專利名稱:低反射膜及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及到低反射膜及其制造方法,尤其是涉及一種形成包括可溶性物質(zhì)的多孔層用涂層后,使用溶劑對(duì)可溶性物質(zhì)進(jìn)行溶解和萃取,從而在上述多孔層用涂層上設(shè)置空隙,形成多孔層的低反射膜及其制造方法。
背景技術(shù):
當(dāng)前,顯示技術(shù)急速發(fā)展,在LCD,CRT、PDP或OLED(有機(jī)液晶顯示器)等顯示裝置上,通常為了防止對(duì)比度(Contrast)因外部光線的反射及圖像的反射而減少,在顯示裝置的最外層表面配置抗反射膜。具有這種功能的抗反射膜上涂有抗反射(AR,Anti-Reflection)或低反射(LR,Low-Reflection)物質(zhì)。
現(xiàn)有的抗反射膜由一個(gè)以上的金屬氧化物構(gòu)成的透明層層疊而成。由金屬氧化物構(gòu)成的透明層通過CVD(化學(xué)蒸鍍)法或PVD(物理蒸鍍)法等方法形成,其中普遍使用PVD法。該金屬氧化物層作為抗反射膜具有優(yōu)異的性能,但生產(chǎn)成本很高,故無法適用于大量生產(chǎn)。
后來,開發(fā)出了將含有無機(jī)微粒以及低折射化學(xué)物,比如氟類化合物的涂料涂布在膜上,從而制造抗反射膜的方法,來替代蒸鍍工序。
比如,有在支撐體上層疊高折射率層,在其上方層疊由無機(jī)微粒構(gòu)成的低折射率層,制造出抗反射膜的方法,以及使用兩種以上的MgF2或SiO2等微粒,根據(jù)厚度選定其混合比例來改變折射率,從而制造出抗反射膜的方法。
另外,還有形成使用中空微粒的低折射率層,制造出抗反射膜的方法。具體是,使用中空氧化硅的無機(jī)粉末和粘合劑制造抗反射膜的方法。
但是,上述現(xiàn)有技術(shù)中,當(dāng)使用無機(jī)微粒時(shí),涂布成本過高,而使用氟類化合物時(shí),其表面硬度低,易劃傷,使用于顯示裝置容易出現(xiàn)劃痕,目前還需克服此類問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明旨在解決上述問題,其目的在于提供一種通過引入硬涂層,在其上方形成含有可溶性物質(zhì)的多孔層用涂層,然后使用溶劑對(duì)可溶性物質(zhì)進(jìn)行溶解和萃取,以形成空隙,制造出多孔層,并根據(jù)其孔隙率調(diào)節(jié)折射率,從而制造其表面反射在2%以下,具有很好的耐劃傷性能,且制造成本低廉的低反射膜及其制造方法。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供一種低反射膜,所述低反射膜包括形成在透明基膜上面的硬涂層以及形成在上述硬涂層上部的多孔層。
另外,上述低反射膜,其特征在于,上述多孔層的孔隙率在10~50%范圍內(nèi)。
另外,上述低反射膜,其特征在于,上述多孔層的折射率小于硬涂層,其折射率在1.25~1.45范圍之內(nèi),反射率為2%以下。
另外,上述低反射膜,其特征在于,上述硬涂層的表面硬度為2H以上。
另外,上述低反射膜,其特征在于,上述多孔層的空隙大小為10~70nm。
另外,作為本發(fā)明的另一實(shí)施形式,低反射膜的制造方法,其特征在于,包括在透明基膜的至少一面上涂布含有可溶性物質(zhì)的涂料,以形成多孔層用涂層的步驟;以及使用溶劑將上述可溶性物質(zhì)的全部或一部分溶解,從而形成多孔層的步驟。
另外,低反射膜的制造方法,其特征在于,上述可溶性物質(zhì)為,在溶解于水、醇類、酮類溶劑中至少一種溶劑的有機(jī)物或無機(jī)物中選擇的至少一種。
另外,低反射膜的制造方法,其特征在于,上述溶劑為,水、醇類及酮類溶劑中的至少一種。
另外,低反射膜的制造方法,其特征在于,上述可溶性物質(zhì)的含量為,相對(duì)于100重量份的包含上述可溶性物質(zhì)的涂料,含有10~50重量份。
本發(fā)明之低反射膜及其制造方法,通過添加可溶性物質(zhì)而形成涂層,并使用溶劑將其溶解萃取,而制造多孔層,從而提供具有優(yōu)秀的表面硬度,且表面反射為2%以下的抗反射性能。另外,可根據(jù)可溶性物質(zhì)的投入量來控制折射率,因此很容易控制反射率,而且使用低廉的材料,降低了制造成本。
圖1為本發(fā)明之一實(shí)施例的低反射膜的剖視圖;圖2為本發(fā)明之另一實(shí)施例的低反射膜的制造方法流程圖。
附圖符號(hào)說明1透明基膜2硬涂層3多孔層具體實(shí)施方式
下面,參照附圖及實(shí)施例,對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說明。
圖1為本發(fā)明之一實(shí)施例的低反射膜的剖視圖。如圖所示,包括形成在透明基膜1上面的硬涂層2以及形成在上述硬涂層2上面,且其折射率小于上述硬涂層的折射率的多孔層3。
作為上述透明基膜1,只要是透明膜,都可以使用。例如,纖維素衍生物,具體是,雙乙酰纖維素、三乙酰纖維素、丙酰纖維素、丁酰纖維素、乙酰丙酰纖維素,以及聚酯、聚酰胺、聚酰亞胺、聚醚砜、聚砜、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚乙烯醇縮乙醛、聚醚酮、聚甲基丙烯酸酯、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚氨酯、環(huán)氧樹脂等熱可塑性聚合體的未延伸、一軸或二軸延伸薄膜。其中,優(yōu)選使用具有優(yōu)秀的透明度和耐熱性的經(jīng)過一軸或二軸延伸的聚酯薄膜,以及具有透明度且不具有光學(xué)上的各向異性的三乙酰纖維素薄膜。雖不限定透明基膜的厚度,通常為8~1000μm左右,優(yōu)選使用40~100μm的范圍。
使用于上述硬涂層2的材料,只要具有優(yōu)秀的耐劃傷性能即可,并無特別限定。這里所說的硬涂層指的是,在鉛筆硬度試驗(yàn)中,具有H以上硬度的涂層。優(yōu)選使用,可使硬涂層的表面硬度為2H以上,最好為4H以上的涂料。優(yōu)選使用經(jīng)紫外線或熱而固化的反應(yīng)性固化樹脂或反應(yīng)性有機(jī)硅化合物。
作為一例,可使用有機(jī)-無機(jī)復(fù)合型(反應(yīng)性氧化硅粒子)的紫外線固化樹脂,其可通過將氧化硅粒子和具有高分子不飽和基的水解性硅烷混合,并通過化學(xué)結(jié)合而制造。與反應(yīng)性氧化硅粒子結(jié)合的、具有高分子不飽和基的水解性硅烷的量約為0.05~99重量%,優(yōu)選5~85重量%。上述量如低于0.05重量%,影響經(jīng)固化的樹脂的透明度以及耐磨性,而如高于99重量%,其耐磨性的提高不明顯。水解性甲硅烷基可使用,醋酸基甲硅烷基等羧酸酯甲硅烷基、甲氧基或乙氧基甲硅烷基等烷氧基甲硅烷基、氯化甲硅烷基等鹵化甲硅烷基、氨基或羥基甲硅烷基,其中優(yōu)選使用烷氧基甲硅烷基。上述高分子性不飽和基可使用,羧基、羥基、丙烯?;惗∠┧峄?、乙烯基、丙稀基、丁間二烯基、苯乙烯基、肉桂酰基、馬來酸鹽、丙烯酰胺基等。其中優(yōu)選使用含有羥基的不飽和脂肪性羧酸和異丁烯酸鹽化合物。反應(yīng)性氧化硅粒子的平均粒徑優(yōu)選為0.0001~1μm,使用于固化的透明膜時(shí),優(yōu)選為0.001~0.01μm。氧化硅粒子的比表面積優(yōu)選為0.001~2m2/g,更優(yōu)選0.001~0.1m2/g,最優(yōu)選0.001~0.01m2/g。氧化硅粒子可使用干燥粉末,或分散在甲醇的硅溶膠等有機(jī)溶劑中的硅膠。反應(yīng)性氧化硅粒子在20~150℃溫度下,5分鐘至24小時(shí)時(shí)間范圍內(nèi)制造。
為了在紫外線下固化,上述硬涂層2中可添加光敏引發(fā)劑(Photoinitiator),可使用本領(lǐng)域公知的光敏引發(fā)劑。具體是,可單獨(dú)或混合使用0.1~10重量%的二苯甲酮、苯甲基甲基縮酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基-1-酮、4-羥基環(huán)苯酮、二甲氧基-2-苯乙酮、蒽醌、芴、三苯胺、咔唑、3-甲基苯乙酮、4-氯化苯乙酮、4,4-二甲氧基苯乙酮、4,4-二氨基苯甲酮。如低于0.1重量%,固化速度降低,而高于10重量%則不經(jīng)濟(jì)。光刺激劑可與光敏引發(fā)劑共用,可使用例如,三乙胺、二乙胺、甲基二乙醇胺、乙醇胺、4-二甲氨基-苯甲酸、異戊基-4-二甲氨基苯甲酸鹽等。除了上述物質(zhì)以外,還可添加抗氧化劑、紫外線吸收劑、光穩(wěn)定劑、熱高分子化抑制劑、勻染劑、表面活性劑、潤滑劑等。
上述多孔層3在其表面和內(nèi)部形成有空隙,對(duì)其孔隙率不作特別限定,優(yōu)選為10~50%,更優(yōu)選18~40%。當(dāng)孔隙率小于10%時(shí),有可能出現(xiàn)低折射效果以及抗表面反射效果降低的問題,而當(dāng)孔隙率大于50%時(shí),則因形成微小空隙而導(dǎo)致耐劃傷性能以及透光率降低。上述多孔層的空隙大小為10~70nm,優(yōu)選為20~50nm。
上述多孔層3的折射率最好小于上述硬涂層的折射率,優(yōu)選在1.25~1.45的范圍之內(nèi),且反射率優(yōu)選為2%以下。上述多孔層的折射率可通過上述孔隙率的調(diào)節(jié)來進(jìn)行調(diào)節(jié)。
對(duì)上述多孔層3的材質(zhì)并無特別限制,可選紫外線或熱固化的反應(yīng)性固化樹脂或反應(yīng)性有機(jī)硅化合物。另外,也可使用與上述硬涂層相同的紫外線固化樹脂等具有較佳表面強(qiáng)度的材料。
上述多孔層的形成方法可使用本領(lǐng)域常用方法,最好使用后述的制造方法來形成。
除了上述構(gòu)成之外,本發(fā)明之低反射膜,根據(jù)需要可在上述層與層之間或?qū)油庠賹盈B別的層,這些變更均屬于本發(fā)明的范圍之內(nèi)。另外,本發(fā)明之低反射膜可通過后述的低反射膜制造方法制造。
圖2為本發(fā)明之另一實(shí)施例的低反射膜制造方法的流程圖。入圖所示,本發(fā)明之低反射膜的制造方法,其特征在于,包括如下步驟在透明基膜的至少一面上,形成硬涂層的步驟(S10);上述硬涂層上部涂布含有可溶性物質(zhì)的涂料,以形成多孔層用涂層的步驟(S20);以及使用溶劑溶解全部或部分上述可溶性物質(zhì),以形成多孔層的步驟(S30)。除了上述步驟之外,可根據(jù)需要增加其它步驟,而這些變更同樣屬于本發(fā)明之范圍之內(nèi)。
首先,在透明基膜的至少一面上形成硬涂層(S10)。上述硬涂層的涂料中可包含前述的固化樹脂以及光敏引發(fā)劑,還可包括溶劑以滿足涂布所需的粘性。上述硬涂層的形成方法可使用本領(lǐng)域常用的方法,比如.口模式涂布(Die coating)、澆鑄(Casting)、照相凹板式涂布(Gravure coating)、旋轉(zhuǎn)式涂布(Spin coating)等方法進(jìn)行涂布。涂布的厚度通常為0.1~400μm,優(yōu)選1~200μm。涂布后在10~100℃的溫度下,進(jìn)行1秒~24小時(shí),優(yōu)選5秒~2小時(shí)的揮發(fā)物蒸發(fā)干燥。然后照射紫外線使其固化。紫外線照射量為大約0.01~10J/cm2,優(yōu)選0.1~2J/cm2。所形成的硬涂層的折射率最好比層疊于該硬涂層上方的多孔層的折射率高,其表面強(qiáng)度優(yōu)選2H以上,更優(yōu)選4H以上。
其次,在上述硬涂層上部涂布含有可溶性物質(zhì)的涂料,形成多孔層用涂層。涂布方式可使用與上述硬涂層相同的涂布方式,對(duì)此并不限定??墒褂谜障喟及迨酵坎迹D(zhuǎn)式涂布等方法。雖不限定涂布厚度,但通常為50~200nm,優(yōu)選80~120nm。涂布實(shí)施后,將組成物在10~100℃溫度下,進(jìn)行1秒~24小時(shí),優(yōu)選5秒~2小時(shí)的揮發(fā)物蒸發(fā)干燥。然后,照射紫外線進(jìn)行固化。紫外線的照射量約為0.01~10J/cm2,優(yōu)選0.1~2J/cm2。
上述步驟中,硬涂層和多孔層用涂層的固化可分別進(jìn)行,也可在形成各層之后一次性地進(jìn)行固化。
上述含有可溶性物質(zhì)的涂料中,可包含上述粘合劑和光敏引發(fā)劑。具體是,用于形成上述多孔層的多孔層用涂料中包含粘合劑,其只要是不溶解于可溶性物質(zhì)溶解用的溶劑的,均可使用,上述多孔層材質(zhì)優(yōu)選使用經(jīng)紫外線或熱固化的反應(yīng)性固化樹脂或反應(yīng)性有機(jī)硅化合物。另外,可使用相同于上述硬涂層的具有優(yōu)秀表面強(qiáng)度的紫外線固化樹脂。
上述可溶性物質(zhì)用于形成多孔層的空隙,只要可容決于水、醇類(甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇等)、酮類(甲基乙基酮、甲基丁基酮、甲基異丁基酮、二乙酮、二丙基酮等)溶劑的有機(jī)物或無機(jī)物,即可選擇使用一種以上。比如,可使用如下的單體及其聚合體物質(zhì)。單體有,苯乙烯、p-甲基苯乙烯、m-甲基苯乙烯、p-乙基苯乙烯、m-乙基苯乙烯、p-氯苯乙烯、m-氯苯乙烯、p-氯甲基苯乙烯、m-氯甲基苯乙烯、p-t-丁氧基苯乙烯、m-t-丁氧基苯乙烯、氟代苯乙烯、α-甲基苯乙烯、甲苯乙烯、氯苯乙烯的芳香族乙烯類化合物;甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸甲酯、乙基丙烯酸酯、乙基丙烯酸甲酯、丁基丙烯酸酯、丁基丙烯酸甲酯、辛基丙烯酸酯、辛基丙烯酸甲酯、硬脂酰丙烯酸酯、硬脂酰丙烯酸甲酯、苯甲基丙烯酸酯、苯甲基丙烯酸甲酯、縮水甘油基丙烯酸酯、縮水甘油基丙烯酸甲酯、氟代乙基丙烯酸酯、氟代乙基丙烯酸甲酯、六氟代丁基丙烯酸甲酯、六氟代異丙基丙烯酸甲酯、全氟烴基丙烯酸酯、八氟代苯基丙烯酸甲酯等丙烯基類以及氟代丙烯基類化合物;(甲基)丙烯酸、馬來酸、富馬酸、巴豆酸、衣康酸、乙烯基磺酸等不飽和羧酸類化合物;乙烯基磺酸、芳基磺酸、p-苯乙烯磺酸等不飽和磺酸類化合物;丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸辛酯、丙烯酸甲氧基乙酯、丙烯酸苯酯、丙烯酸環(huán)己酯等丙烯酸酯類化合物;(甲)丙烯腈、甲基丙烯腈等氰化乙烯類化合物;2-(甲)丙烯酰胺-甲基丙基磺酸、(甲)丙烯酰胺、N-異丙基(甲)丙烯酰胺、N-乙烯乙酰胺等胺類化合物。另外,無機(jī)化合物有,硝酸氧鋯水合物([ZrO(NO3)2]·H2O)、氧氯化鋯水合物(ZrOCl2·H2O)、硝酸鋰(LiNO3)、草酸鋰(CH3COOLi)、氧化亞錫水合物(SnCl4·nH2O)、硝酸銦水合物(In(NO3)3·nH2O)、氯化銦水合物(InCl2·nH2O)、12-磷鎢酸(H3PW12O40)、12-硅鎢酸(H4SiW12O40)等。上述物質(zhì)可單獨(dú)或組合使用。
添加到上述硬涂層涂料中的可溶性物質(zhì),其相對(duì)于涂料液100重量份的含量為,10~50重量份,優(yōu)選18~40重量份。當(dāng)添加的可溶性物質(zhì)的含量為10重量份以下時(shí),不能充分形成毫微(nano)級(jí)的多孔層,導(dǎo)致低折射效果及抗表面反射效果降低的現(xiàn)象。而其含量大于50重量份時(shí),有可能導(dǎo)致可溶性物質(zhì)殘留在涂層表面以及因形成微小空隙而降低耐劃傷性和透光率的問題。上述多孔層的折射率最好小于上述硬涂層的折射率,雖無限定,但優(yōu)選1.25~1.45范圍,反射率為2%以下。上述多孔層的折射率可通過對(duì)上述孔隙率的調(diào)節(jié)來進(jìn)行調(diào)節(jié)。
其次,使用溶劑來溶解全部或部分上述可溶性物質(zhì),在上述多孔層用涂層上形成空隙,從而形成多孔層(S30)。將制造出的上述膜,雖無限定,在25~80℃溶劑溫度下、浸泡1~60分鐘,優(yōu)選5~15分鐘,以溶解萃取可溶性物質(zhì),然后在60~150℃條件下,干燥1~10分鐘,從而制造出本發(fā)明之一實(shí)施例的低反射膜。
上述溶劑可在水、醇類(甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇等)、酮類(甲基乙基酮、甲基丁基酮、甲基異丁基酮、二乙酮、二丙基酮等)等溶劑所組成的群中選擇一種以上。
以下,通過實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說明。本發(fā)明的實(shí)施例只是具體的示例,其并不限定本發(fā)明的保護(hù)范圍。
<實(shí)施例1>
將硬涂料(產(chǎn)品名DN-0080,制造企業(yè)DSM)涂布在三乙酰纖維素膜(以下,簡稱TAC膜)上,在70℃溫度下熱干燥1分鐘,然后利用高壓水銀燈照射700mJ/cm2紫外線并使其固化。作為多孔層用涂料,將聚丙烯酸以20重量%,與硬涂料(產(chǎn)品名DN-0080,制造企業(yè)DSM)混合而成。將經(jīng)過混合的多孔層用涂料以110nm厚度涂布在形成有硬涂層的TAC膜上,并在70℃溫度下熱干燥1分鐘,然后利用高壓水銀燈照射700mJ/cm2紫外線使其固化。將制造出的膜放置10分鐘于50℃溫度的作為溶劑的水中,除去聚丙烯酸后,在80℃干燥5分鐘,形成多孔層,從而制造出低反射膜。所形成的空隙大小為約50nm。
<實(shí)施例2>
除了與硬涂料(產(chǎn)品名DN-0080,制造企業(yè)DSM)混合時(shí)的多孔層用涂料的聚丙烯酸含量變更為25重量%之外,其余條件與上述實(shí)施例1相同。
<實(shí)施例3>
除了與硬涂料(產(chǎn)品名DN-0080,制造企業(yè)DSM)混合時(shí)的多孔層用涂料的聚丙烯酸含量變更為30重量%之外,其余條件與上述實(shí)施例1相同。
<實(shí)施例4>
除了與硬涂料(產(chǎn)品名DN-0080,制造企業(yè)DSM)混合時(shí)的多孔層用涂料的聚丙烯酸含量變更為35重量%之外,其余條件與上述實(shí)施例1相同。
<實(shí)施例5>
將硬涂料(產(chǎn)品名DN-0080,制造企業(yè)DSM)涂布在三乙酰纖維素膜(以下,簡稱TAC膜)上,在70℃溫度下熱干燥1分鐘,然后進(jìn)行紫外線固化。作為多孔層用涂料,將20重量%的12-磷鎢酸,與硬涂料(產(chǎn)品名DN-0080,制造企業(yè)DSM)混合而成。將經(jīng)過混合的多孔層用涂料以110nm厚度涂布在形成有硬涂層的TAC膜上,并在70℃溫度下熱干燥1分鐘,然后進(jìn)行紫外線固化。將制造出的膜在50℃溫度的作為溶劑的乙醇中放置10分鐘,除去12-磷鎢酸后,在80℃干燥5分鐘,形成多孔層,從而制造出低反射膜。所形成的空隙大小為約40nm。
<比較例1>
將硬涂料(產(chǎn)品名DN-0080,制造企業(yè)DSM)涂布在TAC膜上,在70℃溫度下熱干燥1分鐘,然后進(jìn)行紫外線固化,未形成多孔層。
<比較例2>
除了作為多孔層涂料,將7重量%含量的聚丙烯酸與硬涂料(產(chǎn)品名DN-0080,制造企業(yè)DSM)混合之外,其余與上述實(shí)施例1相同<實(shí)驗(yàn)例>
對(duì)上述實(shí)施例以及比較例中制造的低反射膜,在如下條件下測試其特性,其結(jié)果如表1所示。
(1)折射率以及孔隙率使用Ellipso分光光度計(jì)(Elli-SE韓國Ellipso Technology公司),在入射角60度,,photon energy 1.20~4.80eV區(qū)域測定了反射光,以測定上述實(shí)施例以及比較例中制造的多孔層的折射率以及孔隙率。
(2)透光率以及Haze使用分光光度計(jì)(HZ-1,日本SUGA公司),測定上述實(shí)施例以及比較例中制造的低反射膜的總透射比(Total Transmittance)以及Haze。
總透射比(%)595%以上493%以上
390%以上285%以上180%以上(3)反射率使用UV分光光度計(jì)(UV-Spectrophotometer,日本SHIMADZU公司)對(duì)上述實(shí)施例以及比較例中所制造的低反射膜的反射率進(jìn)行了測定。所測定的波長區(qū)域?yàn)?80~780nm的可見光區(qū)域。在獲得的反射率光譜中,得出了低反射膜的最低反射率(%)。
(4)鉛筆硬度使用鉛筆硬度試驗(yàn)儀(PHT,韓國SukBo Science公司)施加500g荷重的條件下,測定了上述實(shí)施例以及比較例中所制造的低反射膜的鉛筆硬度(pencil hardness)。
所使用的鉛筆為三菱公司產(chǎn)品,對(duì)每一鉛筆硬度進(jìn)行5次試驗(yàn)。
刮痕為2個(gè)以上時(shí)除外。
刮痕0個(gè)時(shí)OK刮痕1個(gè)時(shí)OK刮痕2個(gè)以上時(shí)NG(5)耐劃傷性使用劃傷(Steel wool鋼絲絨)測試儀(WT-LCM100,韓國PROTECH公司),在1Kg/(2cm×2cm)條件下,進(jìn)行10次往復(fù)運(yùn)動(dòng),測定上述實(shí)施例以及比較例中所制造的低反射膜的耐劃傷性。
鋼絲絨使用#0000。
A刮痕(Scratche)數(shù)為0個(gè)A’刮痕數(shù)為1~10個(gè)B刮痕數(shù)為11~20個(gè)C刮痕數(shù)為21~30個(gè)D刮痕數(shù)為31個(gè)以上(6)粘接性在上述實(shí)施例以及比較例中所制造的低反射膜表面,以1公分間隔沿橫向和豎向分別劃11條直線,畫出100個(gè)正方形,然后使用膠帶(CT-24,日本NICHIBAN)進(jìn)行3次剝離試驗(yàn)。100個(gè)正方形的測定進(jìn)行3次求出其平均值。
粘接性計(jì)算如下粘接性=n/100n全體正方形中未被剝離的正方形個(gè)數(shù)100全體正方形個(gè)數(shù)因此,一個(gè)正方形都未剝離時(shí),計(jì)為100/100。
(7)空隙的尺寸使用FE-SEM(S4300,日本日立公司)測定了空隙尺寸。
表1
權(quán)利要求
1.一種低反射膜,其特征在于,包括形成在透明基膜上部的硬涂層,以及形成在上述硬涂層上部的多孔層。
2.如權(quán)利要求1所述的低反射膜,其特征在于上述多孔層的孔隙率為10~50%范圍之內(nèi)。
3.如權(quán)利要求1所述的低反射膜,其特征在于上述多孔層的折射率小于上述硬涂層的折射率,且其折射率為1.25~1.45范圍之內(nèi),反射率為2%以下。
4.如權(quán)利要求1所述的低反射膜,其特征在于上述硬涂層的表面硬度為2H以上。
5.如權(quán)利要求1所述的低反射膜,其特征在于上述多孔層的空隙的尺寸為10~70nm范圍之內(nèi)。
6.一種低反射膜的制造方法,其特征在于,包括如下步驟在透明基膜的至少一面上形成涂層的步驟;在上述硬涂層上部涂布含有可溶性物質(zhì)的涂料,從而形成多孔層用涂層的步驟;使用溶劑將全部或一部分上述可溶性物質(zhì)溶解,從而形成多孔層的步驟。
7.如權(quán)利要求6所述低反射膜的制造方法,其特征在于上述可溶性物質(zhì)為,在溶解于水、醇類、酮類溶劑中至少一種溶劑的有機(jī)物或無機(jī)物中選擇的至少一種。
8.如權(quán)利要求7所述低反射膜的制造方法,其特征在于根據(jù)上述可溶性物質(zhì)的含量變化,調(diào)節(jié)光學(xué)特性。
9.如權(quán)利要求6所述低反射膜的制造方法,其特征在于上述可溶性物質(zhì)的含量為,相對(duì)于100重量份的包含上述可溶性物質(zhì)的涂料,含有10~50重量份。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種低反射膜及其制造方法,即通過形成含有可溶性物質(zhì)的多孔層用涂層,然后使用溶劑對(duì)可溶性物質(zhì)進(jìn)行溶解和萃取,以形成空隙,制造出多孔層。本發(fā)明可根據(jù)其孔隙率調(diào)節(jié)折射率,從而制造其表面反射在2%以下,具有很好的耐劃傷性能,且制造成本低廉。
文檔編號(hào)C03C17/34GK101016197SQ20071000756
公開日2007年8月15日 申請(qǐng)日期2007年2月8日 優(yōu)先權(quán)日2006年2月8日
發(fā)明者梁敏洙, 琴同基, 李佳妍, 林巨山 申請(qǐng)人:東友精細(xì)化工有限公司