钥闯?，分別在熱處理之前和之后，包含本發(fā)明化合物層的涂覆玻璃板在650-680t:顯示出相比使用硅氮化物層代替化合物層的涂覆玻璃板更好的性能，薄層電阻和光透射率兩個(gè)方面均如此。在高達(dá)680t:的熱處理溫度下熱處理之后本發(fā)明涂層的霧度值保持極低。雖然SiNx基涂層的性質(zhì)在熱處理期間至多保持基本穩(wěn)定，然而本發(fā)明涂層的光透射率和薄層電阻的數(shù)值通過這樣的熱處理得到了顯著改善。實(shí)施例4-9和對比例10在另一系列實(shí)驗(yàn)中，具有與實(shí)施例1相似的層序列的涂層的化合物層中的Si:Zn原子比有所變化，此外具有以下區(qū)別-分別設(shè)定本發(fā)明涂層中的化合物層15、39和24的厚度以及對比例IO的對比涂層中的(鋁摻雜)硅氮化物層的厚度為40、80和40nm(與實(shí)施例1和對比例3中的35、70和35nm對比)，在耙下方以稍微降低的速率實(shí)現(xiàn)2-4-2移動。-用于沉積本發(fā)明另外實(shí)施例的化合物層15、39和24的Si:Al/ZnO:Al乾的功率比在15:2(實(shí)施例4)和15:8(實(shí)施例9)之間變化，由此在這些層中實(shí)現(xiàn)下表5中第二列示出的(由XPS分析得出)Si:Zn原子比(相比實(shí)施例1和2中的約2:1)。在650。C下熱處理所有的涂覆玻璃板5分鐘，此后測量光透射率和薄層電阻值。下表5列出了這些結(jié)果。在最后一列示出了光透射率TY與薄層電阻R。的比率。較高的比率顯示了涂層較好的低輻射/日光控制性能。表5<table>tableseeoriginaldocumentpage25</column></row><table>從表5可以看出，采用所有的本發(fā)明涂層(實(shí)施例4-9)，對于單片玻璃板(2.lmm厚，標(biāo)準(zhǔn)透明浮法玻璃，其1\90°/。)可以實(shí)現(xiàn)明顯高于80%的光透射率，相比于包含兩片2.lmm厚的透明浮法玻璃板(其中之一根據(jù)本發(fā)明被涂覆)和透明中間層(例如PVB)的疊層玻璃板的至少約75%的光透射率，同時(shí)薄層電阻至多約3Q/口。兩個(gè)數(shù)值均顯示了在高光透射率下的良好的低輻射/日光控制性能。采用(在涂覆之前具有約90%光透射率的2.lmm透明浮法玻璃上)包含Si:Zn原子比接近1:1的化合物層的涂層，可以顯然地實(shí)現(xiàn)具有大于約80%的極高光透射率(對于單片玻璃板)的最佳性能。對于實(shí)施例4-9獲得顯著低于0.5%的霧度值，這表明了良好的可熱處理性。包含取代本發(fā)明化合物層的硅氮化物層的涂層表現(xiàn)出相對一般的結(jié)果，見表5最后一行(對比例10)。依據(jù)實(shí)施例的涂覆玻璃板在熱處理之后僅在外觀方面顯示出稍微的改變(通常以AE、厶&*和^1)*表示，在反射和透射兩方面)。其機(jī)械和化學(xué)堅(jiān)固性優(yōu)異。由依據(jù)CIE(1931)光源C、2°觀察器的測量得到關(guān)于涂覆玻璃板光透射率TL的數(shù)值。使用NAGYSRM-12非接觸薄層電阻儀測量薄層電阻。霧度值是指在穿過涂覆玻璃板時(shí)由前向散射引起的偏離入射束方向的透射光的百分比(依照ASTMD1003-92測得)。在熱處理期間保持為低的霧度值是可熱處理性的良好指示。權(quán)利要求1.具有低輻射和/或日光控制涂層的涂覆玻璃板，所述涂層包含至少一個(gè)層序列，所述層序列包含至少下列透明層-下方抗反射層，-紅外反射層，-上方抗反射層，其特征在于，-至少一層抗反射層包含含有Si和/或Al的(氧)氮化物與ZnO的混合物的至少一層化合物層。2.依據(jù)權(quán)利要求1的涂覆玻璃板，其特征在于，該化合物層是基本均勻?qū)印?.依據(jù)權(quán)利要求1的涂覆玻璃板，其特征在于，該化合物層具有漸變組成使得Si和/或Al的(氧)氮化物相對Zn0的比率跨其厚度顯著變化。4.依據(jù)權(quán)利要求3的涂覆玻璃板，其特征在于，Si和/或A1的(氧)氮化物相對Zn0的比率跨化合物層的厚度反復(fù)增加和降低。5.依據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的涂覆玻璃板，其特征在于，化合物層中的Si和/或Al的(氧)氮化物相對ZnO的平均原子比是20:l至1:20，優(yōu)選10:1至1:IO，且最優(yōu)選5:1-1:5，以Si和/或Al原子相對Zn原子的比率表示。6.依據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的涂覆玻璃板，其特征在于，含Si和/或Al的(氧)氮化物與ZnO的混合物的化合物層具有10-60認(rèn)的厚度，更優(yōu)選15-50nm的厚度，更加優(yōu)選25-40nm的厚度。7.依據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的涂覆玻璃板，其特征在于，在紅外反射層之下提供生長促進(jìn)層作為下方抗反射層的上部。8.依據(jù)權(quán)利要求7的涂覆玻璃板，其特征在于，生長促進(jìn)層包含ZnO、金屬摻雜的ZnO、金屬摻雜的錮氧化物、鋁的(氧)氮化物與ZnO的混合物、Zn-Si氧化物中的一種或多種。9.依據(jù)權(quán)利要求8的涂覆玻璃板，其特征在于，生長促進(jìn)層包含鋁摻雜和/或錫摻雜的ZnO或錫摻雜的銦氧化物(IT0)。10.依據(jù)權(quán)利要求7-9中任一項(xiàng)的涂覆玻璃板，其特征在于，生長促進(jìn)層具有2-20nm的厚度，優(yōu)選4-18nm的厚度。11.依據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的涂覆玻璃板，其特征在于，在紅外反射層和上方抗反射層之間提供阻擋層。12.依據(jù)權(quán)利要求11的涂覆玻璃板，其特征在于，阻擋層包含Ti、TiOx、金屬摻雜的ZnO、錫摻雜的銦氧化物(ITO)、Zn-Si氧化物中的一種或多種。13.依據(jù)權(quán)利要求12的涂覆玻璃板，其特征在于，阻擋層要么包含TiOx層和后續(xù)的金屬摻雜ZnO層要么包含下面的混合層，該混合層既包含TiOx又包含金屬摻雜的ZnO。14.依據(jù)權(quán)利要求13的涂覆玻璃板，其特征在于，金屬摻雜的ZnO基本由Al摻雜的ZnO組成。15.依據(jù)權(quán)利要求11-14中任一項(xiàng)的涂覆玻璃板，其特征在于，阻擋層具有Q.5-15nm的厚度，優(yōu)選l-10nm的厚度。16.依據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的涂覆玻璃板，其特征在于，每一抗反射層包含含有Si和/或Al的(氧)氮化物與ZnO的混合物的化合物層。17.依據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的涂覆玻璃板，其特征在于，至少一層抗反射層包含至少一個(gè)含一種或多種下列物質(zhì)的層Zn-Si氧化物、Zn-Sn氧化物(例如錫酸鋅)、硅(氧)氮化物、鋁(氧)氮化物、In-Sn氧化物(ITO)、鉍氧化物、Sn-Si氧化物、Bi-Sn氧化物、鈦氧化物(Ti02)。18.依據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的涂覆玻璃板，其特征在于，紅外反射層包含銀或銀基合金。19.依據(jù)權(quán)利要求18的涂覆玻璃板，其特征在于，紅外反射層具有6-20nm的厚度，優(yōu)選6-15nm的厚度。20.依據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的涂覆玻璃板，其特征在于，提供至少兩個(gè)所述層序列，其中一個(gè)層序列中的任選的阻擋層和上方抗反射層與后續(xù)層序列中的下方抗反射層結(jié)合，以便在所述層序列中的兩層紅外反射層之間提供間隔層，所述下方抗反射層任選地包括生長促進(jìn)層。21.依據(jù)權(quán)利要求20的涂覆玻璃板，其特征在于，間隔層包括含有含有Si和/或Al的(氧)氮化物與Zn0的混合物的化合物層，其厚度為10-120nm，更優(yōu)選15-100nm，更加優(yōu)選25-90nm。22.依據(jù)權(quán)利要求20或21的涂覆玻璃板，其特征在于，每一抗反射層和(一層或多層)間隔層包含有Si和/或Al的(氧)氮化物與ZnO的混合物的化合物層。23.依據(jù)權(quán)利要求20-22中任一項(xiàng)的涂覆玻璃板，其特征在于，每一紅外反射層包含銀或銀基合金，且具有6-15nm的厚度。24.具有依據(jù)權(quán)利要求1-23中任一項(xiàng)的日光控制和/或低輻射涂層的熱處理的涂覆玻璃板，其具有小于0.5%的霧度值，優(yōu)選至多0.3%的霧度值。25.疊層玻璃板，其包含至少一個(gè)如權(quán)利要求1-24中任一項(xiàng)所述的熱處理的涂覆玻璃板、至少一層粘塑性中間層、任選的至少一個(gè)另外的玻璃或塑料板，其中熱處理的涂覆玻璃板的涂層面向中間層。26.依據(jù)權(quán)利要求1-25中任一項(xiàng)的玻璃板在汽車窗玻璃中的用途。27.依據(jù)權(quán)利要求1-25中任一項(xiàng)的玻璃板在建筑中的用途。28.制備熱處理的涂覆玻璃板的方法，其中將如權(quán)利要求1-23中任一項(xiàng)所述的涂覆玻璃板在580-69(TC下熱處理1-IO分鐘，并隨后彎曲和/或鋼化。全文摘要本發(fā)明涉及具有低輻射和/或日光控制涂層的涂覆玻璃板，所述涂層包括至少一個(gè)層序列，所述層序列包含至少下列透明層下方抗反射層；紅外反射層；上方抗反射層。至少一個(gè)抗反射層包含至少一層含Si和/或Al的(氧)氮化物與氧化鋅的混合物的化合物層。本發(fā)明的涂覆玻璃板優(yōu)選是可熱處理的，例如可鋼化和/或可彎曲。文檔編號C03C17/36GK101437771SQ200780016389公開日2009年5月20日申請日期2007年3月30日優(yōu)先權(quán)日2006年3月31日發(fā)明者D·A·伍德,G·加格里亞蒂,J·R·賽德爾,M·朗希申請人:皮爾金頓集團(tuán)有限公司;皮爾金頓意大利股份公司