專利名稱:一種適合復(fù)雜電子組件的清洗液的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明屬于計(jì)算機(jī)防護(hù)技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種基于復(fù)雜電子組件的清洗液。
背景技術(shù):
隨著電子技術(shù)的發(fā)展,電子組件結(jié)構(gòu)復(fù)雜化,使用的材料越來(lái)越多,除有陶瓷、橡膠、塑料、樹(shù)脂、玻璃外,還有金屬鋁制部件(有導(dǎo)電氧化、硬質(zhì)陽(yáng)極化、普通陽(yáng)極化等)如小型散熱器、加固散熱板、加強(qiáng)筋、鎖緊條等。市面上的電子組件清洗劑能夠清洗助焊劑、油脂,但是有的會(huì)對(duì)鋁件造成腐蝕、有的會(huì)使橡膠溶脹、有的會(huì)使焊點(diǎn)變暗、有的會(huì)使器件顏色和字符褪去、有的會(huì)使漆皮脫落。單一的清洗劑不能同時(shí)滿足以上清洗要求。為此,在市面已有清洗劑的基礎(chǔ)上,進(jìn)行了大量的工藝試驗(yàn),經(jīng)過(guò)長(zhǎng)期研究、篩選、組合、配比獲得一種新型的復(fù)合清洗液,可以滿足帶鋁件的復(fù)雜電子產(chǎn)品清洗。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種既能清洗助焊劑,又不腐蝕電子組件上的鋁件、又不溶脹橡膠、又不使漆皮脫落、又不使焊點(diǎn)變暗、又不使器件顏色和字符褪去的一種復(fù)合清洗劑。一種適合復(fù)雜電子組件的清洗液,由水和清洗劑組成,所述清洗劑按照體積百分比由以下組分組成清洗劑N50110% -30% ;清洗劑A470370% -90% ;所述清洗劑的體積濃度為5% -15%。上述清洗劑的較佳方案按照體積百分比由以下組分組成清洗劑N50112% -25%清洗劑A470375% -88%所述清洗劑的最佳方案體積濃度為8% -12%。上述清洗劑按照體積百分比由以下組分組成清洗劑N50120%清洗劑A470380%所述清洗劑的體積濃度為10%。本發(fā)明的所具有的優(yōu)點(diǎn)需要簡(jiǎn)述清洗劑N501和清洗劑A4703的物理化學(xué)參數(shù)及性能,以支持以下8個(gè)優(yōu)點(diǎn)1、本發(fā)明清洗液能將電子組件上的助焊劑清洗潔凈,達(dá)到美軍標(biāo)準(zhǔn)要求。2、本發(fā)明復(fù)合清洗液清洗不腐蝕鋁件。3、本發(fā)明清洗液清洗不溶脹橡膠。4、本發(fā)明清洗液清洗不使漆皮脫落。5、本發(fā)明清洗液清洗不使器件顏色和字符退去。
3
6、本發(fā)明清洗液清洗不使焊點(diǎn)變暗。7、本發(fā)明清洗液清洗使用濃度低,清洗成本低。8、本發(fā)明清洗劑配置簡(jiǎn)單,操作容易。
具體實(shí)施例方式一種適合復(fù)雜電子組件的清洗液,由水和清洗劑組成,所述清洗劑按照體積百分比由以下組分組成清洗劑N501 10% -30%清洗劑A4703 70% -90%清洗劑的體積濃度為5 % -15 %。清洗劑按照體積百分比由以下組分組成清洗劑N501 12% -25%清洗劑A4703 75% -88%清洗劑的體積濃度為8 % -12 %。清洗劑按照體積百分比由以下組分組成清洗劑N50120%清洗劑A4703 80%清洗劑的體積濃度為10%。實(shí)施例
權(quán)利要求
1.一種適合復(fù)雜電子組件的清洗液,其特征在于由水和清洗劑組成,所述清洗劑的濃度為5% -15%,所述清洗劑按照體積百分比由以下組分組成清洗劑 N50110% -30% ;清洗劑 A470370% -90% ;所述清洗劑的體積濃度為5% -15%。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適合復(fù)雜電子組件的清洗液,其特征在于所述清洗劑按照體積百分比由以下組分組成清洗劑 N50112% -25% ;清洗劑 A470375% -88% ;所述清洗劑的體積濃度為8% -12%。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的適合復(fù)雜電子組件的清洗液,其特征在于所述清洗劑按照體積百分比由以下組分組成清洗劑N50120% ;清洗劑A470380% ;所述清洗劑的體積濃度為10%。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種適合復(fù)雜電子組件的清洗液,由水和清洗劑組成,所述清洗劑按照體積百分比由以下組分組成清洗劑N501 10%-30%;清洗劑A470370%-90%;所述清洗劑的體積濃度為5%-15%。本發(fā)明的目的是提供一種既能清洗助焊劑,又不腐蝕電子組件上的鋁件、又不溶脹橡膠、又不使漆皮脫落、又不使焊點(diǎn)變暗、又不使器件顏色和字符褪去的一種復(fù)合清洗劑。
文檔編號(hào)C11D10/00GK102492581SQ201110389429
公開(kāi)日2012年6月13日 申請(qǐng)日期2011年11月30日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月30日
發(fā)明者何燕春, 喻少英, 崔景新, 曲亮, 石紅 申請(qǐng)人:中國(guó)航空工業(yè)集團(tuán)公司第六三一研究所