專利名稱：有機(jī)電激發(fā)光顯示器載具與基板的清洗方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種改善載具與基板清潔度的清洗方法，尤指一種能獲得更高的清潔度的有機(jī)電激發(fā)光顯示器載具與基板的清洗方法。
背景技術(shù)：
經(jīng)由通電流激發(fā)而發(fā)光的有機(jī)電激發(fā)光元件因?yàn)橹亓枯p、耗電低及亮度高近年來成為備受注目的顯示器；然而，有機(jī)電激發(fā)光元件的大量生產(chǎn)卻仍有許多困難亟待克服。
究其原因在于傳統(tǒng)的對(duì)于有機(jī)電激發(fā)光顯示器的載具或基板清洗上，既無法連續(xù)大量清洗，且清洗程度也無法合乎新穎有機(jī)電激發(fā)光顯示器的后續(xù)制程的清潔度要求。
為確保有機(jī)電激發(fā)光顯示器基板的清潔無污染，如何清洗則顯得十分重要，因?yàn)榛迳系奈廴玖Ｗ訉?huì)影響光阻涂布的均勻性，導(dǎo)致所制造出的線路圖案缺陷；此外，一般的基板清洗程序需將基板置于載具中使之能傳送于各清洗單元間，其傳送過程不僅費(fèi)時(shí)且載具易遭外界大氣污染，若裝載的載具不清潔，會(huì)相對(duì)增加基板受污染的機(jī)率，再者，該載具由于構(gòu)造上死角較多，遭受粒子污染后一般不容易完全清洗，成為基板污染的主要來源。
由于有機(jī)電激發(fā)光顯示器的載具常需重復(fù)多次使用，以承載大量有機(jī)電激發(fā)光顯示器，一旦遭受污染，常導(dǎo)致所承載的有機(jī)電激發(fā)光顯示器連帶遭受污染，而此情形在有機(jī)電激發(fā)光顯示器連續(xù)大量生產(chǎn)時(shí)更為嚴(yán)重，會(huì)大大降低產(chǎn)品合格率。所以，如何有效地清洗有機(jī)電激發(fā)光顯示器的基板及其載具，已經(jīng)成為業(yè)界極需解決的課題。以往業(yè)者大多僅是使用清潔劑或化學(xué)藥劑清潔的方法，無法有效地清潔有機(jī)電激發(fā)光顯示器的基板載具，并且不符合批量生產(chǎn)的需要，因此極需一種可以合乎大量生產(chǎn)的要求、又可同時(shí)清洗各種有機(jī)電激發(fā)光顯示基板與載具的方法。
近年來，現(xiàn)有的清洗技術(shù)一般是經(jīng)由數(shù)種溶劑交替浸漬并以超聲波方式震蕩，借由超聲波快速震蕩清洗有機(jī)電激發(fā)光顯示載具與基板，但事實(shí)上由于溶劑中含有少許微塵顆粒，在去除溶劑之后，仍會(huì)有部分微塵顆粒殘留在載具與基板上，也會(huì)影響載具與基板整體的潔凈度，因此單純利用超聲波震蕩清洗并無法真正達(dá)到清潔的目的。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的在于解決上述現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，避免缺陷存在，本發(fā)明是在超聲波振蕩清洗過程后加入一蒸氣清洗過程，其是將清洗溶劑形成蒸氣狀，借此高潔凈蒸氣狀的溶劑清洗載具與基板，以獲得較高的清潔度。


有關(guān)本發(fā)明的詳細(xì)內(nèi)容及技術(shù)說明，現(xiàn)配合

如下。
圖1為本發(fā)明有機(jī)電激發(fā)光顯示器載具與基板的清洗方法的示意圖。
圖2為載有有機(jī)電激發(fā)光顯示基板的常用載具。
具體實(shí)施例方式
參見圖1、2，為本發(fā)明有機(jī)電激發(fā)光顯示器載具與基板的清洗方法的示意圖、及載有有機(jī)電激發(fā)光顯示器基板的常用載具。如圖所示首先，將裝載有機(jī)電激發(fā)光顯示器基板T1的載具T置于一預(yù)備清洗單元的承載臺(tái)，并借由傳送滾輪(由于該傳送滾輪為已知的機(jī)械構(gòu)造，故在此不再贅述)送入一刷洗單元10，因該載具T與基板T1在長(zhǎng)時(shí)間放置或搬運(yùn)過程中，會(huì)殘留許多較大顆粒的污染物及氫氧化鉀溶液，因此先經(jīng)由刷洗單元10，將純水噴灑于載具T與基板T1上并進(jìn)行刷洗動(dòng)作，以去除載具T與基板T1上較大顆粒的污染物及氫氧化鉀溶液，而刷洗單元10的出口端設(shè)有風(fēng)刀可將載具T與基板T1上的水份吸干。
再將裝載有機(jī)電激發(fā)光顯示器基板T1的載具T送入一高超聲波清洗單元20，利用高超聲波清洗單元20將載具T與基板T1浸漬于多種交替溶劑中，并以適當(dāng)頻率的超聲波加速震蕩該載具T與基板T1，以去除載具T與基板T1上剩余較小顆粒的污染物及氫氧化鉀溶液。
該載具T與基板T1經(jīng)由上述刷洗單元10及高超聲波清洗單元20清洗后并無法得到良好的潔凈度，因?yàn)榍逑慈軇┲胁豢杀苊獾厝詴?huì)含有少量的微塵污染物，在去除該溶劑后，仍會(huì)有部分微塵污染物殘留在載具T與基板T1上，進(jìn)而影響載具T與基板T1整體潔凈度，導(dǎo)致元件的制程率與可靠度下降。
據(jù)此，本發(fā)明為了使載具T與基板T1表面得到最佳的潔凈度，因此在高超聲波振蕩清洗單元20的流程后，加入至少一種以上的蒸氣清洗單元30，其清洗方法是將載具T與基板T1以特定方位設(shè)置在一蒸氣浴槽中，且該載具T與基板T1的待洗面朝下以利清洗，并將該蒸氣浴槽中的清洗溶劑以特定功率加熱形成蒸氣狀，由于蒸氣狀的溶劑中含有極少的污染物，因此可獲得極為潔凈的蒸氣溶劑，再將蒸氣溶劑以特定方式導(dǎo)流至載具T與基板T1的待洗面，據(jù)此將載具T與基板T1置于蒸氣浴槽中蒸洗一段時(shí)間，當(dāng)蒸氣溶劑流至載具T與基板T1上時(shí)，由于該載具T與基板T1溫度較低，因此該蒸氣溶劑會(huì)冷凝于其表面上，進(jìn)而清除該載具T與基板T1表面所殘留的微塵顆粒及污染物，其后再以熱風(fēng)刀除去溶劑。
最后，經(jīng)由一干燥單元40，利用空氣吹干方式及紅外線加熱方式對(duì)載具T與基板T1表面進(jìn)行吹干、烘烤；再經(jīng)由一改質(zhì)單元50，利用臭氧對(duì)載具T與基板T1表面進(jìn)行氧化，并利用紫化光或電漿光具有高能量的特性，對(duì)載具T與載具T1表面分子進(jìn)行改質(zhì)，以利于制作有機(jī)電激發(fā)光的元件。
以上所述，僅為本發(fā)明較佳實(shí)施例而已，不能以其限定本發(fā)明實(shí)施的范圍，即大凡依本發(fā)明申請(qǐng)專利范圍所作的均等變化與修飾，皆應(yīng)仍屬本發(fā)明專利涵蓋的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種有機(jī)電激發(fā)光顯示器載具與基板的清洗方法，其特征在于該方法包括如下步驟a)將純水噴灑于載具(T)與基板(T1)上并進(jìn)行刷洗動(dòng)作，以去除載具(T)與基板(T1)上較大顆粒的污染物及氫氧化鉀溶液；b)將載具(T)與基板(T1)浸漬于多種交替溶劑中，并以適當(dāng)頻率的超聲波加速震蕩該載具(T)與基板(T1)，以去除剩余較小顆粒的污染物及氫氧化鉀溶液；c)利用一特定功率將清洗溶劑加熱形成蒸氣狀，借由蒸氣狀的溶劑中含有極少的污染物，因此可獲得極為潔凈的蒸氣溶劑，再將此蒸氣溶劑以特定方式導(dǎo)流至載具(T)與基板(T1)的待洗面，借以清除該載具(T)與基板(T1)表面所殘留的微塵顆粒及污染物；d)對(duì)載具(T)與基板(T1)表面進(jìn)行吹干、烘烤。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)電激發(fā)光顯示器載具與基板的清洗方法，其特征在于，該步驟b)將載具(T)與基板(T1)浸漬于多種交替溶劑中，并以超聲波加速震蕩該載具(T)與基板(T1)，去除剩余較小顆粒的污染物及氫氧化鉀溶液中的超聲波溶劑振蕩步驟是至少一種以上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)電激發(fā)光顯示器載具與基板的清洗方法，其特征在于，該步驟c)利用一特定功率將清洗溶劑加熱形成蒸氣狀，借由蒸氣狀的溶劑中含有極少的污染物，因此可獲得極為潔凈的蒸氣溶劑，再將此蒸氣溶劑以特定方式導(dǎo)流至載具(T)與基板(T1)的待洗面，借以清除該載具(T)與基板(T1)表面所殘留的微塵顆粒及污染物的溶劑蒸氣清洗步驟是至少一種以上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)電激發(fā)光顯示器載具與基板的清洗方法，其特征在于，該清洗方法還包括對(duì)載具(T)與基板(T1)表面進(jìn)行氧化，并利用高能量的光線，對(duì)載具(T)與基板(T1)表面的分子進(jìn)行改質(zhì)，以利于制作有機(jī)電激發(fā)光的元件。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的有機(jī)電激發(fā)光顯示器載具與基板的清洗方法，其特征在于該高能量的光線可為紫外光。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的有機(jī)電激發(fā)光顯示器載具(T)與基板(T1)的清洗方法，其特征在于該高能量的光線可為電漿光。
全文摘要
一種有機(jī)電激發(fā)光顯示器載具與基板的清洗方法，其清洗流程為先以純水噴灑于載具或基板上并進(jìn)行刷洗動(dòng)作，以去除基板或載具上較大顆粒的污染物及氫氧化鉀溶液；再將載具或基板浸漬于數(shù)種交替溶劑中，并以超聲波加速震蕩該載具或基板，移除剩余較小顆粒的污染物及氫氧化鉀溶液；再將該載具或基板以特定方位設(shè)置于一蒸氣浴槽中，該蒸氣浴槽中的溶劑以特定功率加熱形成蒸氣狀，借由蒸氣狀的溶劑中含有極少的污染物，獲得極為潔凈的蒸氣溶劑，再將此蒸氣溶劑以特定方式導(dǎo)流至載具或基板的待洗面，以確實(shí)移除該載具或基板表面所殘留的微塵顆粒及污染物；最后再對(duì)載具或基板表面進(jìn)行吹干、烘烤及改質(zhì)作業(yè)，借以得到極為潔凈的有機(jī)電激發(fā)光顯示器載具與基板。
文檔編號(hào)B08B3/12GK1522804SQ0310483
公開日2004年8月25日 申請(qǐng)日期2003年2月19日 優(yōu)先權(quán)日2003年2月19日
發(fā)明者張書文, 林桂雪 申請(qǐng)人:勝園科技股份有限公司