1.具有恒溫功能的富氫足浴盆，包括足浴盆本體，所述足浴盆本體用于盛裝液體，其特征在于，
還包括設(shè)于所述足浴盆本體中的制氫裝置、加熱模塊、控制器和溫度傳感器；
所述制氫裝置用于制得氫氣，所述控制器控制所述制氫裝置工作；
所述加熱模塊用于加熱所述足浴盆本體中的液體，所述溫度傳感器與所述控制器電性連接；
所述溫度傳感器感測(cè)到水溫低于預(yù)設(shè)水溫范圍，所述控制器控制所述加熱模塊工作或所述控制器增大向所述加熱模塊輸入的電流；
所述溫度傳感器感測(cè)到水溫高于預(yù)設(shè)水溫范圍，所述控制器控制所述加熱模塊停止工作或所述控制器減小向所述加熱模塊輸入的電流。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有恒溫功能的富氫足浴盆，其特征在于，還包括與所述控制器電性連接的控制面板；
所述控制面板控制所述控制器控制所述制氫裝置和所述加熱模塊工作。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的具有恒溫功能的富氫足浴盆，其特征在于，所述控制器上設(shè)有無(wú)線通信模塊，移動(dòng)終端通過(guò)所述無(wú)線通信模塊控制所述制氫裝置和所述加熱模塊工作。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有恒溫功能的富氫足浴盆，其特征在于，所述足浴盆本體包括外殼體和內(nèi)殼體；
所述外殼體套設(shè)于所述內(nèi)殼體外，所述內(nèi)殼體上設(shè)有與所述外殼體的內(nèi)腔連通的連通口；
所述制氫裝置設(shè)于所述內(nèi)殼體和所述外殼體之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的具有恒溫功能的富氫足浴盆，其特征在于，所述制氫裝置還包括由上蓋和下蓋組成的電解容腔，所述上蓋和所述下蓋均為絕緣體；
所述上蓋和所述下蓋上設(shè)有多個(gè)與外界連通的鏤空；
所述上蓋設(shè)于所述內(nèi)殼體內(nèi)側(cè)，所述下蓋設(shè)于所述內(nèi)殼體和所述外殼體之間。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的具有恒溫功能的富氫足浴盆，其特征在于，所述制氫裝置包括電解陰極和電解陽(yáng)極，所述電解陰極和所述電解陽(yáng)極均設(shè)于所述上蓋和所述下蓋構(gòu)成的所述電解容腔中；
制氫裝置的電解液為水。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的具有恒溫功能的富氫足浴盆，其特征在于，所述外殼體外側(cè)環(huán)設(shè)有發(fā)光單元。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的具有恒溫功能的富氫足浴盆，其特征在于，所述內(nèi)殼體的底部設(shè)有多個(gè)凸起，所述內(nèi)殼體的側(cè)壁上設(shè)有按摩滾輪。
9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的具有恒溫功能的富氫足浴盆，其特征在于，所述加熱模塊和所述溫度傳感器設(shè)于所述內(nèi)殼體和所述外殼體之間。
10.根據(jù)權(quán)利要求4所述的具有恒溫功能的富氫足浴盆，其特征在于，所述內(nèi)殼體和所述外殼體之間存有間隙。