校正模體、位置和放射源信息校正方法及裝置制造方法
【專利摘要】一種校正模體、位置和放射源的信息校正方法及裝置，所述校正模體包括:設(shè)置于所述放射源和成像面板之間的模體本體和設(shè)置在所述模體本體中的探測單元，所述探測單元適于測量所述成像面板與所述放射源之間的相對幾何位置以及所述放射源發(fā)射的射線信息，并通過位于所述模體本體中的支撐裝置設(shè)置于所述模體本體上。上述的方案可以同時(shí)實(shí)現(xiàn)對于放射源和成像面板之間的相對幾何位置以及所述放射源發(fā)射的射線的信息進(jìn)行校正。
【專利說明】校正模體、位置和放射源信息校正方法及裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及醫(yī)療【技術(shù)領(lǐng)域】，特別是涉及一種校正模體及通過該校正模體進(jìn)行位置和放射源的信息校正的方法及裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]模體，是具有特定功能的或作為一個獨(dú)立結(jié)構(gòu)域一部分的相鄰的二級結(jié)構(gòu)的聚合體。利用放射源發(fā)射的射線照射模體，并通過設(shè)置在模體之后的成像面板上射線的不同程度的衰減所形成的圖像，以確定在實(shí)際的病人治療中施加到病人特定組織上的輻射劑量，是醫(yī)學(xué)領(lǐng)域中對于模體的普遍應(yīng)用。
[0003]現(xiàn)有技術(shù)中一般采用在模體中安裝吸收球體的方式，來獲取放射源發(fā)出的射線的信息。但是，現(xiàn)有技術(shù)中的模體無法同時(shí)對放射源和探測單元之間的位置和放射源發(fā)射的射線信息進(jìn)行校正。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明實(shí)施例解決的是如何采用模體本體同時(shí)對放射源和探測單元之間的位置以及放射源的射線信息同時(shí)進(jìn)行校正。
[0005]為解決上述問題，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種校正模體，所述校正模體包括:
[0006]設(shè)置于所述放射源和成像面板之間的模體本體和設(shè)置在所述模體本體中的探測單元，所述探測單元適于測量所述成像面板與所述放射源之間的相對幾何位置以及所述放射源發(fā)射的射線信息，并通過位于所述模體本體中的支撐裝置設(shè)置于所述模體本體上。
[0007]可選地，所述模體本體包括平行設(shè)置的切面，所述支撐裝置的下端安裝有所述探測單元，并固定于所述切面上。
[0008]可選地，所述切面之間的距離大于等于第一交點(diǎn)到第一切面之間的距離，所述第一交點(diǎn)為所述模體本體上距離所述放射源最遠(yuǎn)的點(diǎn)與所述放射源所在的幾何坐標(biāo)位置之間的連線，與所述模體本體的表面的交點(diǎn)，所述第一切面為所述模體本體中距離所述放射源最遠(yuǎn)的點(diǎn)所在的與所述水平面垂直的垂直面。
[0009]可選地，所述探測單元包括電離室、半導(dǎo)體探頭或者熱釋光片，所述探測單元適于測量所述成像面板與所述放射源之間的相對幾何位置以及所述放射源發(fā)射的射線的信息，包括:
[0010]通過電離室、半導(dǎo)體探頭或者熱釋光片的幾何位置信息測量所述成像面板與所述放射源之間的相對幾何位置，并通過所述電離室、半導(dǎo)體探頭或者熱釋光片測量所述放射源發(fā)射的射線信息。
[0011]可選地，所述探測單元適于測量所述成像面板與所述放射源之間的相對幾何位置以及所述放射源發(fā)射的射線的信息，包括:
[0012]采用第一組探測單元的幾何位置信息測量所述成像面板與所述放射源之間的相對幾何位置的信息；
[0013]采用第二組探測單元測量所述放射源發(fā)射的射線的信息，所述第二組探測單元包括電離室、半導(dǎo)體探頭或者熱釋光片。
[0014]本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種位置校正方法，所述方法包括:
[0015]采用上述的校正模體進(jìn)行射線成像；
[0016]獲取所述成像面板與所述放射源之間的相對幾何位置的信息；
[0017]根據(jù)所獲取的成像面板與所述放射源之間的相對幾何位置的信息，對所述成像面板的幾何位置進(jìn)行校正。
[0018]可選地，所述獲取成像面板與所述放射源之間的相對幾何位置的信息，包括:獲取所述校正模體中探測單元在所述成像面板上所成的射線圖像的幾何位置信息。
[0019]可選地，所述根據(jù)所獲取的成像面板與所述放射源之間的相對幾何位置的信息，對所述成像面板的幾何位置進(jìn)行校正，包括:
[0020]將所獲取的探測單元在所述成像面板上所成的射線圖像的幾何位置與目標(biāo)位置進(jìn)行比較，得到幾何位置校正信息；
[0021]采用所得到的幾何位置校正信息，對所述成像面板的幾何位置進(jìn)行校正。
[0022]本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種放射源信息校正方法，所述方法包括:
[0023]采用上述的校正模體探測所述放射源的射線信息，所述放射源的射線信息包括放射源發(fā)射的射線的強(qiáng)度或者劑量；
[0024]根據(jù)探測得到的所述放射源的射線信息與所述放射源的目標(biāo)射線信息，對所述放射源發(fā)出的射線進(jìn)行校正，直至所述放射源的射線信息為所述放射源的目標(biāo)射線信息。
[0025]可選地，所述采用上述的校正模體探測所述放射源的射線信息，包括:利用所述校正模體中的探測單元探測所述放射源的射線信息。
[0026]本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種位置校正裝置，其特征在于，包括:
[0027]第一獲取單元，適于采用上述的校正模體獲取所述成像面板與所述放射源之間的相對幾何位置的信息；
[0028]第一校正單元，適于根據(jù)所獲取的成像面板與所述放射源之間的相對幾何位置的信息，對所述成像面板的幾何位置進(jìn)行校正。
[0029]可選地，所述第一獲取單元適于獲取所述校正模體中探測單元在所述成像面板上所成的射線圖像的幾何位置信息。
[0030]可選地，所述第一校正單元包括:
[0031]比較子單元，適于將所獲取的探測單元在所述成像面板上所成的射線圖像的幾何位置與目標(biāo)位置進(jìn)行比較，得到幾何位置校正信息；
[0032]校正子單元，適于采用所得到的幾何位置校正信息對所述成像面板的幾何位置進(jìn)行校正。
[0033]本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種放射源信息校正裝置，所述裝置包括:
[0034]第二獲取單元，適于上述的校正模體探測所述放射源的射線信息，所述放射源的射線信息包括放射源發(fā)射的射線強(qiáng)度或者劑量；
[0035]第二校正單元，適于根據(jù)探測得到的所述放射源的射線信息與所述放射源的目標(biāo)射線信息，對所述放射源發(fā)出的射線進(jìn)行校正，直至所述放射源的射線信息為所述放射源的目標(biāo)射線信息。
[0036]可選地，所述第二獲取單元適于利用所述校正模體中的探測單元探測所述放射源的射線信息。
[0037]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的技術(shù)方案具有以下的優(yōu)點(diǎn):
[0038]通過設(shè)置于所述模體本體上的探測單元，探測放射源和探測單元之間的位置信息以及所述放射源發(fā)射的射線信息，可以同時(shí)對于放射源和成像面板之間的相對幾何位置以及所述放射源發(fā)射的射線的信息進(jìn)行校正，結(jié)構(gòu)簡單，方便實(shí)用。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0039]圖1是本發(fā)明實(shí)施例中的一種校正模體的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0040]圖2是本發(fā)明實(shí)施例中的一種位置校正方法的流程圖；
[0041]圖3是本發(fā)明實(shí)施例中的一種放射源信息校正方法的流程圖；
[0042]圖4是本發(fā)明實(shí)施例中的一種位置校正裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0043]圖5是本發(fā)明實(shí)施例中的一種放射源信息校正裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0044]為解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述問題，本發(fā)明實(shí)施例采用的技術(shù)方案通過設(shè)置于所述模體本體上的探測單元，探測放射源和探測單元之間的位置信息以及所述放射源發(fā)射的射線信息，可以同時(shí)對于放射源和成像面板之間的相對幾何位置以及所述放射源發(fā)射的射線信息進(jìn)行校正。
[0045]為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更為明顯易懂，下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實(shí)施例做詳細(xì)的說明。
[0046]圖1示出了本發(fā)明實(shí)施例中的一種校正模體的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖1所示的校正模體100，可以包括:通過固定支架(圖中未示出)設(shè)置于成像面板10和放射源20之間的模體本體101，以及設(shè)置在模體本體101中的探測單元102，探測單元102固定安裝在支撐裝置103的下端，且支撐裝置103的下端固定安裝在模體本體101中的切面104上。其中:
[0047]探測單元102，適于測量成像面板10與放射源20之間的相對幾何位置以及放射源20發(fā)射的射線信息。
[0048]在具體實(shí)施中，支撐裝置103可以為手持桿。
[0049]在具體實(shí)施中，相鄰的切面104之間的距離大于等于第一交點(diǎn)到第一切面之間的距離。其中，第一交點(diǎn)為模體本體101上距離放射源20最遠(yuǎn)的點(diǎn)與放射源20所在的幾何坐標(biāo)位置之間的連線，與模體本體101的表面的交點(diǎn)。第一切面為模體本體101中距離放射源20最遠(yuǎn)的點(diǎn)所在的與所述水平面垂直的垂直面。相鄰切面104之間的上述距離的設(shè)置可以保證放射源20發(fā)射的射線在沿著切面104的某一條軸做圓周運(yùn)動進(jìn)行掃描時(shí)，各個切面104固定安裝的探測單元102的投影不會重疊。
[0050]下面結(jié)合圖2和圖3對于圖1所示的校正裝置的工作原理做進(jìn)一步詳細(xì)的介紹。
[0051]圖2示出了本發(fā)明實(shí)施例中的一種位置校正方法的流程圖。如圖2所示的位置校正方法，可以包括:
[0052]步驟S201:采用校正模體進(jìn)行射線成像。
[0053]在具體實(shí)施中，可以將校正模體100放置于放射源20的下方，并與放射源20之間具有預(yù)設(shè)的距離，且在校正模體100的后方設(shè)置有成像面板10。其中，當(dāng)放射源20發(fā)射的射線照射在校正模體100上時(shí)，可以在成像面板10上形成相應(yīng)的射線圖像。
[0054]步驟S202:獲取所述成像面板與所述放射源之間的相對幾何位置的信息。
[0055]在具體實(shí)施中，可以獲取所述校正模體100中探測單元102在所述成像面板10上所成的射線圖像102’的幾何位置(坐標(biāo))的信息，以獲取所述成像面板10與放射源20之間的相對幾何位置的信息。
[0056]步驟S203:根據(jù)所獲取的成像面板與所述放射源之間的相對幾何位置的信息，對所述成像面板的幾何位置進(jìn)行校正。
[0057]在具體實(shí)施中，可以將所獲取的探測單元102在成像面板10上所成的射線圖像102’的幾何位置與目標(biāo)位置進(jìn)行比較，獲取所得到的幾何位置與目標(biāo)位置兩者之間的偏差，得到幾何位置校正信息。然后，可以根據(jù)所得到的幾何位置校正信息對成像面板10的幾何位置進(jìn)行調(diào)整，從而使得探測單元102在成像面板10上所成的射線圖像102’的幾何位置達(dá)到所述目標(biāo)位置。
[0058]這里需要指出的是，根據(jù)所獲取的幾何位置校正信息，也可以對校正模體100在成像面板10上所成的射線圖像102’的幾何位置進(jìn)行校正。
[0059]圖3示出了本發(fā)明實(shí)施例中的一種放射源信息校正方法的流程圖。如圖3所示的放射源信息校正方法，可以包括:
[0060]步驟S301:采用校正模體探測所述放射源的射線信息。
[0061]在具體實(shí)施中，由于在校正模體100的切面104上安裝有探測單元102，探測單元102可以對放射源20所發(fā)射的射線信息進(jìn)行探測。例如，探測單元102可以通過電離室、半導(dǎo)體探頭或者熱釋光片等對放射源20發(fā)射的射線信息進(jìn)行探測。
[0062]在具體實(shí)施中，放射源20的射線信息包括射線的強(qiáng)度或者劑量的信息。
[0063]步驟S302:根據(jù)探測得到的所述放射源的射線信息與所述放射源的目標(biāo)射線信息，對所述放射源發(fā)出的射線進(jìn)行校正，直至所述放射源的射線信息為所述放射源的目標(biāo)射線信息。
[0064]在具體實(shí)施中，根據(jù)探測單元102所得到的放射源20的射線信息與放射源20的目標(biāo)射線信息進(jìn)行比較，可以兩者之間的偏差，從而可以根據(jù)所述偏差對放射源20發(fā)射的射線進(jìn)行調(diào)整，直至滿足預(yù)設(shè)的目標(biāo)射線信息。
[0065]在具體實(shí)施中，圖2和圖3中的探測單元102的個數(shù)可以根據(jù)實(shí)際的需要進(jìn)行設(shè)定，從而可以通過多個探測單元102的幾何位置信息或者多個探測單元102所探測得到的放射源20發(fā)射的射線信息，分別對成像面板10與放射源20之間的相對幾何位置和放射源20發(fā)射的射線信息進(jìn)行調(diào)整，以提高幾何位置校正的射線信息校正的準(zhǔn)確性。
[0066]這里需要指出的是，圖2和圖3所示的校正方法中，可以采用同一探測單元102同時(shí)對成像面板10和放射源20之間的相對幾何位置和放射源20發(fā)射的射線信息進(jìn)行校正，也可以采用校正模體100不同的探測單元102分別對成像面板10與放射源20之間的相對幾何位置以及放射源20發(fā)射的射線信息進(jìn)行調(diào)整，在此不再贅述。
[0067]圖4示出了本發(fā)明實(shí)施例中的一種位置校正裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖4所述的位置校正裝置400,可以包括第一獲取單元401和第一校正單元402,其中:
[0068]第一獲取單元401，適于采用上述的校正模體獲取所述成像面板與所述放射源之間的相對幾何位置的信息。其中，第一獲取單元401適于獲取所述校正模體中探測單元在所述成像面板上所成的射線圖像的幾何位置信息。
[0069]第一校正單元402，適于根據(jù)所獲取的成像面板與所述放射源之間的相對幾何位置的信息，對所述成像面板的幾何位置進(jìn)行校正。
[0070]在具體實(shí)施中，第一校正單元402可以包括比較子單元4021和校正子單元4022，其中:
[0071]比較子單元4021，適于將所獲取的探測單元在所述成像面板上所成的射線圖像的幾何位置與目標(biāo)位置進(jìn)行比較，得到幾何位置校正信息。
[0072]校正子單元4022，適于采用所得到的幾何位置校正信息對所述成像面板的幾何位置進(jìn)行校正。
[0073]圖5示出了本發(fā)明實(shí)施例中的一種放射源信息校正裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖5所示的放射源信息校正裝置500，可以包括:
[0074]第二獲取單元501，適于采用上述的校正模體探測所述放射源的射線信息，所述放射源的射線信息包括放射源發(fā)射的射線強(qiáng)度或者劑量的信息。
[0075]第二校正單元502，適于根據(jù)探測得到的所述放射源的射線信息與所述放射源的目標(biāo)射線信息，對所述放射源發(fā)出的射線進(jìn)行校正，直至所述放射源的射線信息為所述放射源的目標(biāo)射線信息。
[0076]在具體實(shí)施中，第二獲取單元502適于利用所述校正模體中的探測單元探測所述放射源的射線信息。
[0077]本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以理解上述實(shí)施例的各種方法中的全部或部分步驟是可以通過程序來指令相關(guān)的硬件來完成，該程序可以存儲于計(jì)算機(jī)可讀存儲介質(zhì)中，存儲介質(zhì)可以包括:ROM、RAM、磁盤或光盤等。
[0078]以上對本發(fā)明實(shí)施例的方法及系統(tǒng)做了詳細(xì)的介紹，本發(fā)明并不限于此。任何本領(lǐng)域技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，均可作各種更動與修改，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)當(dāng)以權(quán)利要求所限定的范圍為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1.一種校正模體，其特征在于，包括設(shè)置于所述放射源和成像面板之間的模體本體和設(shè)置在所述模體本體中的探測單元，所述探測單元適于測量所述成像面板與所述放射源之間的相對幾何位置以及所述放射源發(fā)射的射線信息，并通過位于所述模體本體中的支撐裝置設(shè)置于所述模體本體上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的校正模體，其特征在于，所述模體本體包括平行設(shè)置的切面，所述支撐裝置的下端安裝有所述探測單元，并固定于所述切面上。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的校正模體，其特征在于，所述切面之間的距離大于等于第一交點(diǎn)到第一切面之間的距離，所述第一交點(diǎn)為所述模體本體上距離所述放射源最遠(yuǎn)的點(diǎn)與所述放射源所在的幾何坐標(biāo)位置之間的連線，與所述模體本體的表面的交點(diǎn)，所述第一切面為所述模體本體中距離所述放射源最遠(yuǎn)的點(diǎn)所在的與所述水平面垂直的垂直面。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的校正模體，其特征在于，所述探測單元包括電離室、半導(dǎo)體探頭或者熱釋光片，所述探測單元適于測量所述成像面板與所述放射源之間的相對幾何位置以及所述放射源發(fā)射的射線的信息，包括:通過電離室、半導(dǎo)體探頭或者熱釋光片的幾何位置信息測量所述成像面板與所述放射源之間的相對幾何位置，并通過所述電離室、半導(dǎo)體探頭或者熱釋光片測量所述放射源發(fā)射的射線信息。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的校正模體，其特征在于，所述探測單元適于測量所述成像面板與所述放射源之間的相對幾何位置以及所述放射源發(fā)射的射線的信息，包括: 采用第一組探測單元的幾何位置信息測量所述成像面板與所述放射源之間的相對幾何位置的信息； 采用第二組探測單元測量所述放射源發(fā)射的射線的信息，所述第二組探測單元包括電離室、半導(dǎo)體探頭或者熱釋光片。
6.—種位置校正方法,其特征在于,包括: 采用權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的校正模體進(jìn)行射線成像； 獲取所述成像面板與所述放射源之間的相對幾何位置的信息； 根據(jù)所獲取的成像面板與所述放射源之間的相對幾何位置的信息，對所述成像面板的幾何位置進(jìn)行校正。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的位置校正方法，其特征在于，所述獲取成像面板與所述放射源之間的相對幾何位置的信息，包括:獲取所述校正模體中探測單元在所述成像面板上所成的射線圖像的幾何位置信息。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的位置校正方法，其特征在于，所述根據(jù)所獲取的成像面板與所述放射源之間的相對幾何位置的信息，對所述成像面板的幾何位置進(jìn)行校正，包括: 將所獲取的探測單元在所述成像面板上所成的射線圖像的幾何位置與目標(biāo)位置進(jìn)行比較，得到幾何位置校正信息； 采用所得到的幾何位置校正信息，對所述成像面板的幾何位置進(jìn)行校正。
9.一種放射源信息校正方法，其特征在于，包括: 采用權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的校正模體探測所述放射源的射線信息，所述放射源的射線信息包括放射源發(fā)射的射線的強(qiáng)度或者劑量； 根據(jù)探測得到的所述放射源的射線信息與所述放射源的目標(biāo)射線信息，對所述放射源發(fā)出的射線進(jìn)行校正，直至所述放射源的射線信息為所述放射源的目標(biāo)射線信息。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的放射源信息校正方法，其特征在于，所述采用權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的校正模體探測所述放射源的射線信息，包括:利用所述校正模體中的探測單元探測所述放射源的射線信息。
11.一種位置校正裝置，其特征在于，包括: 第一獲取單元，適于采用權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的校正模體獲取所述成像面板與所述放射源之間的相對幾何位置的信息； 第一校正單元，適于根據(jù)所獲取的成像面板與所述放射源之間的相對幾何位置的信息，對所述成像面板的幾何位置進(jìn)行校正。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的位置校正裝置，其特征在于，所述第一獲取單元適于獲取所述校正模體中探測單元在所述成像面板上所成的射線圖像的幾何位置信息。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的位置校正裝置，其特征在于，所述第一校正單元包括: 比較子單元，適于將所獲取的探測單元在所述成像面板上所成的射線圖像的幾何位置與目標(biāo)位置進(jìn)行比較，得到幾何位置校正信息； 校正子單元，適于采用所得到的幾何位置校正信息對所述成像面板的幾何位置進(jìn)行校正。
14.一種放射源信息校正裝置，其特征在于，包括: 第二獲取單元，適于采用權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的校正模體探測所述放射源的射線信息，所述放射源的射線信息包括放射源發(fā)射的射線強(qiáng)度或者劑量； 第二校正單元，適于根據(jù)探測得到的所述放射源的射線信息與所述放射源的目標(biāo)射線信息，對所述放射源發(fā)出的射線進(jìn)行校正，直至所述放射源的射線信息為所述放射源的目標(biāo)射線信息。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的放射源信息校正裝置，其特征在于，所述第二獲取單元適于利用所述校正模體中的探測單元探測所述放射源的射線信息。
【文檔編號】A61N5/00GK104288913SQ201410582000
【公開日】2015年1月21日 申請日期:2014年10月27日 優(yōu)先權(quán)日:2014年10月27日
【發(fā)明者】李貴, 朱建偉, 姬長勝 申請人:上海聯(lián)影醫(yī)療科技有限公司