專利名稱：一種半導(dǎo)體芯粒的清洗裝置的制作方法
一種半導(dǎo)體芯粒的清洗裝置技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于微電子封裝技術(shù)領(lǐng)域，特別是一種可以進(jìn)行半導(dǎo)體芯粒批量清洗的裝置。
背景技術(shù)：
目前半導(dǎo)體小芯粒(小于5mmX 5mm的芯粒)清洗沒(méi)有適用的專門(mén)設(shè)備，一般是手工逐一操作，很容易對(duì)芯粒造成損傷，而且體積過(guò)小的芯粒更是無(wú)法操作。傳統(tǒng)的清洗方法效率低、效果差。
經(jīng)檢索，中國(guó)專利201010168264《一種二極管芯粒的清洗工藝》，公開(kāi)了一種二極管芯粒清洗的方法。該方法中涉及清洗工藝中所用清洗液配方的改進(jìn)，能進(jìn)一步減少芯粒側(cè)表面金屬離子，從而避免芯粒在工作中會(huì)出現(xiàn)“爬電”現(xiàn)象。中國(guó)專利200910197445《一種芯粒的清洗方法》，也公開(kāi)了一種芯粒的清洗方法，該方法中需要將待清洗的芯粒置放于有機(jī)溶劑中進(jìn)行有機(jī)溶劑清洗；將經(jīng)過(guò)溶劑清洗后的芯粒進(jìn)行灰化處理；將灰化后的芯粒采用去離子水進(jìn)行去離子水清洗。這兩種方法的問(wèn)題是過(guò)程復(fù)雜，需要專用的清洗溶劑， 技術(shù)條件高、難度大。發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種可以將大量小尺寸芯粒同時(shí)清洗的裝置。
實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的技術(shù)方案是一種半導(dǎo)體芯粒的清洗裝置，其特征在于它由芯粒存放盤(pán)和連接于芯粒存放盤(pán)上的手柄組成，芯粒存放盤(pán)表面設(shè)置有一組芯粒存放槽，每個(gè)芯粒存放槽的底面設(shè)置一個(gè)將芯粒存放盤(pán)貫通的清洗液滲漏孔。所述芯粒存放盤(pán)表面設(shè)置的芯粒存放槽可以是一組孔徑不同的芯粒存放槽。
本發(fā)明提供的一種半導(dǎo)體芯粒的清洗裝置上設(shè)有不同大小芯粒存放槽，可以實(shí)現(xiàn)不同尺寸芯粒的清洗。每個(gè)芯粒存放槽中設(shè)有清洗液滲漏孔直徑為0. Imm 0. 5mm，置于芯粒存放槽中心，方便清洗試劑的滲入和滲出。手柄是為了不用手觸碰就可以方便取出芯粒存放盤(pán)，并可拆卸。
使用時(shí)將芯粒放入清洗裝置的芯粒存放槽中，通過(guò)浸泡在清洗試劑內(nèi)并超聲振動(dòng)進(jìn)行清洗。本裝置可以多個(gè)同時(shí)使用，清洗數(shù)量則成倍增加，而時(shí)間基本不變。
本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比，其顯著優(yōu)點(diǎn)是1、實(shí)現(xiàn)切割后的小芯粒快速、一致性清洗；2、可以一次性清洗幾十到幾百只不同大小的芯粒，芯粒尺寸最小范圍達(dá)到 0. 5mmX0. 5mm 5. OmmX 5. 0mm，清洗過(guò)程不會(huì)對(duì)芯粒造成任何損傷，進(jìn)行批量較大的小芯粒清洗時(shí)工作效率可成倍提高；3、操作省時(shí)省力，制作成本低，使用的是普通工業(yè)用清洗試劑和常用超聲清洗機(jī)，無(wú)須專用材料和設(shè)備。


圖1是本發(fā)明的清洗裝置結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是本發(fā)明的清洗結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的最佳實(shí)施案例作進(jìn)一步描述如圖1、圖2所示，本發(fā)明提供的一種半導(dǎo)體芯粒的清洗裝置，它由芯粒存放盤(pán)2和連接于芯粒存放盤(pán)2上的手柄1組成，芯粒存放盤(pán)表面設(shè)置有一組孔徑不同的芯粒存放槽 3，每個(gè)芯粒存放槽的底面設(shè)置一個(gè)將芯粒存放盤(pán)貫通的清洗液滲漏孔5。將手柄1穿過(guò)存放盤(pán)2中間的穿入孔7，通過(guò)兩邊的卡槽8將手柄固定。存放盤(pán)(包括手柄)的制作方法為主體材料為聚四氟乙烯。中芯粒存放槽是按我們常用的尺寸制成的0.5mmX0. 5mm和 7. OmmX 7. Omm兩種尺寸。
采用本發(fā)明提供的一種半導(dǎo)體芯粒的清洗裝置，芯粒清洗過(guò)程如下1、將容器6清潔后，注入清洗試劑(本方案采用的是工業(yè)用無(wú)水乙醇)，具體清洗試劑量以液面超過(guò)芯粒2cm 4cm左右為標(biāo)準(zhǔn)，以備使用；2、將芯粒4放入適合其尺寸的芯粒存放槽3中，一個(gè)存放槽放置一個(gè)芯粒，以免在清洗過(guò)程中因超聲振動(dòng)造成間相互蹭傷；3、將芯粒存放盤(pán)放入注好無(wú)水乙醇的容器6中，清洗試劑(無(wú)水乙醇)通過(guò)芯粒存放槽底部的清洗液滲漏孔5滲入存入?yún)^(qū)內(nèi)，將芯粒整體浸泡，(若試劑較多時(shí)，清洗試劑可能通過(guò)清洗裝置外圈與容器的縫隙滿過(guò)整個(gè)存放盤(pán)，但出現(xiàn)這種情況不會(huì)影響操作和清洗效果， 無(wú)需特別注意和處理)；(4)將容器放入超聲清洗機(jī)內(nèi)清洗將容器整體放入超聲清洗機(jī)內(nèi)進(jìn)行清洗，清洗機(jī)輸出電流調(diào)至50mA 80mA(對(duì)應(yīng)功率 % Ilff ~ 18W)，清洗時(shí)間為 5min IOmin。
(5)超聲清洗完成，取出容器清洗完成后，關(guān)閉清洗機(jī)開(kāi)關(guān)，將放置了存放盤(pán)的容器從清洗機(jī)中取出。
(6)將芯粒存放盤(pán)取出并拎干清洗試劑將芯粒存放盤(pán)從容器中提出，通過(guò)芯粒存放盤(pán)內(nèi)每個(gè)芯粒存放槽底部的清洗試劑滲入孔將清洗試劑拎干后(無(wú)大滴清洗試劑滴出)再拿出來(lái)，充分晾干至無(wú)水跡，將芯粒揀到濾紙上，待剩余的大部分清洗試劑被濾紙吸收后，換一張新的濾紙?jiān)俜湃?0 150度的紅外干燥箱徹底烘干。
( 8 )揀出，完成清洗全過(guò)程將清洗后的芯粒揀出，放入培養(yǎng)皿或?qū)Ｓ眯玖：欣锎?，完成全部清洗過(guò)程。
權(quán)利要求
1.一種半導(dǎo)體芯粒的清洗裝置，其特征在于它由芯粒存放盤(pán)(2)和連接于芯粒存放盤(pán) (2)上的手柄(1)組成，芯粒存放盤(pán)表面設(shè)置有一組芯粒存放槽(3)，每個(gè)芯粒存放槽的底面設(shè)置一個(gè)將芯粒存放盤(pán)貫通的清洗液滲漏孔(5 )。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種半導(dǎo)體芯粒的清洗裝置，其特征在于芯粒存放盤(pán)表面設(shè)置一組孔徑不同的芯粒存放槽(3 )。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種半導(dǎo)體芯粒的清洗裝置，其特征在于它由芯粒存放盤(pán)(2)和連接于芯粒存放盤(pán)(2)上的手柄(1)組成，芯粒存放盤(pán)表面設(shè)置有一組芯粒存放槽(3)，每個(gè)芯粒存放槽的底面設(shè)置一個(gè)將芯粒存放盤(pán)貫通的清洗液滲漏孔(5)。本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比，其顯著優(yōu)點(diǎn)是1、實(shí)現(xiàn)切割后的小芯?？焖?、一致性清洗；2、可以一次性清洗幾十到幾百只不同大小的芯粒，芯粒尺寸范圍達(dá)到0.5mm×0.5mm～5.0mm×5.0mm，清洗過(guò)程不會(huì)對(duì)芯粒造成任何損傷，進(jìn)行批量較大的小芯粒清洗時(shí)工作效率可成倍提高；3、操作省時(shí)省力，制作成本低，使用的是普通工業(yè)用清洗試劑(一般使用無(wú)水乙醇即可)和常用超聲清洗機(jī)，無(wú)須專用材料和設(shè)備。
文檔編號(hào)B08B3/12GK102522322SQ20111041920
公開(kāi)日2012年6月27日 申請(qǐng)日期2011年12月15日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月15日
發(fā)明者吳慧, 張樂(lè)銀, 徐春葉, 歐陽(yáng)徑橋 申請(qǐng)人:華東光電集成器件研究所