專利名稱：花式反光布的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種反光面呈花式圖案的花式反光布，屬反光布制造領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
授權(quán)公告號(hào)CN22870S4、名稱"反光布"，該反光布由基布、高聚物塑料 薄膜、反光層、亞加力膠合層、玻璃微珠反射層、保護(hù)層構(gòu)成。其不足之處: 無(wú)法根據(jù)不同場(chǎng)合的需要實(shí)現(xiàn)花式反光。
發(fā)明內(nèi)容
設(shè)計(jì)目的避免背景技術(shù)中的不足之處，設(shè)計(jì)一種反光呈花式圖案的花 式反光布。
設(shè)計(jì)方案回歸反射是一種光學(xué)現(xiàn)象。當(dāng)光線照射到透鏡之類的物體上 經(jīng)折射后聚焦，再?gòu)慕裹c(diǎn)反射有經(jīng)透鏡折射回歸光源方向，這就是回歸反射， 而反光布正是利用回歸反射的原理將照射到其上的入射光經(jīng)過(guò)玻璃微珠的作 用后，能按原光源方向進(jìn)行反射，從而提高自身的能見(jiàn)度。為了達(dá)到上述目 的…-使反光布表面能夠反射出高亮度的鮮艷色，就必須進(jìn)行鍍鋁，對(duì)玻璃微 珠直接鍍鋁，使光線穿過(guò)玻璃微珠直接到達(dá)鍍鋁層。因此本實(shí)用新型在密布 的玻璃微珠面上所設(shè)置的花式真空鍍鋁層的設(shè)計(jì)，是本實(shí)用新型的主要技術(shù) 特征。這樣做的目的在于由于鍍?cè)诓Ａ⒅槊嫔系恼婵斟冧X層呈中空花式 圖案鍍鋁層，該中空花式圖案鍍鋁層使需要反光的部分呈現(xiàn)圖案反光，不需要反光的部分不反光，從而實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型的設(shè)計(jì)目的。
技術(shù)方案花式反光布，它包括布，PET膜與PE膜間涂有膠粘劑復(fù)合 成型，玻璃微珠密布在PE膜上且與PE膜熱熔粘接，密布的玻璃微珠的面上 鍍有花式真空鍍鋁層，布面與真空鍍鋁層粘合。
本實(shí)用新型與背景技術(shù)相比，不僅具有高亮度的反光效果，而且能夠使 反光布呈花式圖案反光，滿足了反光布在不同場(chǎng)合下的特定需求。


圖1是花式反光布的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式

實(shí)施例1:參照附圖1。花式反光布，它包括布，PET膜1與PE膜2之 采用膠粘劑復(fù)合成型，其復(fù)合方的方法系現(xiàn)有技術(shù)，在此不作敘述。將PE 膜面2預(yù)熱、密布玻璃微珠3在其上且加熱PE膜2，使PE膜2粘住玻璃微 珠3，也就是說(shuō)，讓玻璃微珠3熱粘接在PE膜2面上，即玻璃微珠3密布在 PE膜2上且與PE膜2熱熔粘接，密布的玻璃微珠3的面上鍍有花式真空鍍 鋁層4，布6面與花式真空鍍鋁層4及裸露的玻璃微珠3面粘合?；ㄊ秸婵?鍍層4的形狀為中空花式真空鍍層，其中空鍍鋁層的花圖案為各式各樣。玻 璃微珠5的制作及粒度的大小系現(xiàn)有技術(shù)，在此不作敘述。
需要理解到的是上述實(shí)施例雖然對(duì)本實(shí)用新型作了比較詳細(xì)的文字描 述，但是這些文字描述，只是對(duì)本實(shí)用新型設(shè)計(jì)思路的簡(jiǎn)單文字描述，而不 是對(duì)本實(shí)用新型設(shè)計(jì)思路的限制，任何不超出本實(shí)用新型設(shè)計(jì)思路的級(jí)合、 增加或修改，均落入本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1、一種花式反光布，它包括布，其特征是PET膜與PE膜間涂有膠粘劑，玻璃微珠密布在PE膜上且與PE膜熱熔粘接，密布的玻璃微珠的面上鍍有花式真空鍍鋁層，布面與真空鍍鋁層粘合。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的花式反光布，其特征是花式真空鍍層的形狀為中空花式真空鍍層。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種反光面呈花式圖案的花式反光布，它包括布，ET膜與PE膜間涂有膠粘劑復(fù)合成型，玻璃微珠密布在PE膜上且與PE膜熱熔粘接，密布的玻璃微珠的面上鍍有花式真空鍍鋁層，布面與真空鍍鋁層粘合。優(yōu)點(diǎn)不僅具有高亮度的反光效果，而且能夠呈花式圖案反光，滿足了反光布在不同場(chǎng)合下的特定需求。
文檔編號(hào)D06Q1/10GK201378209SQ20092011376
公開(kāi)日2010年1月6日 申請(qǐng)日期2009年2月11日 優(yōu)先權(quán)日2009年2月11日
發(fā)明者沈豐平 申請(qǐng)人:杭州星華反光材料有限公司