本發(fā)明涉及美容保健技術(shù)領(lǐng)域，具體而言，涉及具有廢水箱的富氫美膚儀。

背景技術(shù)：

人體進(jìn)行新陳代謝時(shí)，例如每一次呼吸，都需要氧氣，過程中會(huì)產(chǎn)生自由基，并分解成水與二氧化碳，排出體外。但隨著年齡增加，自由基無法自動(dòng)分解，轉(zhuǎn)而攻擊細(xì)胞，造成細(xì)胞損傷與老化，組織器官功能衰退，機(jī)體進(jìn)入衰老狀態(tài)，出現(xiàn)長(zhǎng)痘、皺紋、色斑等一系列肌膚問題，這就是人體氧化反應(yīng)——氧化是肌膚衰老的最大威脅。

富氫水，顧名思義就是富含氫氣的水。英文是hydrogen Rich water，日文是“水素水”。作為一種選擇性抗氧化物質(zhì)，氫氣對(duì)很多疾病具有治療作用，具有十分廣泛的應(yīng)用前景。

近年來，國(guó)內(nèi)市場(chǎng)上富氫水、水素水產(chǎn)品漸多，富氫水、水素水的杯具也有所見，其中采用電解制氫的技術(shù)占有相當(dāng)比例，包括相關(guān)的專利技術(shù)的涌現(xiàn)。在這些電解制氫杯具及其專利技術(shù)中，常見有水平布置的電極結(jié)構(gòu)，如中國(guó)專利:申請(qǐng)?zhí)?01510366113.8、申請(qǐng)?zhí)?01510126957.5、201520051049.X等；也有上下布置的電極結(jié)構(gòu)，如中國(guó)專利:申請(qǐng)?zhí)?01520786526.7等。這兩種布置的電極結(jié)構(gòu)其產(chǎn)品經(jīng)實(shí)驗(yàn)或?qū)嵱?，仍發(fā)現(xiàn)其不足現(xiàn)象。

現(xiàn)有技術(shù)中的富氫水保健產(chǎn)品通常都是供使用者飲用的設(shè)備，使用者需要將富氫水喝入體內(nèi)，經(jīng)過人體新陳代謝才能起到美容、保健作用，因而效果較為緩慢，尤其是對(duì)皮膚的抗衰老效果不明顯。而且，現(xiàn)有的富氫水保健產(chǎn)品通常所制成的氫氣和氧氣均分散在水中，然而，含有氧氣的水被飲用后對(duì)加速人體機(jī)體的老化，對(duì)人體產(chǎn)生一定的潛在危害。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明提供了具有廢水箱的富氫美膚儀。具體地，其技術(shù)方案如下：

具有廢水箱的富氫美膚儀，包括外殼和套設(shè)在所述外殼內(nèi)的制氫裝置，所述制氫裝置包括儲(chǔ)水箱、氫氧分離組件和廢水箱，所述儲(chǔ)水箱具有出液口以及用于將水體霧化的霧化裝置，所述氫氧分離組件設(shè)置在所述儲(chǔ)水箱內(nèi)；

所述氫氧分離組件包括陰極片、陽(yáng)極片和設(shè)置于所述陰極片和所述陽(yáng)極片之間的透水隔氣膜，所述陰極片、所述陽(yáng)極片圍成一電解區(qū)，所述透水隔氣膜用于將所述電解區(qū)分隔成氫產(chǎn)生區(qū)和氧產(chǎn)生區(qū)，所述氫產(chǎn)生區(qū)連通所述出液口，所述氧產(chǎn)生區(qū)連通所述廢水箱。

作為對(duì)技術(shù)方案的改進(jìn)，所述制氫裝置包括上殼組和下殼組，所述下殼組內(nèi)設(shè)置有第一隔板，所述第一隔板的一側(cè)和所述上殼組圍成所述儲(chǔ)水箱，所述廢水箱形成在所述第一隔板的另一側(cè)，所述第一隔板上設(shè)置有用于連通所述氧產(chǎn)生區(qū)和所述廢水箱的第一通孔。

作為對(duì)技術(shù)方案的改進(jìn)，所述制氫裝置還包括控制組件，所述控制組件包括安裝有電氣元件的控制箱和設(shè)置在所述控制箱外表面的控制面板，所述控制箱套設(shè)在所述外殼內(nèi)，且所述控制箱位于所述儲(chǔ)水箱的下方。

作為對(duì)技術(shù)方案的改進(jìn)，所述下殼組在所述第一隔板的另一側(cè)沿所述下殼組的軸向設(shè)置有第二隔板，所述第二隔板將所述下殼組在所述第一隔板的另一側(cè)沿所述軸向分隔成所述廢水箱和所述控制箱。

作為對(duì)技術(shù)方案的改進(jìn)，所述儲(chǔ)水箱的頂部設(shè)置有可拆卸式的儲(chǔ)水箱蓋，所述儲(chǔ)水箱蓋上設(shè)置有所述出液口和用于啟閉所述出液口的控制閥。

作為對(duì)技術(shù)方案的改進(jìn)，所述透水隔氣膜為離子膜、自增濕膜或微濾膜。

作為對(duì)技術(shù)方案的改進(jìn)，所述陰極片和/或所述陽(yáng)極片為鈦片。

作為對(duì)技術(shù)方案的改進(jìn)，所述儲(chǔ)水箱內(nèi)設(shè)置有電解室，所述電解室包括電解室底座和電解室上蓋，所述電解室底座和所述電解室上蓋蓋合以形成一容置所述陰極片、所述透水隔氣膜和所述陽(yáng)極片的容置腔；

所述電解室上蓋具有通孔，用于連通所述氫產(chǎn)生區(qū)和所述出液口。

作為對(duì)技術(shù)方案的改進(jìn)，所述電解室還包括用于安裝陽(yáng)極片并且設(shè)置于所述電解區(qū)外的陽(yáng)極安裝蓋；

所述電解室還包括用于安裝陰極片并且設(shè)置于所述電解區(qū)外的陰極安裝蓋。

作為對(duì)技術(shù)方案的改進(jìn)，所述電解室上蓋和所述陰極安裝蓋之間設(shè)置有若干墊片；

和/或，所述陽(yáng)極片和所述陽(yáng)極安裝蓋之間設(shè)置有陽(yáng)極密封圈，所述陰極片和所述陰極安裝蓋之間設(shè)置有陰極密封圈；

和/或，所述電解室底座和所述電解室上蓋之間設(shè)置有電解室蓋內(nèi)密封圈。

本發(fā)明至少具有以下有益效果：

(1)在制氫時(shí)，陰極片產(chǎn)生的氫氣富集在氫產(chǎn)生區(qū)，陽(yáng)極片產(chǎn)生的氧氣富集在氧產(chǎn)生區(qū)，透水隔氣膜阻隔了氫氣向氧產(chǎn)生區(qū)的擴(kuò)散以及阻隔了氧氣向氫產(chǎn)生區(qū)的擴(kuò)散，由此達(dá)到了氫氣和氧氣的分離；

(2)通過將富氫水霧化后從出液口噴出或流出，可以直接將富氫水噴涂到皮膚上，阻止皮膚發(fā)生氧化，延緩皮膚衰老。

(3)還設(shè)計(jì)了廢水箱結(jié)構(gòu)，不但能夠存儲(chǔ)、排出廢水，而且結(jié)構(gòu)緊湊。

為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉較佳實(shí)施例，并配合所附附圖，作詳細(xì)說明如下。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，應(yīng)當(dāng)理解，以下附圖僅示出了本發(fā)明的某些實(shí)施例，因此不應(yīng)被看作是對(duì)范圍的限定，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他相關(guān)的附圖。

圖1是本發(fā)明實(shí)施例中富氫美膚儀中的前示圖；

圖2是本發(fā)明實(shí)施例中富氫美膚儀的整體爆炸圖；

圖3是本發(fā)明實(shí)施例中氫氧分離組件的爆炸圖；

圖4是本發(fā)明實(shí)施例中廢水箱的第一示意圖；

圖5是本發(fā)明實(shí)施例中廢水箱的第二示意圖；

圖6是本發(fā)明實(shí)施例中廢水箱的第三示意圖；

圖7是本發(fā)明實(shí)施例中陽(yáng)極片的示意圖。

主要元件符號(hào)說明：

2000-外殼，0100-儲(chǔ)水箱，0110-儲(chǔ)水箱蓋，0120-彈性密封片，0200-氫氧分離組件，0210-電解室底座，0220-電解室上蓋，0231-陽(yáng)極片，0232-陰極片，0241-陽(yáng)極安裝蓋，0242-陰極安裝蓋，0251-陽(yáng)極密封圈，0252-陰極密封圈，0253-電解室蓋內(nèi)密封圈，0260-墊片，0270-透水隔氣膜，0300-霧化裝置，0400-控制箱，0500-控制面板，0600-廢水箱，0610-廢水腔，0620-第一隔板，0630-安裝環(huán)，0640-觀察孔，0650-第一通孔，0660-第二隔板。

具體實(shí)施方式

在下文中，將更全面地描述本發(fā)明的各種實(shí)施例。本發(fā)明可具有各種實(shí)施例，并且可在其中做出調(diào)整和改變。然而，應(yīng)理解：不存在將本發(fā)明的各種實(shí)施例限于在此公開的特定實(shí)施例的意圖，而是應(yīng)將本發(fā)明理解為涵蓋落入本發(fā)明的各種實(shí)施例的精神和范圍內(nèi)的所有調(diào)整、等同物和/或可選方案。

在下文中，可在本發(fā)明的各種實(shí)施例中使用的術(shù)語“包括”或“可包括”指示所公開的功能、操作或元件的存在，并且不限制一個(gè)或更多個(gè)功能、操作或元件的增加。此外，如在本發(fā)明的各種實(shí)施例中所使用，術(shù)語“包括”、“具有”及其同源詞僅意在表示特定特征、數(shù)字、步驟、操作、元件、組件或前述項(xiàng)的組合，并且不應(yīng)被理解為首先排除一個(gè)或更多個(gè)其它特征、數(shù)字、步驟、操作、元件、組件或前述項(xiàng)的組合的存在或增加一個(gè)或更多個(gè)特征、數(shù)字、步驟、操作、元件、組件或前述項(xiàng)的組合的可能性。

在本發(fā)明的各種實(shí)施例中，表述“或”或“A或/和B中的至少一個(gè)”包括同時(shí)列出的文字的任何組合或所有組合。例如，表述“A或B”或“A或/和B中的至少一個(gè)”可包括A、可包括B或可包括A和B二者。

在本發(fā)明的各種實(shí)施例中使用的表述(諸如“第一”、“第二”等)可修飾在各種實(shí)施例中的各種組成元件，不過可不限制相應(yīng)組成元件。例如，以上表述并不限制所述元件的順序和/或重要性。以上表述僅用于將一個(gè)元件與其它元件區(qū)別開的目的。例如，第一用戶裝置和第二用戶裝置指示不同用戶裝置，盡管二者都是用戶裝置。例如，在不脫離本發(fā)明的各種實(shí)施例的范圍的情況下，第一元件可被稱為第二元件，同樣地，第二元件也可被稱為第一元件。

應(yīng)注意到：在本發(fā)明中，除非另有明確的規(guī)定和定義，“安裝”、“連接”、“固定”等術(shù)語應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接、也可以是可拆卸連接、或者一體地連接；可以是機(jī)械連接，也可以是電連接；可以是直接連接，也是可以通過中間媒介間接相連；可以是兩個(gè)元件內(nèi)部的連通。對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以根據(jù)具體情況理解上述術(shù)語在本發(fā)明中的具體含義。

在本發(fā)明中，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員需要理解的是，文中指示方位或者位置關(guān)系的術(shù)語為基于附圖所示的方位或者位置關(guān)系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡(jiǎn)化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或者元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對(duì)本發(fā)明的限制。

在本發(fā)明的各種實(shí)施例中使用的術(shù)語僅用于描述特定實(shí)施例的目的并且并非意在限制本發(fā)明的各種實(shí)施例。如在此所使用，單數(shù)形式意在也包括復(fù)數(shù)形式，除非上下文清楚地另有指示。除非另有限定，否則在這里使用的所有術(shù)語(包括技術(shù)術(shù)語和科學(xué)術(shù)語)具有與本發(fā)明的各種實(shí)施例所屬領(lǐng)域普通技術(shù)人員通常理解的含義相同的含義。所述術(shù)語(諸如在一般使用的詞典中限定的術(shù)語)將被解釋為具有與在相關(guān)技術(shù)領(lǐng)域中的語境含義相同的含義并且將不被解釋為具有理想化的含義或過于正式的含義，除非在本發(fā)明的各種實(shí)施例中被清楚地限定。

實(shí)施例

請(qǐng)參閱圖1，具有廢水箱的富氫美膚儀，包括外殼2000，在本實(shí)施例中，外殼2000具有多種結(jié)構(gòu)形式。圖1、圖2示出了一種示例性的結(jié)構(gòu)形式，其主體結(jié)構(gòu)大致為圓筒狀，該圓筒狀的外殼2000的頂部和側(cè)部分別設(shè)置有開口，用于安裝富氫美膚儀的其它部件。

如圖2所示，富氫美膚儀還包括套設(shè)在外殼2000內(nèi)的制氫裝置，該制氫裝置用于制成富氫水。具體地，制氫裝置包括儲(chǔ)水箱0100、氫氧分離組件0200和廢水箱0600。

作為一種示例性的儲(chǔ)水箱0100，圖2中的儲(chǔ)水箱0100也構(gòu)造為圓筒狀，該圓筒狀的儲(chǔ)水箱0100套裝在外殼2000內(nèi)。儲(chǔ)水箱0100具有出液口以及用于將水體霧化的霧化裝置0300，氫氧分離組件0200設(shè)置在儲(chǔ)水箱0100內(nèi)。

具體地，本實(shí)施例中的出液口，是指設(shè)置在儲(chǔ)水箱0100上可以將富氫水輸出的開口。其結(jié)構(gòu)形式可以是泵吸式的，也可以是自然流出式的。

優(yōu)選地，出液口設(shè)置有控制閥，用于啟閉出液口。通過設(shè)置控制閥，使用者可以根據(jù)實(shí)際需要打開出液口，尤其適用于出液口為自然流出式的出液口。

優(yōu)選地，儲(chǔ)水箱0100的頂部設(shè)置有可拆卸式的儲(chǔ)水箱蓋0110，出液口和控制閥設(shè)置在儲(chǔ)水箱蓋0110上。為了確保密封性，儲(chǔ)水箱蓋0110和儲(chǔ)水箱0100之間設(shè)置有彈性密封片0120。

作為一種優(yōu)選的霧化裝置0300，圖2中示出的霧化裝置0300包括超聲波霧化片。超聲波霧化片主要利用電子高頻震蕩，在頻率為1.7MH或2.4MHZ的范圍，能超過人的聽覺范圍，在人體及動(dòng)物無傷害的情況下。通過超聲波霧化片的高頻諧振，將液態(tài)水分子結(jié)構(gòu)打散而產(chǎn)生自然飄逸的水霧，不需要加熱或添加任何化學(xué)試劑。與加熱霧化方式比較，能夠節(jié)約能源達(dá)90％。

如圖3所示，氫氧分離組件0200包括陰極片0232、陽(yáng)極片0231和設(shè)置于陰極片0232和陽(yáng)極片0231之間的透水隔氣膜0270。陰極片0232、陽(yáng)極片0231圍成一電解區(qū)，透水隔氣膜0270用于將電解區(qū)分隔成氫產(chǎn)生區(qū)和氧產(chǎn)生區(qū)，氫產(chǎn)生區(qū)連通出液口，氧產(chǎn)生區(qū)連通廢水箱0600。

上述實(shí)施例中，在制氫時(shí)，陰極片0232產(chǎn)生的氫氣富集在氫產(chǎn)生區(qū)，陽(yáng)極片0231產(chǎn)生的氧氣富集在氧產(chǎn)生區(qū)，透水隔氣膜0270阻隔了氫氣向氧產(chǎn)生區(qū)的擴(kuò)散以及阻隔了氧氣向氫產(chǎn)生區(qū)的擴(kuò)散，由此達(dá)到了氫氣和氧氣的分離。

在本實(shí)施例中，術(shù)語“電解區(qū)”是指具有電流通過的區(qū)域。

上述透水隔氣膜0270是指具有透水隔氣功能的膜。需要注意的是，此處隔氣是指隔離以氣泡形式存在的氣體，而非以分子狀態(tài)存在。電解水所產(chǎn)生的氫氣的機(jī)理是，水中的氫離子在陰極片0232上得到電子而發(fā)生還原反應(yīng)產(chǎn)生氣相，由于氣相與水相之間的界面差，所以生產(chǎn)的氫氣以氫氣泡分散在水中。以陰極的電流密度為2～6mA/cm²、電解在常壓下和電解水為中性為例，所產(chǎn)生的氫氣泡的尺寸呈高斯隨機(jī)分布在20～80微米范圍內(nèi)。陽(yáng)極片0231產(chǎn)生的氧氣也以氣泡的形式存在，以陽(yáng)極電流密度為2～6mA/cm2并且電解在常壓下為例，所產(chǎn)生的氣泡分布在40～100微米范圍內(nèi)。因此，透水隔氣膜0270的實(shí)現(xiàn)形式可以是具有截留尺寸小于氫氣泡和氧氣泡大小的任何形式的膜，即具有截留尺寸(或稱為濾孔)在10微米以下。

具體而言，作為其中一種實(shí)施方式，透水隔氣膜0270為離子膜。離子膜是一種含離子基團(tuán)的、對(duì)溶液里的離子具有選擇透過能力的高分子膜。因?yàn)橐话阍趹?yīng)用時(shí)主要是利用它的離子選擇透過性，所以也稱為離子選擇透過性膜。本實(shí)施例中的離子膜為對(duì)氫離子具有選擇透過性的離子膜。

作為另外的實(shí)施方式，透水隔氣膜0270可以為截留尺寸(或稱為濾孔)在10微米以下的濾膜。例如，微濾膜。微濾膜是指濾孔徑在0.1～1微米之間的過濾膜。微濾膜可以使用無機(jī)膜和有機(jī)高分子膜。無機(jī)膜可以為陶瓷膜和金屬膜。有機(jī)高分子膜可以為天然高分子膜和合成高分子膜，例如聚偏氟乙烯(PVDF)、聚砜(PSF)、聚丙烯腈(PAN)、聚氯乙烯(PVC)、聚丙烯(PP)等。根據(jù)膜的形式又分為平板膜、管式膜、卷式膜和中空纖維膜；根據(jù)制膜原理，高分子膜的制備方法分為溶出法(干-濕法)、拉伸成孔法、相轉(zhuǎn)化法、熱致相法，浸涂法、輻照法、表面化學(xué)改性法、核徑跡法、動(dòng)力形成法等，無機(jī)膜的制備方法主要有溶膠—凝膠法、燒結(jié)法、化學(xué)沉淀法等。溶劑理解的是，此處采用的是具有絕緣性的微濾膜，較佳是有機(jī)高分子微濾膜。當(dāng)然，濾膜還可以使用超濾膜等。

作為另外的實(shí)施方式，透水隔氣膜0270為自增濕膜。自增濕膜是能允許液體水透過而其它介質(zhì)無法通過的膜。自增濕膜可使用親水物質(zhì)(例如二氧化鈦、二氧化硅、三氧化二鋁粒子摻雜修飾的nafion膜)。

在本實(shí)施例中，陰極片0232、透水隔氣膜0270和陽(yáng)極片0231三者可以不抵接，也可以是三者抵接的方式，例如陰極片0232、透水隔氣膜0270和陽(yáng)極片0231依次疊加設(shè)置。

這里，“疊加設(shè)置”可以理解的是指多個(gè)具有層結(jié)構(gòu)的物件(例如薄膜等)采用一者貼合于另一者表面的堆疊方式。以A、B、C、D依次疊加設(shè)置為例，是指A的一個(gè)表面設(shè)置B、B的表面設(shè)置C、C的表面設(shè)置D，即按照某一方向(例如從上至下)，A、B、C、D依次排列。

陰極片0232和陽(yáng)極片0231可以是鈦片。為了增強(qiáng)陰極片0232和陽(yáng)極片0231的活性，可以在表面涂覆一些氧化物，如中國(guó)專利CN104562078A，具體為：涂層至少包含底層涂層和表層涂層，底層涂層包含鈦氧化物、銥氧化物和釕氧化物，表層涂層包含銥氧化物、釕氧化物、鈦氧化物、以及鈀、鉑中的一種或兩種元素的金屬或氧化物。底層涂層中釕、銥和鈦的摩爾百分比為：釕：銥：鈦＝30～50％：10～25％：30～45％；表層涂層中釕、銥、鈦和鈀的摩爾百分比為：釕：銥：鈦：鈀＝30～50％：10～25％：30～45％：2.5～20％。底層涂層中釕、銥和鈦的摩爾百分比為：釕：銥：鈦＝30～50％：10～25％：30～45％；表層涂層中釕、銥、鈦和鉑的摩爾百分比為：釕：銥：鈦：鉑＝30～50％：10～25％：30～45％：2.5～20％。底層涂層中釕、銥和鈦的摩爾百分比為：釕：銥：鈦＝30～50％：10～25％：30～45％；表層涂層中釕、銥、鈦、鈀和鉑的摩爾百分比為：釕：銥：鈦：鈀：鉑＝30～50％：10～25％：30～45％：2.5～20％：2.5～20％。底層涂層中還包括鋯氧化物，底層涂層中釕、銥、鈦和鋯的摩爾百分比為：釕：銥：鈦：鋯＝30～50％：10～25％：30～45％：2～10％；表層涂層中釕、銥、鈦和鈀的摩爾百分比為：釕：銥：鈦：鈀＝30～50％：10～25％：30～45％：2.5～20％。底層涂層中還包括鋯氧化物，底層涂層中釕：銥：鈦和鋯的摩爾比百分為：釕：銥：鈦：鋯＝30～50％：10～25％：30～45％：2～10％；表層涂層中釕、銥、鈦和鉑的摩爾百分比為，釕：銥：鈦：鉑＝30～50％：10～25％：30～45％：2.5～20％。底層涂層中還包括鋯氧化物，底層涂層中釕：銥：鈦和鋯的摩爾百分比為釕：銥：鈦：鋯＝30～50％：10～25％：30～45％：2～10％；表層涂層中釕、銥、鈦、鈀和鉑的摩爾百分比為，釕：銥：鈦：鈀：鉑＝30～50％：10～25％：30～45％：2.5～20％：2.5～20％。底層涂層的厚度為5～15微米，表層涂層的厚度為1～5微米。

如圖7所示，陰極片0232和陽(yáng)極片0231可設(shè)置多孔，例如可設(shè)置蜂窩結(jié)構(gòu)，以保證與水接觸的充分性。

作為一種優(yōu)選的氫氧分離組件0200安裝結(jié)構(gòu)，儲(chǔ)水箱0100內(nèi)設(shè)置有電解室，電解室包括電解室底座0210和電解室上蓋0220，電解室底座0210和電解室上蓋0220蓋合以形成一容置陰極片0232、陽(yáng)極片0231和透水隔氣膜0270的容置腔。

優(yōu)選地，電解室還包括用于安裝陽(yáng)極片0231并且設(shè)置于電解區(qū)外的陽(yáng)極安裝蓋0241。電解室還包括用于安裝陰極片0232并且設(shè)置于電解區(qū)外的陰極安裝蓋0242。陰極安裝蓋0242和陽(yáng)極安裝蓋0241蓋合以容置陰極片0232、陽(yáng)極片0231和透水隔氣膜0270。

優(yōu)選地，電解室上蓋0220和陰極安裝蓋0242之間設(shè)置有若干墊片0260。通過設(shè)置墊片0260能夠起到防滑的作用。

優(yōu)選地，陽(yáng)極片0231和陽(yáng)極安裝蓋0241之間設(shè)置有陽(yáng)極密封圈0251，陰極片0232和陰極安裝蓋0242之間設(shè)置有陰極密封圈0252。

優(yōu)選地，電解室底座0210和電解室上蓋0220之間設(shè)置有電解室蓋內(nèi)密封圈0253。

在本實(shí)施例中，如圖2、圖4、圖5和圖6所示，作為一種優(yōu)選的廢水箱0600形成方式，制氫裝置包括上殼組和下殼組，下殼組內(nèi)設(shè)置有第一隔板0620，第一隔板0620的一側(cè)和上殼組圍成儲(chǔ)水箱0100。廢水箱0600形成在第一隔板0620的另一側(cè)，第一隔板0620上設(shè)置有用于連通氧產(chǎn)生區(qū)和廢水箱0600的第一通孔0650。

具體地，對(duì)于圓筒狀的上殼組和下殼組，第一隔板0620構(gòu)造為圓盤狀。第一隔板0620的一側(cè)設(shè)置若干個(gè)安裝環(huán)0630。若干個(gè)安裝環(huán)0630構(gòu)成卡槽結(jié)構(gòu)與電解室底座0210上的卡接結(jié)構(gòu)卡接，以形成良好密封。最內(nèi)圈安裝環(huán)0630所圍成的區(qū)域構(gòu)成本實(shí)施例的電解區(qū)，第一通孔0650形成在電解區(qū)內(nèi)。

在本實(shí)施例中，制氫裝置還包括控制組件，控制組件包括安裝有電氣元件的控制箱0400和設(shè)置在控制箱0400外表面的控制面板0500?？刂葡?400套設(shè)在外殼2000內(nèi)，且控制箱0400位于儲(chǔ)水箱0100的下方。

優(yōu)選地，下殼組在第一隔板0620的另一側(cè)沿下殼組的軸向設(shè)置有第二隔板0660，第二隔板0660將下殼組在第一隔板0620的另一側(cè)沿軸向分隔成廢水箱0600和控制箱0400。第二隔板0660和廢水箱0600的外殼圍成一廢水腔0610用于存儲(chǔ)廢水。

優(yōu)選地，廢水箱0600的外表面設(shè)置有觀察孔0640。觀察孔0640用于觀察廢水箱中的水位，以提示使用者及時(shí)打開廢水箱0600底部的閥門，將廢水排出。

作為一種示例性的廢水箱0600用的閥門，該閥門為旋鈕式閥門，例如構(gòu)造為帶螺柱的蓋子。相應(yīng)地，廢水箱0600的底部設(shè)置有螺紋孔。通過取下與擰緊蓋子可以啟閉廢水箱的排水結(jié)構(gòu)。

在本實(shí)施例中，電解室底座0210和電解室上蓋0220之間，電解室內(nèi)部結(jié)構(gòu)的安裝，儲(chǔ)水箱0100和儲(chǔ)水箱蓋0110之間的安裝，以及控制箱0400和廢水箱0600之間的安裝，可以采用可拆卸方式，以方便對(duì)陰極片0232、陽(yáng)極片0231和透水隔氣膜0270等部件的更換?？刹鹦兜姆绞?，可以是緊固件、滑接件、卡接件。此處，緊固件可列舉出法蘭件、螺接件等。

可舉出上述卡接件的一種實(shí)施結(jié)構(gòu)，具體為：卡接件包括設(shè)置于第一安裝件的卡扣和設(shè)置于第二安裝件的卡孔，該卡扣與卡孔相配合。卡扣包括設(shè)置于第一安裝件的連接部以及位于連接部一端的彈性的卡扣部，卡孔周圍環(huán)繞有彈性的卡持部?？鄄繛橐磺蝮w，卡扣為中空結(jié)構(gòu)，形成有自連接部延伸至卡扣部的育孔，從而允許該第一卡扣件受到擠壓時(shí)發(fā)生彈性形變?？劭膳c第一安裝件一體成型。卡持部形成有多個(gè)缺口，缺口將卡持部分隔成相互獨(dú)立的卡持，從而使卡持部在受到外力作用時(shí)產(chǎn)生彈性形變?？劭椎闹睆叫∮诳鄄康那驈健？鄄坎迦肟讜r(shí)，卡持塊受到卡扣部的推力發(fā)生彈性變形向外擴(kuò)張，使卡扣部穿過卡扣孔?？鄄看┻^卡孔，卡持塊及卡扣部均恢復(fù)原狀，卡扣部被卡持塊阻擋于卡孔外以將第一安裝件與第二安裝件固定?？ǔ植慷瞬啃纬捎械菇?，以便拆卸第一殼體與第二安裝件時(shí)使卡扣部在外力作用下易于回至卡孔內(nèi)。

上述卡接件還可列舉第二種實(shí)施結(jié)構(gòu)(圖中未示出)。具體為：卡接件可包括卡舌和卡扣?？ㄉ喟ǖ谝豢ú?、第二卡槽和位于第一卡槽和第二卡槽之間的鉤形的鉤體，該第一卡槽、第二卡槽、鉤槽均為彈性的結(jié)構(gòu)的槽?？郯ǖ谝徊鍡l、第二插條和位于第一插條、第二插條之間的鉤槽。該第一卡槽、第二卡槽、鉤槽均為彈性的槽。該第一卡槽、第二卡槽、鉤槽均為彈性的槽。當(dāng)要實(shí)現(xiàn)卡舌同卡扣的卡緊時(shí)，該第一插條插入第一卡槽內(nèi)，第二插條插入第二卡槽內(nèi)，鉤體插入鉤槽，第一卡槽、第二卡槽、鉤槽的彈性保證第一插條、第二插條和鉤體的緊密接觸而達(dá)到了卡緊效果。

上述卡接件還可列舉第三種實(shí)施結(jié)構(gòu)(圖中未示出)。具體為：卡接件可包括卡座和卡舌，該卡座和卡舌相配合。于此，卡座和卡舌的形狀不做特別的限定，其結(jié)構(gòu)的實(shí)施方式有很多。其中第一種實(shí)施方式為應(yīng)用于背包帶的卡扣。具體為，卡座包括一卡槽?？ㄉ嗫蔀镋字型，也就是說，該結(jié)構(gòu)的卡舌包括第一插條、第三插條，和位于第一插條、第三插條之間的第二插條，第一插條和第三插條為彈性結(jié)構(gòu)，在外力作用下二者可向第二插條靠攏，撤銷外力后，二者回復(fù)到原來的位置。第二插條可為彈性結(jié)構(gòu)，也可為非彈性。與插舌結(jié)構(gòu)對(duì)應(yīng)地，卡槽的前部要寬于后部。此處，“前”指沿插舌進(jìn)入方向。卡槽前部的寬度要略小于插舌的寬度，卡槽的后部寬度要明顯地小于插舌的寬度，如此可使得卡舌插入卡槽的過程中，當(dāng)進(jìn)入至卡槽的前部時(shí)，第一插條和第三插條被壓縮向第二插條靠攏，當(dāng)進(jìn)入至卡槽的后部時(shí)，由于卡槽的厚度為開放體，第一插條和第三插條自動(dòng)向外彈開以從卡座內(nèi)外露出?？ú鄣漠?dāng)要實(shí)現(xiàn)卡舌和卡座的卡扣時(shí)，將卡舌插入卡槽中，這時(shí)，第一插條和第三插條外露于卡座；當(dāng)要實(shí)現(xiàn)卡舌和卡座的拆卸時(shí)，只需捏合第一插條和第三插條以使得卡舌拔出于卡槽。

滑接件可包括設(shè)置在滑舌和與該滑舌配合以供滑舌滑動(dòng)的滑軌?；壍男问娇闪信e出二種，第一種是兩條平行的凸條，凸條之間形成供滑舌卡入的滑動(dòng)腔。為了使得滑舌更好地卡入滑動(dòng)腔內(nèi)，滑動(dòng)腔為“凸”字形，于此對(duì)應(yīng)地，滑舌也為該“凸”字形?；壍牡诙N形式為開設(shè)在底座內(nèi)部的滑孔。同理地，為了使得滑舌更好地卡入滑孔內(nèi)，滑孔為“凸”字形，于此對(duì)應(yīng)地，滑舌也為該“凸”字形?；嗪突壷兄辽僖徽呖蔀閺椥越Y(jié)構(gòu)。即，滑舌為可發(fā)生彈性形變的材質(zhì)制成，諸如以丁腈橡膠、三元乙丙橡膠等為代表的高彈性模量的橡膠材質(zhì)，滑軌為剛性的金屬材質(zhì)?；蛘叩兀墳榭砂l(fā)生彈性形變的材質(zhì)制成，滑舌為剛性的金屬材質(zhì)?；蛘叩兀呔鶠榭砂l(fā)生彈性形變的材質(zhì)制成。

除此，本實(shí)施例中的富氫美膚儀還可包括如本領(lǐng)域其它的結(jié)構(gòu)部件，例如用于提供電解所需源相關(guān)控制電路(基于恒流或恒壓的目的)、支架等。于此不再詳述。

上述未述及之處，適用于現(xiàn)有技術(shù)。

盡管以上較多使用了表示結(jié)構(gòu)的術(shù)語，例如“透水隔氣膜”、“氫產(chǎn)生區(qū)”、“氧產(chǎn)生區(qū)”等，但并不排除使用其它術(shù)語的可能性。使用這些術(shù)語僅僅是為了更方便地描述和解釋本發(fā)明的本質(zhì)；把它們解釋成任何一種附加的限制都是與本發(fā)明精神相違背的。

本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解附圖只是一個(gè)優(yōu)選實(shí)施場(chǎng)景的示意圖，附圖中的模塊或流程并不一定是實(shí)施本發(fā)明所必須的。

本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解實(shí)施場(chǎng)景中的裝置中的模塊可以按照實(shí)施場(chǎng)景描述進(jìn)行分布于實(shí)施場(chǎng)景的裝置中，也可以進(jìn)行相應(yīng)變化位于不同于本實(shí)施場(chǎng)景的一個(gè)或多個(gè)裝置中。上述實(shí)施場(chǎng)景的模塊可以合并為一個(gè)模塊，也可以進(jìn)一步拆分成多個(gè)子模塊。

上述本發(fā)明序號(hào)僅僅為了描述，不代表實(shí)施場(chǎng)景的優(yōu)劣。

以上公開的僅為本發(fā)明的幾個(gè)具體實(shí)施場(chǎng)景，但是，本發(fā)明并非局限于此，任何本領(lǐng)域的技術(shù)人員能思之的變化都應(yīng)落入本發(fā)明的保護(hù)范圍。