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一種用于塑造瓷磚的方法

文檔序號:1983992閱讀:630來源:國知局
專利名稱:一種用于塑造瓷磚的方法
技術(shù)領(lǐng)域
陶瓷工業(yè)已經(jīng)發(fā)展到很高的技術(shù)水平,以致在實(shí)際中任何的裝飾都可以被做的很完美,并且在實(shí)際中所有的天然石頭都可以非常準(zhǔn)確的被仿制。
背景技術(shù)
上述的是事實(shí),然而,僅有平瓷磚,因?yàn)榘l(fā)現(xiàn)(在表面覆蓋材料中)不是平面的特殊瓷磚,比如L形、U形和彎曲形的瓷磚是不可能的,這些平瓷磚總是具有相同的樣式、終飾(finishing)和色調(diào)。因?yàn)樽鳛榇纱u,它們被鋪設(shè)在樓梯、護(hù)墻板(skirting board)、欄桿、拐角和其它反映建筑風(fēng)格的部分。
現(xiàn)有技術(shù)具有滿足上述需求的嘗試,但是所有的嘗試顯然是臨時(shí)的和不夠的;用于拐角的通常做法是將瓷磚切成兩半并用水泥漿將它們重新連接起來。
本發(fā)明的主要目的在于提供一種特殊的單片非平面產(chǎn)品(L形、U形和彎曲形等等)低成本的生產(chǎn),該產(chǎn)品同由普通生產(chǎn)線生產(chǎn)的瓷磚具有相同的組分、終飾和色調(diào),從而在鋪設(shè)時(shí)具有完美的匹配。
本發(fā)明具有創(chuàng)造性的思想非常簡單、新穎并且是真正革命性的,并且其是將普通生產(chǎn)的非常相同的且已經(jīng)表面處理過的瓷磚精加工成成形瓷磚片。
由于以毛坯(blank)和表面裝飾存在材料在高溫下能夠塑性變形,所以本發(fā)明的方法包括加熱整個瓷磚,或者可能的情況下僅加熱其中的一部分以對其重新塑造,直到獲得必須的柔軟度的程度,以便變軟的瓷磚能夠被精加工成所需的和預(yù)設(shè)的形狀,在隨后的逐漸冷卻過程中其保持這一形狀,所述冷卻過程將瓷磚返回到堅(jiān)固的狀態(tài)。
對于簡單的形狀,僅在需要被軟化的瓷磚區(qū)域進(jìn)行局部加熱,可能地使用噴燈或者吹管(blow-pipe)。從而瓷磚可以變彎并在充分冷卻之前處于彎曲狀態(tài)。使用相對簡單類型的機(jī)械系統(tǒng)進(jìn)行彎曲操作,因?yàn)橄鄬唵蔚臋C(jī)械系統(tǒng)在瓷磚處于常溫時(shí)不難夾緊在瓷磚的相對端而不會毀壞它們。
本發(fā)明還提供了這一操作的可選擇方法,在這一方法中在爐窯內(nèi)對瓷磚進(jìn)行加熱,使它們軟化到剛好能夠?qū)ΩG內(nèi)的瓷磚進(jìn)行成形以致在下面的耐火墊板(refractory support)上進(jìn)行塑形。在瓷磚的表面精加工時(shí)不會發(fā)生變化。
耐火墊板可以為固定形狀或在瓷磚軟化時(shí)按照瓷磚的形狀進(jìn)行變化。所述瓷磚在重力的作用下靠在所述耐火墊板上,或者使用加壓機(jī)構(gòu)或者彎曲機(jī)構(gòu)或者任何最合適的機(jī)構(gòu)使其固定在耐火墊板上。
然而,被詳細(xì)執(zhí)行的本發(fā)明的方法的最重要的實(shí)用優(yōu)點(diǎn)存在于這樣的事實(shí),任何時(shí)候都能生成特殊的瓷磚片,所述瓷磚片能夠與任何一批瓷磚結(jié)合。這是因?yàn)樵俪尚蔚拇纱u實(shí)際上從批量生產(chǎn)的瓷磚中取出的。
然而,成形瓷磚片的塑形可以在窯內(nèi)的整批瓷磚加熱期間進(jìn)行。所要特殊定形的瓷磚可以擱在成形墊板上,或者依靠重力或者使用其它方法,并且在陶瓷材料和面層材料的軟化期間,它們?nèi)缓髲澢退苄缘剿璧男螤睢?br> 為了有助于瓷磚片的彎曲和變形以及為了獲得最小的表面變化,比如拉伸或壓縮,以及為了減小燒窯時(shí)間和全部加工時(shí)間,在要塑性的瓷磚背面制有直槽。具有部分瓷磚在加熱過程期間進(jìn)行軟化,產(chǎn)生兩相鄰的部分和前述的共面,出現(xiàn)耐火墊板的形態(tài)。在瓷磚出料倉(stockhouse)時(shí)通過磨銑形成的凹槽可以改為在承壓期間被形成,或者在承壓之后的某個時(shí)間通過切割形成。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明方法的這些特征和其它特征將結(jié)合下面的包含43幅圖的11頁附圖進(jìn)行非專有性的描述,其中

圖1和圖2涉及普通的瓷磚,這里表示的是彎曲前和彎曲后的瓷磚,用于產(chǎn)生一個約270°的角度或者高于180°的任何角度;圖3、圖4和圖5涉及彎曲的第一示例,其目的在于在瓷磚的頂面上形成一約270°的角度(或在任何情況下高于180°的任何角度),其中一個在彎曲之后要進(jìn)行充填形成在瓷磚的背面的凹槽;圖6、圖7和圖8涉及彎曲的第二示例,其目的在于在瓷磚的頂面上形成一約270°的角度(或在任何情況下高于180°的任何角度),其中一個在彎曲之后要進(jìn)行充填形成在瓷磚的背面的凹槽;圖9、圖10和圖11涉及彎曲的第三示例,其目的在于在瓷磚的頂面上形成一約270°的角度(或在任何情況下高于180°的任何角度),其中一個在彎曲之后要進(jìn)行充填形成在瓷磚的背面的凹槽;圖12、圖13和圖14涉及彎曲的第三示例,其目的在于在瓷磚的頂面上形成一約90°的角度(或在任何情況下小于90°的任何角度),其中一個在彎曲之后要進(jìn)行充填形成在瓷磚的背面的凹槽;圖15和圖16示出了在普通瓷磚上形成一270°彎曲的順序;圖17、圖18、圖19和圖20示出了在普通瓷磚上形成一U形彎曲的順序;圖21、圖22、圖23和圖24示出了在普通瓷磚上形成一曲線形彎曲的順序;圖25和圖26示出了在其背面彎曲出現(xiàn)的位置具有一凹槽的普通瓷磚上形成一270°彎曲的順序;圖27、28、29和圖30示出了在其背面彎曲出現(xiàn)的兩個位置中的每一位置處具有一直槽的普通瓷磚上形成一U形彎曲的順序;圖31、32、33和圖34示出了在其背面彎曲出現(xiàn)的位置處具有一組直槽的普通瓷磚上形成一U形彎曲的操作順序;圖35、36和圖37示出了在其背面彎曲出現(xiàn)的位置具有一直槽的瓷磚上形成一90°彎曲的順序;圖38、39、40、41、42和圖43示出了在靠在可調(diào)耐火墊板上的普通瓷磚上形成一270°彎曲的順序,在所述墊板上,彎曲是漸進(jìn)形成的。
如上所述,該方法的主要目的是提供特殊的非平面的瓷磚片,所述瓷磚片具有同樣的色調(diào)并與將在其后被鋪設(shè)的平瓷磚片具有相同的終飾。
上表面,比如當(dāng)瓷磚(附圖中由字母表中的字母表示)被鋪設(shè)時(shí)所看到的表面全部由標(biāo)記1標(biāo)識,而標(biāo)記2表示在瓷磚底面形成的凹槽,并且標(biāo)記3表示一旦彎曲操作已經(jīng)完成充填凹槽的樹脂。在附圖所包含的和隨后的描述中的所有示例中,根據(jù)瓷磚是否被放入爐窯或者是否使用噴燈或其它同等的裝置僅在交叉區(qū)進(jìn)行加熱,對彎曲和塑造瓷磚所必須得加熱可以涉及整塊瓷磚或其上的一部分。
根據(jù)附圖(圖版3)的第一個實(shí)施例,一270°的彎曲,比如圖1和圖2所示的彎曲,可以使用整體加熱或者下表面靠在墊板4上的瓷磚A的局部加熱而獲得,所述墊板4由耐火材料制成,并具有兩個互相垂直的表面4′和4″,優(yōu)選通過弧連接并以最合適的角度相對于垂面傾斜,以便瓷磚A在表面4′(如圖15)上的總量足以保證在(當(dāng)瓷磚已經(jīng)變軟時(shí))依靠重力進(jìn)行彎曲時(shí)瓷磚A在墊板上保持穩(wěn)定。在彎曲操作結(jié)束時(shí),瓷磚應(yīng)該完好的靠在墊板的另一表面4″上(如圖16)。
一由耐火材料制成的標(biāo)尺5沿著墊板4的表面4′設(shè)置,以便彎曲距瓷磚邊緣的距離可以被準(zhǔn)確的調(diào)整,以及保證瓷磚在墊板4上合適的直角彎曲,以便彎曲平行于邊緣。
為了在任何加熱任何過程中獲得一組彼此都相同的特殊成形瓷磚片,所有以上描述的都是必要的,如果對于其保持穩(wěn)定的形狀是必要的,瓷磚允許在墊板上進(jìn)行冷卻。
在圖版4所示的示例中,當(dāng)將瓷磚底面靠在耐火墊板7上時(shí),兩個270°的彎曲(為了獲得圖20中的U形瓷磚)通過瓷磚的整體或局部加熱而獲得,所述墊板7具有矩形的形狀并優(yōu)選在其最上緣結(jié)合在一起。
一根由耐火材料制成并優(yōu)選具有梯形截面的桿6固結(jié)在瓷磚A的下面,即在瓷磚A的底面(如圖17),并被插在設(shè)置在墊板7頂面上的相應(yīng)底座上(如圖18)。其暫時(shí)固定瓷磚以便在兩個彎曲被形成時(shí)將其緊緊固定住。
在它們靠在墊板7的垂直壁上(如圖19)和瓷磚在墊板7上冷卻之前,一旦瓷磚A的兩翼已經(jīng)向下彎曲,如果必要,桿6可以被移除(如圖20)。
在圖版5中所示的示例中,獲得圖24中的形狀所必須的普通瓷磚A的彎曲通過瓷磚A的整體或局部加熱來獲得,所述瓷磚A地底面靠在耐火墊板9上,所述墊板9的形狀根據(jù)最終瓷磚所需的形狀而成形。
由耐火材料制成并優(yōu)選截面為梯形的桿8被固結(jié)在下方,也就是瓷磚的底面(如圖21),并被插入設(shè)置在墊板9上表面上的相應(yīng)底座上(如圖22)。其暫時(shí)固定瓷磚以便在兩個彎曲被形成時(shí)將其緊緊固定住。
在它們靠在墊板的垂直壁上(如圖23)和瓷磚在墊板9上冷卻之前,一旦瓷磚A的兩翼已經(jīng)向下彎曲,如果必要,桿8可以被移除。
在圖版6所示的實(shí)施例中,一270°的彎曲,如圖板1中的圖3、4和圖5所示,可通過在瓷磚底面的凹槽2形成之后對設(shè)置在耐火墊板10上的瓷磚B進(jìn)行整體或局部加熱而獲得,所述墊板10具有兩個表面10′和10″,所述兩個表面相互正交和相對于垂直面以最合適的角度進(jìn)行傾斜,以便使墊板上的瓷磚保持穩(wěn)定并使瓷磚的伸出部分由于重力的作用在軟化時(shí)下傾并完好的緊靠在墊板的另一表面10″上(如圖26)。
一由耐火材料制成的標(biāo)尺11沿著墊板10的表面10′設(shè)置,以便瓷磚上的凹槽2準(zhǔn)確的處于彎曲出現(xiàn)的位置,也就是第一表面10′和第二表面10″交匯的位置。
在彎曲和在耐火墊板上冷卻之后,所述凹槽由適于恢復(fù)原始瓷磚機(jī)械阻力的樹脂充填(參見圖3)。
在圖版7中的示例中,為了產(chǎn)生圖30中的U形,在與圖3、圖4和圖5所示的凹槽相似的兩個凹槽2形成之后,通過對瓷磚進(jìn)行整體或局部加熱并使瓷磚底面靠在耐火墊板12上形成瓷磚F的直角雙彎曲,所述墊板具有矩形截面和兩個從墊板的上表面凸出的兩個凸出部12′和1 2″,所述凸出部12′和12″伸入瓷磚上的凹槽2。因此,在彎曲過程期間,即當(dāng)瓷磚的兩翼開始靠在耐火墊板12的垂直壁上時(shí),所述瓷磚受到約束。
在U形彎曲形成之后和瓷磚F在耐火墊板上冷卻之后,如圖3所示,所述凹槽由適于恢復(fù)原始瓷磚機(jī)械阻力的樹脂充填(參見圖3)。
在圖版8所示的示例中,為了獲得圖34所示形狀,瓷磚G的彎曲(如圖31)可以通過對瓷磚進(jìn)行整體或局部加熱,并在瓷磚所要彎曲的區(qū)域形成多個直槽2之后使瓷磚的底面靠在耐火墊板13上而形成,墊板的形狀由所要獲得的形狀決定。
同樣由耐火材料制成的桿14從墊板13的頂部凸出,并插入到瓷磚G的一個凹槽2中(如果瓷磚的彎曲是對稱的,其將被插入到中心凹槽內(nèi))。因此,所述瓷磚被暫時(shí)約束,以便其將在瓷磚軟化和彎曲過程期間保持穩(wěn)定。
在彎曲形成之后并在墊板13上冷卻之后,凹槽由適于恢復(fù)原始瓷磚機(jī)械阻力的樹脂充填。在圖版9所示的示例中,可以獲得與圖版2中的圖12、13和圖14所示形狀類似的彎曲,即在對瓷磚進(jìn)行整體或局部加熱之后,在瓷磚的頂面形成一個約90或小于90的角度。在直槽形成和兩個平行于瓷磚H每一末端的凹槽的耐火桿15形成之后,瓷磚H的底面被放置在墊板上。兩個水平軸的滾筒16從兩個雙耐火墊板17和18的頂部凸出,根據(jù)在瓷磚H上所需彎曲角度,所述兩個墊板的上表面17′和18′在向下的方向上會聚傾斜。
確保獲得很好的彎曲不僅僅需要將瓷磚的兩翼靠在雙耐火墊板的表面17′和18′上,還需要桿15的存在,其于滾筒接觸操作以限制瓷磚H下降到墊板以下的程度。
在去除桿16(如圖37)和如圖14所示的充填凹槽之前,多個瓷磚H必須放在墊板上進(jìn)行冷卻。
在圖板10和圖版11的示例中,對墊板上的瓷磚進(jìn)行整體或局部加熱,使一普通瓷磚L彎曲,以在瓷磚的頂面獲得一個約270的角度,為了使彎曲的過程是漸進(jìn)的,由耐火材料構(gòu)成的墊板是可調(diào)的。所述墊板由兩部分,20和21,構(gòu)成,以便它們能夠通過樞軸件22鉸接在一起,所述樞軸件可以具有90的角度變化。
當(dāng)瓷磚L第一次靠在墊板上時(shí),墊板的兩個部分20和21共面(如圖39,40),當(dāng)彎曲操作完成時(shí),兩部分相互垂直(如圖41)。
為了確保瓷磚停留在墊板上合適的位置并避免毀壞瓷磚的圓緣,至少一根由耐火材料構(gòu)成的桿19被固定到每一半的瓷磚L的底面上,所述桿19在兩個半墊板上處于專門的殼體內(nèi)。
由于在這一示例中所述瓷磚是普通的并且在瓷磚上沒有幫助直角形成的凹槽,瓷磚軟化所需的程度很高,以致建議對每一半個瓷磚使用多個桿19,以防止瓷磚在不必要的方向上變形。桿19的截面為等腰直角三角形,并且經(jīng)過斜邊的桿的表面與在之后固定到瓷磚的表面為同一表面;因此,在墊板20-21與其上的瓷磚L彎曲之后(如圖41),每根桿19的其它兩個面,即穿過直角邊的面被設(shè)置成一個面為水平的而另一個面為垂直的,也就是說處于瓷磚能夠通過簡單的提起就能被取走的位置。
上述的設(shè)置是必須的,因?yàn)闃休S件22和墊板20-21上的樞軸套不能通過一平行于墊板上的鉸接軸線和瓷磚的轉(zhuǎn)折線的運(yùn)動將瓷磚-桿組件移走。
在墊板上冷卻之后,彎曲的瓷磚可以從墊板上移走并同耐火桿19脫離。
權(quán)利要求
1.一種用于塑造瓷磚的方法,所述瓷磚適于實(shí)現(xiàn)非平面的單片瓷磚,其具有同普通平瓷磚相同美觀的外觀,并與平瓷磚鋪設(shè)在一起,所述方法包括如下步驟將至少一部分瓷磚加熱到使其至少一部分軟化的溫度;通過彎曲至少一部分瓷磚使其變形,直到獲得預(yù)定的形狀;使該至少一部分瓷磚冷卻。
2.如權(quán)利要求1所述的方法,其中對于瓷磚最簡單的目標(biāo)形狀,至少一部分瓷磚的加熱是使用噴燈或者類似的裝置進(jìn)行的,其能使軟化被限定到至少一部分瓷磚上,并使用任何適于彎曲的系統(tǒng)來獲得彎曲,并使瓷磚保持在預(yù)定的位置,直到冷卻被完成和至少一部分瓷磚固化。
3.如權(quán)利要求1所述的方法,其中需要塑造的瓷磚,無論是否已經(jīng)加熱還是仍在加熱,都要被放入到爐窯中,所述瓷磚被放置在特定形狀的墊板上,所述墊板優(yōu)選由耐火材料制成,在墊板上,瓷磚獲得與整體加熱產(chǎn)生的軟化期間形成的形狀一樣的所需的形狀,所述瓷磚至少在重力的作用下靠在特定形狀的墊板上。
4.如權(quán)利要求1所述的方法,其中直槽被設(shè)置在瓷磚的底面上,并處于與瓷磚上產(chǎn)生彎曲的位置相應(yīng)的位置,其使瓷磚的彎曲更加容易和更加精確,并且減少了獲得足以使整體或局部的瓷磚發(fā)生彎曲的溫度所需的時(shí)間,并且還減少了加熱之后進(jìn)行冷卻所需的時(shí)間。
5.如權(quán)利要求4所述的方法,其中通過磨銑受熱過的瓷磚形成凹槽,在未受熱過的瓷磚上的凹槽是在沖壓陶瓷混合物期間受沖壓而形成的;或者在沖壓之后通過切割形成。
6.如權(quán)利要求4所述的方法,其中瓷磚底面上的凹槽在受熱瓷磚彎曲過程之后用樹脂充填,所述樹脂能夠恢復(fù)瓷磚的機(jī)械阻力,這一恢復(fù)的機(jī)械阻力同未彎曲瓷磚的機(jī)械阻力相近。
7.如權(quán)利要求1所述的方法,其中瓷磚的彎曲(如圖版3)是通過對靠在由耐火材料制成的墊板4上的瓷磚進(jìn)行整體或局部加熱而獲得的,所述墊板具有兩個表面,所述兩個表面相互正交并相對于垂直面以最合適的角度進(jìn)行傾斜,以使瓷磚靠在兩個表面的一個表面上,一標(biāo)尺用于在瓷磚彎曲期間使瓷磚A保持穩(wěn)定,以便瓷磚的伸出部分能夠在軟化時(shí)由于重力作用而下降并完好的緊靠在兩個表面的另一表面上。
8.如權(quán)利要求1所述的方法,為了獲得最終的U形,一瓷磚的雙彎曲(圖版4)通過對靠在由耐火材料制成的墊板上的瓷磚進(jìn)行整體或局部加熱而獲得,瓷磚的兩個相對端部從所述墊板上伸出,這兩個端部在瓷磚軟化期間下傾從而形成U形瓷磚的兩翼。
9.如權(quán)利要求8所述的方法,其中一根由耐火材料制成并優(yōu)選具有梯形截面的桿固結(jié)在瓷磚A的底面,對著瓷磚頂面可以看到這根桿,所述桿被插在設(shè)置在墊板頂面上的相應(yīng)底座內(nèi),以便暫時(shí)約束瓷磚并確保其上的兩個彎曲根據(jù)預(yù)定的位置和方向能夠完美進(jìn)行。
10.如權(quán)利要求1所述的方法,其中,為了使瓷磚彎曲(圖版5),所述瓷磚靠在由耐火材料制成的墊板上,并被整體或局部加熱,并在軟化期間下傾直到其緊靠在墊板上;一根桿被暫時(shí)固結(jié)在瓷磚的底面并被設(shè)置在墊板上的殼體內(nèi),以便確保在整個彎曲過程期間墊板上的瓷磚處于正確的位置。
11.如權(quán)利要求4所述的方法,其中瓷磚的彎曲(圖版6)是在其上的凹槽形成之后對靠在由耐火材料制成的墊板上的瓷磚進(jìn)進(jìn)行整體或局部加熱而獲得的,所述墊板具有兩個表面,所述兩個表面相互正交并相對于垂直面以最適于保持所要彎曲的瓷磚B穩(wěn)定和保持其上所要彎曲的伸出部穩(wěn)定的角度進(jìn)行傾斜,由于進(jìn)行了軟化,在重力的作用下其開始很好的緊靠在另一墊板表面上;由耐火材料制成的標(biāo)尺沿著墊板兩個表面中的一個表面進(jìn)行設(shè)置,以便使瓷磚上的凹槽自動定位在瓷磚將要彎曲的位置,所述的位置為兩個表面交匯的位置。
12.如權(quán)利要求4所述的方法,其中獲得U形瓷磚所必要的兩個彎曲是在瓷磚上的兩個直槽形成之后通過對靠在由耐火材料制成的墊板上的瓷磚進(jìn)行整體或局部加熱而獲得的,所述墊板具有矩形截面和兩個從墊板的項(xiàng)面凸出的兩個凸出部;所述兩個凸出部伸入瓷磚上的兩個凹槽,以便在彎曲過程期間,當(dāng)瓷磚的兩翼下傾到靠在墊板的兩個垂直壁上時(shí),所述瓷磚被約束到墊板上。
13.如權(quán)利要求4所述的方法,其中為了使瓷磚彎曲(圖版8),在瓷磚的底面制有多個直槽,并且所述底面緊靠在由耐火材料制成的墊板的頂面上;一根由耐火材料制成的桿從墊板的頂面凸出并插入到多個直槽中的一個直槽中,以確保在瓷磚由于整體或局部受熱而產(chǎn)生彎曲的期間處于正確的位置。
14.如權(quán)利要求4所述的方法,其中,使瓷磚彎曲,以在瓷磚底面上的直槽形成之后通過對瓷磚進(jìn)行整體或局部加熱使之在瓷磚的頂面形成一個約90或小于90的角度,并且在瓷磚的兩端固定有兩根由耐火材料制成的桿,其從墊板凸出并平行于所述直槽;所述瓷磚被定位在兩個水平軸線的滾筒上,所述滾筒從兩個耐火雙墊板的頂部凸出,所述雙墊板具有根據(jù)在瓷磚上所需彎曲的預(yù)定角度向下傾斜會聚的頂面。
15.如權(quán)利要求1所述的方法,其中使一普通平面瓷磚(如圖版10和11)在其頂面形成一個約270的角度的彎曲是通過對靠在由耐火材料制成的墊板上的瓷磚進(jìn)行整體或局部加熱而獲得的,為了使彎曲的過程是漸進(jìn)的,所述墊板是可調(diào)的,并由兩部分構(gòu)成,以這樣的方式構(gòu)成是為了兩個部分的連接可以通過由兩個樞軸件形成的鉸接而獲得,其允許使所述兩部分具有90的傾斜角度變化。
16.如權(quán)利要求15所述的方法,其中為了確保處于合適的位置并避免毀壞瓷磚的圓緣,至少一根由耐火材料制成的桿被固定到每一兩個半部分的瓷磚的底面上,所述兩根至少一根桿被設(shè)置在墊板上的相應(yīng)底座內(nèi);第二根至少一根桿為等腰直角三角形并具有經(jīng)過斜邊的表面,該表面用于將至少一根桿固定到瓷磚上的表面,以便在墊板和其上的瓷磚發(fā)生彎曲之后,所述桿的穿過直角邊的其它兩個表面被設(shè)置成一個面為水平的而另一個面為垂直的,使通過提升出墊板就能簡便的將瓷磚移走。
全文摘要
圖25和圖26示出了在其預(yù)設(shè)的底面上使瓷磚形成270°彎曲的順序,在這一表面上要形成彎曲的位置形成一直槽。圖5為示出在彎曲之后已經(jīng)進(jìn)行了充填的凹槽的詳細(xì)視圖。在圖示的示例中,在頂面的對面上形成凹槽之后,當(dāng)所述瓷磚靠在由耐火材料制成的墊板上時(shí),瓷磚的彎曲通過對瓷磚進(jìn)行整體或局部加熱而獲得,所述墊板具有兩個表面,所述兩個表面相互正交并相對于垂直面以最合適的角度進(jìn)行傾斜,由于瓷磚的一部分靠在所述表面上而使所述瓷磚保持穩(wěn)定,當(dāng)所述瓷磚軟化時(shí),瓷磚的伸出部分在重力的作用下而下降,直到其達(dá)到并完好地靠在墊板的另一表面10″上。
文檔編號B28B11/00GK1638929SQ03805180
公開日2005年7月13日 申請日期2003年2月13日 優(yōu)先權(quán)日2002年3月26日
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