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用于捕集揮發(fā)性有機(jī)污染物的局部排除系統(tǒng)的制作方法

文檔序號:1364791閱讀:184來源:國知局
專利名稱:用于捕集揮發(fā)性有機(jī)污染物的局部排除系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明是有關(guān)于一種局部排氣系統(tǒng),特別是有關(guān)于一種捕集揮發(fā)性污染物的局部排氣系統(tǒng)。
背景技術(shù)
在半導(dǎo)體或是光電產(chǎn)品的制程中,不可避免的在制程中待處理物件會放置在無塵室中,其中待處理物件可以像是半導(dǎo)體的硅晶片或是三五族的晶片,或是液晶顯示器的玻璃基板或塑膠基板。這些基板在制程中無可避免的會產(chǎn)生污染物。如果這些污染物在進(jìn)行制程之后會附著在基板上,可以使用濕式潔凈過程或是干式潔凈過程予以潔凈。如果這些污染物是揮發(fā)性的,也就是會在制程中彌漫在整個反應(yīng)室中,一般的設(shè)計是希望隨著無塵室中的氣流帶走。
然而,在無塵室或是反應(yīng)室中的氣流是無法順暢的將這些揮發(fā)性的污染物帶走。漸漸的會在反應(yīng)室或是無塵室中的墻壁與機(jī)臺上形成一層污染物。因此,設(shè)備機(jī)臺運作一段時間之后會需要進(jìn)行定期檢查與保養(yǎng)。這樣會縮短設(shè)備機(jī)臺操作的時間。
一種解決方式是在設(shè)備機(jī)臺停機(jī)進(jìn)行保養(yǎng)時,使用集氣罩將這些特定的揮發(fā)性氣體予以抽離。但是設(shè)備機(jī)臺在運作的時候無法將這些揮發(fā)性氣體予以抽離。
另一種解決方式是在反應(yīng)室或是無塵室中的機(jī)臺周圍放置局部排氣系統(tǒng),其中局部排氣系統(tǒng)使用集氣罩與排氣管。集氣罩與排氣管段均為工業(yè)通風(fēng)局部排氣系統(tǒng)中不可或缺的設(shè)備。良好的設(shè)計除能完全有效的控制污染源之外,亦能將對使用者及機(jī)臺的不良影響減至最低。傳統(tǒng)的局部排氣系統(tǒng)常以增加排氣量來提高集氣罩開口面的捕集風(fēng)速,希望藉此捕捉更多的污染物。但是,卻忽略了高科技產(chǎn)業(yè)機(jī)臺對于制程氣流環(huán)境的穩(wěn)定要求。不均勻的捕集氣流除減少污染物捕集效率外,甚著更破壞制程氣流環(huán)境而造成產(chǎn)品良率的降低。
是以,由以上可知,上述的傳統(tǒng)局部排氣系統(tǒng)于高科技產(chǎn)業(yè)設(shè)備的使用上,顯然有本質(zhì)上的缺點,而可待加以改善。
緣是,本創(chuàng)作人有感于上述缺點的可改善,乃特潛心研究,并配合學(xué)理的應(yīng)用,終于提出一種設(shè)計合理且可有效改善上述缺點的本發(fā)明。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于上述的發(fā)明背景中,傳統(tǒng)的局部排氣系統(tǒng)所產(chǎn)生的不足之處,本發(fā)明的目的在于提供一種捕集揮發(fā)性污染物的局部排氣系統(tǒng),主要是在解決一般集氣罩使用于高科技產(chǎn)業(yè)機(jī)臺時,常造成捕集風(fēng)速不均,破壞穩(wěn)定制程氣流環(huán)境,影響產(chǎn)品良率以及污染物控制效率不高的缺點。故設(shè)計一局部排氣系統(tǒng)使其在不影響穩(wěn)定制程氣流環(huán)境下,仍不失捕捉污染物的效能。
本發(fā)明是利用無塵室下吹垂直層流環(huán)境特性,配合集氣罩開口面漸縮面積設(shè)計,當(dāng)正常運作時,受污染的下吹氣流可直接由集氣罩開口面均勻捕集,并搭配各集氣罩后段排氣管段流量控制,平衡各集氣罩開口面風(fēng)速,減少對制程氣流環(huán)境的影響,降低對產(chǎn)品良率的影響。
本發(fā)明的目的,是在產(chǎn)品還在制程進(jìn)行中提供一種可除去上述缺點的局部排氣系統(tǒng),且可以保留原局部排氣系統(tǒng)捕集污染物功能。
本發(fā)明的另一目的在于集氣罩可使用于運轉(zhuǎn)中制程機(jī)臺,集氣罩本身與設(shè)備機(jī)構(gòu)的作動并無任何干涉。
本發(fā)明的又一目的在于集氣罩可有效捕集有機(jī)溶劑氣體,減少環(huán)境中的溢散量,捕集效率90%以上。
本發(fā)明的再一目的在于集氣罩可維持基板周圍氣流的一致性,提供穩(wěn)定的制程品質(zhì)。
根據(jù)以上所述的目的,本發(fā)明提供了一種用于捕集揮發(fā)性污染物的局部排氣系統(tǒng),其特征在于,包含復(fù)數(shù)個集氣罩,位于一物件的一側(cè)的周圍,其中該物件的相對另一側(cè)有下吹氣流將該物件上的揮發(fā)性污染物帶走以產(chǎn)生受污染的氣體,該復(fù)數(shù)個集氣罩是用以接收捕集該受污染的氣體;復(fù)數(shù)個管路,是連接至該復(fù)數(shù)個集氣罩,用以將捕集到的該受污染的氣體帶離該復(fù)數(shù)個集氣罩;以及復(fù)數(shù)個流量調(diào)節(jié)器,位于該復(fù)數(shù)個管路上,是用以調(diào)節(jié)該復(fù)數(shù)個管路的氣體流量。
其中上述的復(fù)數(shù)個集氣罩具有一個頂角,使得該復(fù)數(shù)個集氣罩組合后的形狀接近該物件之外觀形狀。
其中上述的復(fù)數(shù)個集氣罩的頂角處具有一個排氣孔,是連接至該復(fù)數(shù)個管路。
其中上述的復(fù)數(shù)個集氣罩的容積是在該排氣孔之處最大,向其他方向延伸之后的容積漸漸減少。
其中上述的復(fù)數(shù)個集氣罩之間具有定位器。
本發(fā)明一種用于捕集揮發(fā)性污染物的局部排氣系統(tǒng),是用在產(chǎn)生污染源的機(jī)臺,而該機(jī)臺是位于一反應(yīng)室中,其特征在于,該用于捕集揮發(fā)性污染物的局部排氣系統(tǒng)包含復(fù)數(shù)個集氣罩,位于一物件的一側(cè)的周圍,其中該物件的相對另一側(cè)有氣流將該物件上的揮發(fā)性污染物帶走以產(chǎn)生受污染的氣體,其中上述的集氣罩是由一容器所構(gòu)成,且該容器的一面為開放式的,是用以補(bǔ)集受污染的氣體,該復(fù)數(shù)個集氣罩具有一個頂角,使得該復(fù)數(shù)個集氣罩組合后的形狀接近該物件之外觀形狀,該復(fù)數(shù)個集氣罩的頂角處具有一個排氣孔,而該復(fù)數(shù)個集氣罩的容積是在該排氣孔之處最大,向其他方向延伸之后的容積漸漸減少;復(fù)數(shù)個管路,是連接至該復(fù)數(shù)個集氣罩的排氣孔上,是用以將捕集到的該受污染的氣體帶離該復(fù)數(shù)個集氣罩;以及復(fù)數(shù)個流量調(diào)節(jié)器,位于該復(fù)數(shù)個管路上,是用以調(diào)節(jié)該復(fù)數(shù)個管路的氣體流量。
其中上述的物件為玻璃面板。
其中上述的復(fù)數(shù)個集氣罩位于該矩形頂角處具有一個排氣孔,是連接至該復(fù)數(shù)個管路。
其中上述的復(fù)數(shù)個集氣罩的容積是在該排氣孔之處最大,向其他方向延伸之后的容積漸漸減少。
其中上述的復(fù)數(shù)個管路連接到一抽氣裝置。


為進(jìn)一步說明本發(fā)明的技術(shù)內(nèi)容,以下結(jié)合實施例及附圖詳細(xì)說明如后,其中圖1是顯示本發(fā)明的用于捕集揮發(fā)性污染物的局部排氣系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖;圖2是顯示本發(fā)明的局部排氣系統(tǒng)的集氣罩應(yīng)用于液晶顯示器面板的玻璃基板制程的結(jié)構(gòu)示意圖;圖3是顯示本發(fā)明的局部排氣系統(tǒng)的集氣罩應(yīng)用于液晶顯示器面板的玻璃基板制程的側(cè)視示意圖;圖4是顯示本發(fā)明的局部排氣系統(tǒng)的集氣罩的俯視示意圖;以及圖5是顯示本發(fā)明的局部排氣系統(tǒng)的集氣罩的結(jié)構(gòu)示意圖,其中圖5A顯示為大尺寸集氣罩、圖5B顯示為小尺寸集氣罩。
具體實施例方式
本發(fā)明的一些實施例會詳細(xì)描述如下。然而,除了詳細(xì)描述外,本發(fā)明還可以廣泛地在其他的實施例施行,且本發(fā)明的范圍不受限定,其以之后的專利范圍為準(zhǔn)。
本發(fā)明主要是關(guān)于一種用于捕集揮發(fā)性污染物的局部排氣系統(tǒng),主要是用在產(chǎn)生污染源的機(jī)臺,其中的機(jī)臺位于一反應(yīng)室中。本發(fā)明的局部排氣系統(tǒng)包含復(fù)數(shù)個集氣罩,復(fù)數(shù)個管路,與復(fù)數(shù)個流量調(diào)節(jié)器。
上述的復(fù)數(shù)個集氣罩位于一物件的一側(cè)的周圍與前述的反應(yīng)室中,其中的物件的相對另一側(cè)有氣流將其上的揮發(fā)性污染物帶走以產(chǎn)生受污染的氣體,使得復(fù)數(shù)個集氣罩得以接收捕集受污染的氣體。上述的每個集氣罩是由一容器所構(gòu)成,且其中一面為開放式的,得以補(bǔ)集受污染的氣體,而每個集氣罩具有一個頂角,使得前述的復(fù)數(shù)個集氣罩組合后的形狀接近該物件之外觀形狀。在上述的每個集氣罩的頂角處分別具有一個排氣孔,是連接至前述的復(fù)數(shù)個管路,而每個集氣罩的容積是在排氣孔之處最大,隨著遠(yuǎn)離該排氣孔容積漸漸減少。上述的每個集氣罩之間具有定位器。
上述的物件可以是玻璃面板。因此,上述的復(fù)數(shù)個集氣罩組合后的形狀為一矩形,并且復(fù)數(shù)個集氣罩在矩形頂角處分別具有一個排氣孔,可連接至前述的復(fù)數(shù)個管路。另外,上述的物件是由一支撐底座支撐,而支撐底座是位于前述的復(fù)數(shù)個集氣罩之間。
上述的復(fù)數(shù)個管路連接至前述的復(fù)數(shù)個集氣罩,是用以將捕集到的受污染的氣體帶離該復(fù)數(shù)個集氣罩。上述的復(fù)數(shù)個管路為剛性管,而其口徑至少大于五公分,是位于前述的反應(yīng)室外,并連接到一抽氣裝置。
上述的復(fù)數(shù)個流量調(diào)節(jié)器位于前述的復(fù)數(shù)個管路上,是用以調(diào)節(jié)其氣體流量,其中復(fù)數(shù)個流量調(diào)節(jié)器可使用風(fēng)門。
為使審查委員對本發(fā)明的目的、特征、功效有更一進(jìn)步的了解與認(rèn)同,配合附圖詳細(xì)說明本發(fā)明的較佳實施例如后。如圖1所示,本發(fā)明的用于捕集揮發(fā)性污染物的局部排氣系統(tǒng)10是由集氣罩12,管路14,與流量調(diào)節(jié)器16所組成,其中集氣罩12經(jīng)由排氣孔分別與下方的管路14相連接。在管路14上分別裝設(shè)有調(diào)整流量的流量調(diào)節(jié)器16。管路14最后會接合到一個主管路15并且連接到一抽氣裝置。
集氣罩12主要的功能是收集或是捕捉揮發(fā)性有機(jī)化合物(volatileorganic compound;VOC)氣體。這些含有揮發(fā)性有機(jī)化合物的氣體會經(jīng)由管路14排除。在管路14上的流量調(diào)節(jié)器16可以各自獨立的控制個別管路14的氣體流量,也因而影響了集氣罩12的吸氣效果。管路14采用剛性管以降低管路14中氣體流動的阻力,并且口徑加寬使得的大量氣體可以在管路14中均勻流動。在圖示中可以看出,為了配合機(jī)臺的安排四個管路的長度并不相同,因此當(dāng)流量調(diào)節(jié)器16并不作用的時候,每個集氣罩12對于受污染的氣體的吸收補(bǔ)集的能力并不相同。流量調(diào)節(jié)器16主要的目的就是調(diào)節(jié)四個獨立管路14的氣體流量,使得每個集氣罩12對于受污染氣體的吸收捕集能力均為相同。
集氣罩12所組成的內(nèi)部空間會放置一產(chǎn)生污染原物件,例如還在制造中的玻璃面板或是硅晶片,其中的物件會由一支撐底座支撐。在本實施例中的物件是方形的基板,但是也可以應(yīng)用到圓形的硅晶片或是三五族的晶片。這時集氣罩12所組成的空間是符合晶片的圓形外觀。集氣罩12的個數(shù),在本實施例中是四個,但是并不限定有四個,也可以不到四個,只要能達(dá)成所需要的吸收捕集受污染的氣體即可。在本實施例中,每個集氣罩12之間都有間隔,這是因為本實施例是應(yīng)用到液晶顯示器的玻璃基板制程,其反應(yīng)室具有支撐底座用以支撐玻璃基板以及定位器用以固定玻璃基板的位置。當(dāng)本發(fā)明應(yīng)用到其他的半導(dǎo)體制程,光電產(chǎn)業(yè)的制程或是有可能應(yīng)用到本發(fā)明的制程,集氣罩12的外觀形狀設(shè)計會依賴于所應(yīng)用到的制程設(shè)備。
本發(fā)明使用時,先調(diào)整流量調(diào)節(jié)器16使管路14中的流量為某一定比例。除提供集氣罩12足夠的排氣量外,同時兼顧管路14中的氣流均勻性。
如圖2所示,將集氣罩12組裝于液晶顯示面板的制造機(jī)臺上的示意圖,其中的液晶顯示面板的制造機(jī)臺可以是薄膜沉積的機(jī)臺,蝕刻機(jī)臺,光阻涂布機(jī)臺,或是光學(xué)微影的機(jī)臺,例如TEL的Coater(ER)。在本實施例中,物件20是玻璃基板,而玻璃基板是由支撐底座24所支撐。集氣罩12包圍住支撐底座24,而在集氣罩12之間是由定位器26所固定。本發(fā)明的局部排氣系統(tǒng)只有集氣罩12位在反應(yīng)室中,而管路14是在反應(yīng)室之外面。一般的反應(yīng)室都是無塵室,會有下吹式的潔凈氣流去除物件20上的污染物。在上述的制程中,玻璃面板上可能殘留有前段制程的有機(jī)溶劑,或是本制程會產(chǎn)生許多的有機(jī)氣體污染物,故污染源產(chǎn)生于整塊玻璃面板。這些污染源會經(jīng)由無塵室垂直下吹層流帶下,本發(fā)明即利用此一無塵室氣流特性于玻璃面板20周圍外面下方設(shè)置集氣罩12的開口面,直接捕集受污染氣流。
如圖3所示,可以更清楚的了解到本發(fā)明的運作方式。玻璃面板20由支撐座24支撐。每個集氣罩12之間有定位器26,下面連接到管路14。在玻璃面板20上,反應(yīng)室的下吹式潔凈氣流21吹向玻璃面板20,所產(chǎn)生的污染氣體22會順著玻璃面板20的周圍被集氣罩12吸收捕集。然后,經(jīng)由管路14將這些污染氣體22帶離反應(yīng)室中。如果需要提升集氣罩12的氣體補(bǔ)集效能,集氣罩12每個的每個開口位置的氣流需要相同,而且每個集氣罩12的氣體流速也要相同。要控制集氣罩12每個的每個開口位置的氣流流速相同的方式如下文說明,而控制每個集氣罩12的氣體流速相同的方式由流量調(diào)節(jié)器16控制。
圖4為集氣罩12的俯視圖,其中每個集氣罩12有個排氣孔13,用以連接管路14。集氣罩12的的容積在排氣孔13處最大,遠(yuǎn)離排氣孔13之處容積漸漸的減小。主要的目的是要達(dá)成單一集氣罩12捕集風(fēng)速均勻化。因為,假定集氣罩12的容積在每個位置是不變的,遠(yuǎn)離排氣孔13之處氣體的流動速度一定較慢,這樣就會造成不均勻的抽氣氣流。所以,遠(yuǎn)離排氣孔13的開口面積漸縮得以提高捕集風(fēng)速。
如圖5所示,顯示不同的單一個集氣罩12的結(jié)構(gòu)示意圖(圖5A、圖5B)。每個集氣罩12的尺寸大小可以不相同,對于吸收捕集受污染的氣體之處有個開口,在開口處下方有排氣孔。在每個集氣罩12之間有個凹下去的地方,主要是配合定位器所做的設(shè)計。
本發(fā)明可應(yīng)用于集氣罩可使用于運轉(zhuǎn)中制程機(jī)臺,集氣罩本身與設(shè)備機(jī)構(gòu)的作動并無任何干涉,而集氣罩可有效捕集有機(jī)溶劑氣體,減少環(huán)境中的溢散量。參照表一與表二,與傳統(tǒng)的局部補(bǔ)集系統(tǒng)相比捕集效率提升90%以上。



又,集氣罩可維持基板周圍氣流的一致性,提供穩(wěn)定的制程品質(zhì)。
本發(fā)明的局部排氣系統(tǒng)包含集氣罩本體及相連接排氣管段。利用無塵室垂直下吹層流環(huán)境特性,將集氣罩開口面設(shè)置于污染源下方,直接捕集受污染氣流。且為達(dá)成捕集風(fēng)速均勻化要求,不影響產(chǎn)品良率,加入漸縮式集氣罩開口面積設(shè)計與排氣管段上可調(diào)整流量的流量調(diào)節(jié)器。
以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例而已,并非用以限定本發(fā)明的申請專利范圍;凡其它未脫離本發(fā)明所揭示的精神下所完成的等效改變或修飾,均應(yīng)包含在下述的申請專利范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種用于捕集揮發(fā)性污染物的局部排氣系統(tǒng),其特征在于,包含復(fù)數(shù)個集氣罩,位于一物件的一側(cè)的周圍,其中該物件的相對另一側(cè)有下吹氣流將該物件上的揮發(fā)性污染物帶走以產(chǎn)生受污染的氣體,該復(fù)數(shù)個集氣罩是用以接收捕集該受污染的氣體;復(fù)數(shù)個管路,是連接至該復(fù)數(shù)個集氣罩,用以將捕集到的該受污染的氣體帶離該復(fù)數(shù)個集氣罩;以及復(fù)數(shù)個流量調(diào)節(jié)器,位于該復(fù)數(shù)個管路上,是用以調(diào)節(jié)該復(fù)數(shù)個管路的氣體流量。
2.如權(quán)利要求1所述的用于捕集揮發(fā)性污染物的局部排氣系統(tǒng),其特征在于,其中上述的復(fù)數(shù)個集氣罩具有一個頂角,使得該復(fù)數(shù)個集氣罩組合后的形狀接近該物件之外觀形狀。
3.如權(quán)利要求2所述的用于捕集揮發(fā)性污染物的局部排氣系統(tǒng),其特征在于,其中上述的復(fù)數(shù)個集氣罩的頂角處具有一個排氣孔,是連接至該復(fù)數(shù)個管路。
4.如權(quán)利要求3所述的用于捕集揮發(fā)性污染物的局部排氣系統(tǒng),其特征在于,其中上述的復(fù)數(shù)個集氣罩的容積是在該排氣孔之處最大,向其他方向延伸之后的容積漸漸減少。
5.如權(quán)利要求1所述的用于捕集揮發(fā)性污染物的局部排氣系統(tǒng),其特征在于,其中上述的復(fù)數(shù)個集氣罩之間具有定位器。
6.一種用于捕集揮發(fā)性污染物的局部排氣系統(tǒng),是用在產(chǎn)生污染源的機(jī)臺,而該機(jī)臺是位于一反應(yīng)室中,其特征在于,該用于捕集揮發(fā)性污染物的局部排氣系統(tǒng)包含復(fù)數(shù)個集氣罩,位于一物件的一側(cè)的周圍,其中該物件的相對另一側(cè)有氣流將該物件上的揮發(fā)性污染物帶走以產(chǎn)生受污染的氣體,其中上述的集氣罩是由一容器所構(gòu)成,且該容器的一面為開放式的,是用以補(bǔ)集受污染的氣體,該復(fù)數(shù)個集氣罩具有一個頂角,使得該復(fù)數(shù)個集氣罩組合后的形狀接近該物件之外觀形狀,該復(fù)數(shù)個集氣罩的頂角處具有一個排氣孔,而該復(fù)數(shù)個集氣罩的容積是在該排氣孔之處最大,向其他方向延伸之后的容積漸漸減少;復(fù)數(shù)個管路,是連接至該復(fù)數(shù)個集氣罩的排氣孔上,是用以將捕集到的該受污染的氣體帶離該復(fù)數(shù)個集氣罩;以及復(fù)數(shù)個流量調(diào)節(jié)器,位于該復(fù)數(shù)個管路上,是用以調(diào)節(jié)該復(fù)數(shù)個管路的氣體流量。
7.如權(quán)利要求6所述的用于捕集揮發(fā)性污染物的局部排氣系統(tǒng),其特征在于,其中上述的物件為玻璃面板。
8.如權(quán)利要求7所述的用于捕集揮發(fā)性污染物的局部排氣系統(tǒng),其特征在于,其中上述的復(fù)數(shù)個集氣罩位于該矩形頂角處具有一個排氣孔,是連接至該復(fù)數(shù)個管路。
9.如權(quán)利要求8所述的用于捕集揮發(fā)性污染物的局部排氣系統(tǒng),其特征在于,其中上述的復(fù)數(shù)個集氣罩的容積是在該排氣孔之處最大,向其他方向延伸之后的容積漸漸減少。
10.如權(quán)利要求6所述的用于捕集揮發(fā)性污染物的局部排氣系統(tǒng),其特征在于,其中上述的復(fù)數(shù)個管路連接到一抽氣裝置。
全文摘要
一種用于捕集揮發(fā)性污染物的局部排氣系統(tǒng),包含復(fù)數(shù)個集氣罩,復(fù)數(shù)個管路,與復(fù)數(shù)個流量調(diào)節(jié)器。上述的復(fù)數(shù)個集氣罩位于一物件的一側(cè)的周圍,其中的物件的相對另一側(cè)有氣流將其上的揮發(fā)性污染物帶走以產(chǎn)生受污染的氣體,使得該復(fù)數(shù)個集氣罩得以接收捕集該受污染的氣體。上述的復(fù)數(shù)個管路連接至前述的復(fù)數(shù)個集氣罩,是用以將捕集到的受污染的氣體帶離該復(fù)數(shù)個集氣罩。上述的復(fù)數(shù)個流量調(diào)節(jié)器位于前述的復(fù)數(shù)個管路上,是用以調(diào)節(jié)其氣體流量。
文檔編號B08B15/00GK1704182SQ200410046430
公開日2005年12月7日 申請日期2004年5月31日 優(yōu)先權(quán)日2004年5月31日
發(fā)明者魏明欣, 唐思維, 謝心色 申請人:中華映管股份有限公司
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