專利名稱：執(zhí)行基于模型的光鄰近校正的方法
技術領域：
本發(fā)明通常涉及光刻法的領域，并且更具體地說，涉及形成原始多邊形的新節(jié)點并釘扎該節(jié)點至用于光刻法的基于模型的光鄰近校正(OPC)的感興趣區(qū)(ROI)的多邊形釘扎方法。

背景技術：
在半導體器件的制作中，光微刻處理，也稱為光刻法，通常需要盡可能好地將所需電路圖案復制到半導體晶片上。這些所需電路圖案被表示為被稱作光掩模的模板上的不透明和完全或部分透光區(qū)。然后光掩模上的圖案被通過曝光系統(tǒng)以光學成象方式投射在涂有光致抗蝕劑的晶片上。
計算由光學投射系統(tǒng)所產生的圖像的空間象模擬器，已經證明是一種分析并改進集成電路制作的光刻法的技術水平的有用工具。這種模擬已經在例如相移掩模(PSM)設計的先進掩模設計、光鄰近校正(OPC)、和投射光學設計中找到應用。模型化空間象為半導體制造的關鍵部件。由于目前光刻工具采用部分相干照明，這種模型化除基本圖案之外全部為計算上強烈的。由掩模所產生的空間象，即光學投射系統(tǒng)的象平面中的光強度，是控制開發(fā)的光致抗蝕劑結構復制掩模設計有多好的微刻法中的關鍵重要量。
在OPC軟件中，圖象強度通常通過具有描述過程的物理學的特定核函數的雙線性變換計算。這可通過對應于Hopkin’s積分的光學核或包括抗蝕劑效應的復合核被完成。例如，對短程效應而言通過Sumof Coherent Sources(SOCS)方法雙線性變換可被優(yōu)化減少至簡單線性卷積的和，而對中程效應或其它非光學效應而言雙線性變換可被減少至掩模圖案和強核之間的線性卷積。
對非常長程效應而言，問題仍可進一步被減少至由每個象素為方柵格內的特征的平均圖案密度的粗柵格代表掩模。粗柵格和相干核之間的卷積可非?？焖俚乇煌瓿桑缤ㄟ^快速傅立葉變換(FFT)以獲得速度，因為FFT可為所有象素同時產生卷積，或者通過更新的更快速的提供相同優(yōu)點的方法。
但是，由于尋址各個多邊形的需要，短程和中程是可能耗時的關鍵部分。計算短程和中程效應的常規(guī)操作通常包括通過某種實踐假設空間截斷核以提供被存儲在有限和可接受尺寸的表中的基本構件扇區(qū)的卷積的查表。
上述現(xiàn)有技術卷積技術通常被在多邊形特征上利用或者基于扇區(qū)的算法或者基于邊(edge-based)的算法執(zhí)行。這些可以利用扇區(qū)以多個角度計算的基于扇區(qū)的算法，允許扇區(qū)上的卷積被作為基礎圖象(base-images)預計算并存儲在表或矩陣中。例如，基于扇區(qū)的OPC引擎(engine)的常規(guī)操作可以包括將多邊形分解為一組或者90度角(如圖1所示)或者45度角(如圖2A-B所示)的扇區(qū)。但是，常規(guī)基于扇區(qū)的OPC計算通常較耗時并且當執(zhí)行正方感興趣區(qū)(ROI)10內的各扇區(qū)的計算時需要非常大量的存儲器并隨后被存儲在表(矩陣)中用于以后使用。
除上述之外，對一定的長程核而言基于扇區(qū)的OPC計算也遭受精度不足。也就是說，在光鄰近校正計算中數學困難上升，這部分可歸因于當嘗試分析上表示未結合扇區(qū)上的成像核時的發(fā)散現(xiàn)象，通過這種現(xiàn)象掩模多邊形通常被分解。
例如，圖1說明正方ROI10內各點“X0”的多個90度扇區(qū)的查表值。對于邊嚴格水平和垂直的扇區(qū)而言，查表區(qū)域(核支撐區(qū)域)為邊長兩倍于光程(OD)的正方。在ROI內的任何點“X0”，查表值沿任何一直輪廓線20為常數。但是，對位于ROI10外部的任何點“X0”30，輪廓線20被水平或者垂直地延伸至ROI外部，并且這種點“X0”30的卷積值沿如圖所示的點“X0*”30’的相同直輪廓線在ROI的邊界處取用。該過程通常被稱為連續(xù)(continuation)。
仍參照圖1，位于ROI內的各點或節(jié)點(vertex)的所有卷積貢獻被預計算并存儲在矩陣中。對于ROI外的未有助于多邊形的所有其它點而言，例如那些超過ROI的左和底邊界的點，這些點的卷積值等于零。于是通過加和各位于ROI內的有助于預計算的存儲的扇區(qū)的貢獻計算帶有核的多邊形的卷積。
在常規(guī)基于扇區(qū)OPC計算的另一例子中，圖2A和2B說明45度扇區(qū)的查表值。如圖所示，對帶有45度角的扇區(qū)而言，上半部的連續(xù)輪廓不垂直而是側面彎曲，在上部區(qū)域具有45度斜坡并沿輪廓線具有常數值。這種側面彎曲輪廓適用于正45(ortho-45)設計。
因而，當點“X0”30位于ROI10上部時，查表值將在位于ROI邊界的點“X0*”30’并沿相同的側面彎曲輪廓線取用。類似地，在ROI內的任何點“X0”，表值沿任何側面彎曲45度扇區(qū)為常數。對ROI內的所有點“X0”而言計算各45度扇區(qū)節(jié)點的卷積并存儲在矩陣中。為了容易查找位于圖2B的ROI10外的任何點“X0”，查表區(qū)的上半部被在與45度輪廓線相同的側面方向被彎曲。
但是，如此做的缺點是位于相對于彎曲ROI10’的節(jié)點的半徑外的任何點，如圖2B中箭頭所示，在預計算矩陣的外部，并且因此將不會為多邊形的卷積增加任何貢獻。因此，常規(guī)操作是在表的所有4邊上延伸彎曲ROI10’數量為(1-1/sqrt(2))ROI的距離，以提供延伸的ROI15。這產生適用的更大的查表，即ROI15，對該表而言沿各45度扇區(qū)的點“X0”的卷積貢獻必須被預計算并存儲在矩陣中。較大的查表ROI15不理想，因為除要求存儲卷積節(jié)點的存儲器的增加量之外，它需要更多的時間和存儲器計算ROI15內的多邊形的所有的起作用卷積節(jié)點。此外，這種方法不理想，因為彎曲查表必須隨后被轉換為正方矩陣用以計算機實施，這需要每個節(jié)點的坐標變換。
多邊形剪切程序也被用于形成代表原始多邊形節(jié)點的復多邊形，從而各復新多邊形的節(jié)點被隨后釘扎至ROI。一個這種方法被稱為相交(Intersection)法。該方法涉及利用算法C＝A∪B產生原多邊形的多個剪切多邊形，其中形狀A為多邊形，形狀B為ROI，而交集C為所產生的復新、更小的多邊形。不幸的是，由于多邊形的許多級和多種數據結構和復雜的層次被產生，這將大量指定步驟引入程序中，這需要非常大量的存儲器，以及在產生這些復多邊形中涉及大量數值和拓撲經?；ㄙM(overhead)。因此，剪切程序也需要大量處理時間的經常花費，因為通常需要全芯片校正(full chip correction)。常規(guī)剪切程序的另一缺點是由于代表原始多邊形的節(jié)點的新復多邊形的形成中的數值誤差以及因此產生的芯片拓撲形狀的變化，他們經常將數值不穩(wěn)定性引入程序中，這反過來導致改變原始多邊形的極性。
因而，技術上存在提供卷積ROI內的多邊形以用于光刻法的光鄰近校正的改進方法的需要。
本發(fā)明通過提供一種精確地、有效地、容易地和成本有效地產生ROI內的定位多邊形的新節(jié)點并通過獨特的算法釘扎該節(jié)點至ROI以用于基于模型的OPC計算的改進的多邊形釘扎方法，克服上述現(xiàn)有技術中的問題和不足。


發(fā)明內容
記住現(xiàn)有技術的問題和不足，因此本發(fā)明的一個目標是提供一種改進的多邊形釘扎方法，該方法產生ROI內的定位多邊形的新節(jié)點并通過利用獨特的算法坍縮節(jié)點而釘扎該節(jié)點至ROI以用于OPC計算。
本發(fā)明的另一目標是提供一種精確地、有效地、容易地和成本有效地卷積感興趣區(qū)內的多邊形的多邊形釘扎方法。
本發(fā)明的另一目標是提供一種減少基于扇區(qū)OPC計算中的數據結構的數目和數值經?；ㄙM的多邊形釘扎方法。
本發(fā)明的另一目標是提供一種通過增加卷積ROI內的多邊形的速度節(jié)省計算時間的多邊形釘扎方法。
本發(fā)明的另一目標是提供一種減少執(zhí)行OPC計算中的多邊形卷積計算所需的存儲器的數量的多邊形釘扎方法。
本發(fā)明的另一目標是提供一種避免大量具有代表位于ROI內的多邊形的節(jié)點的較小多邊形的產生的多邊形釘扎方法。
本發(fā)明的另一目標是提供一種改進OPC計算中的數值穩(wěn)定性的多邊形釘扎方法。
本發(fā)明的其它目標和優(yōu)點將部分明顯并將從說明書中部分明顯。
本領域的技術人員將會理解的上述和其它目標，在本發(fā)明中被獲得，本發(fā)明的第一方面被指向執(zhí)行基于模型的光鄰近校正的方法。該方法包括提供一種具有帶有邊界的感興趣區(qū)(ROI)的掩模矩陣。多個感興趣點位于掩模矩陣內，然后第一單環(huán)路有限幾何形狀被確定以使它具有多個代表定位的多個感興趣點的節(jié)點。該第一單環(huán)路有限幾何形狀隨后被坍縮到ROI上以校正光鄰近。這樣做時，通過釘扎位于ROI外的第一單環(huán)路有限幾何形狀的節(jié)點至ROI的邊界，第二被坍縮單環(huán)路有限幾何形狀被形成在ROI上。
按照這一方面，第一和第二單環(huán)路有限幾何形狀可以具有相同或不同的有限幾何形狀，以及相同或不同的節(jié)點數目。第一單環(huán)路有限幾何形狀被基于多個感興趣點和感興趣區(qū)之間的校正優(yōu)選地計算。
在坍縮所計算的第一單環(huán)路有限幾何形狀的步驟中，這種環(huán)路的第一和第二相鄰節(jié)點被定位，并隨后這些節(jié)點的位置在矩陣內相對于感興趣區(qū)被確定。這樣做時，其中這些第一和第二節(jié)點的位置在ROI內，第一這種節(jié)點被指定給ROI內的第二單環(huán)路有限幾何形狀的第一節(jié)點，并且隨后對于第一單環(huán)路有限幾何形狀的所有剩余節(jié)點重復該過程。
此外，其中第一節(jié)點位于ROI內而第二節(jié)點位于ROI外，第二節(jié)點被釘扎至與ROI的邊界的最近的交叉點。第一節(jié)點然后被指定給所述ROI內的所述第二單環(huán)路有限幾何形狀的第一節(jié)點，而第二被釘扎節(jié)點然后被指定給ROI內的第二單環(huán)路有限幾何形狀的第二節(jié)點。隨后對于第一單環(huán)路有限幾何形狀的所有剩余節(jié)點該過程被重復。
在另一替代方式中，其中第一節(jié)點位于ROI外而第二節(jié)點位于ROI內，第一節(jié)點被釘扎至與ROI的邊界的最近的交叉點。第一被釘扎節(jié)點然后被指定給ROI內的第二單環(huán)路有限幾何形狀的第一節(jié)點，隨后對于第一單環(huán)路有限幾何形狀的所有剩余節(jié)點該過程被重復。
其中第一和第二節(jié)點的位置都位于ROI外，然后第一節(jié)點所在的掩模矩陣的區(qū)域被確定，隨后根據第一節(jié)點所在的掩模矩陣的區(qū)域釘扎該第一節(jié)點至ROI的邊界。具體說來，如果第一節(jié)點位于臨近ROI一角的區(qū)域內，那么第一節(jié)點被釘扎至ROI的最近角。但是，如果第一節(jié)點位于臨近ROI的側邊的區(qū)域內，那么第一節(jié)點被釘扎至ROI的最近側邊。隨后對于第一單環(huán)路有限幾何形狀的所有剩余節(jié)點該過程被重復。
一旦第一節(jié)點被釘扎至ROI的角或側邊，連接第一和第二節(jié)點的第一單環(huán)路有限幾何形狀的側邊被定位，并且隨后確定是否該連接邊與ROI相交于兩被釘扎點。如果確定該側邊與ROI相交于兩被釘扎點，那么第一被釘扎點被指定給第二單環(huán)路有限幾何形狀的第一節(jié)點，而第二被釘扎點被指定給第二單環(huán)路有限幾何形狀的第二節(jié)點。
此外，如果確定該側邊不與ROI相交于兩被釘扎點，那么確定是否第一和第二節(jié)點位于掩模矩陣的相同區(qū)域。這樣做時，如果第一和第二節(jié)點位于相同區(qū)域，那么對于第一單環(huán)路有限幾何形狀的所有剩余節(jié)點該過程被重復。如果確定第一和第二節(jié)點不位于相同區(qū)域，那么必須確定是否第一和第二節(jié)點位于掩模矩陣的相鄰區(qū)域。如果第一和第二節(jié)點確實位于掩模矩陣的相鄰區(qū)域，那么對所有剩余節(jié)點該過程被重復。但是，如果確定第一和第二節(jié)點不位于掩模矩陣的相鄰區(qū)域，那么必須確定是否第一和第二節(jié)點實際上不位于掩模矩陣的相鄰區(qū)域。如果該確定提供的結果是第一和第二節(jié)點不是不位于掩模矩陣的相鄰區(qū)域內，那么由于計算錯誤該過程被停止。如果確定第一和第二節(jié)點實際上不位于掩模矩陣的相鄰區(qū)域，那么連接第一和第二節(jié)點的側邊必須位于ROI外。因此，相對于連接第一和第二節(jié)點的側邊附加節(jié)點被添加至該ROI的較近角的ROI邊界。
在第二方面，本發(fā)明被指向一種通過提供具有帶有邊界的感興趣區(qū)(ROI)的掩模矩陣并在掩模矩陣中定位多個感興趣點執(zhí)行基于模型的光鄰近校正方法。然后計算具有多個代表所定位的多個感興趣點的節(jié)點的第一單環(huán)路多邊形，并且被選擇的多個節(jié)點被釘扎至ROI的邊界以在ROI上形成第二單環(huán)路多邊形。這些所選擇的多個節(jié)點根據他們相對于ROI的空間關系被釘扎至ROI，如上所述。然后光鄰近被校正以使用該第二單環(huán)路多邊形。
在此方面中，那些所定位的多個感興趣點代表掩模矩陣內的一組多邊形，以使第一單環(huán)路多邊形的多個節(jié)點代表多邊形組的所有節(jié)點。為第一單環(huán)路多邊形的所有節(jié)點重復本發(fā)明第二方面的釘扎步驟以使第二單環(huán)路多邊形被坍縮在ROI邊界上和以內。
在第三方面，本發(fā)明被指向一種機器可讀的程序存儲設備，具體實施通過機器可執(zhí)行的指令程序以執(zhí)行方法步驟用以執(zhí)行基于模型的光鄰近校正。這些方法步驟包括提供具有帶有邊界的感興趣區(qū)的掩模矩陣和將多個感興趣點定位在掩模矩陣內。具有多個代表所定位的多個感興趣點的節(jié)點的第一單環(huán)路有限幾何形狀然后被確定，并且第一單環(huán)路有限幾何形狀被坍縮在ROI上以校正光鄰近。



被認為是新穎的本發(fā)明特征和本發(fā)明的基本特征被在所附權利要求中具體說明。附圖僅是用以示例目的并且未按比例繪制。但是，本發(fā)明本身，作為組織和操作方法，參照下文連同附圖的詳細說明可被最好的理解，其中 圖1為現(xiàn)有技術的示例，表示基于扇區(qū)的OPC引擎將多邊形分解為一組90度角扇區(qū)以允許扇區(qū)上的卷積作為被存儲在表中的基礎圖像被預計算。
圖2A為另一現(xiàn)有技術示意圖，表示基于扇區(qū)的OPC引擎將多邊形分解為一組45度角扇區(qū)以允許扇區(qū)上的卷積作為被存儲在表中的基礎圖像被預計算。
圖2B為圖2A的現(xiàn)有技術示意圖，表示查表區(qū)必須以與感興趣區(qū)相似的方式被彎曲以包括某x0值。
圖3A和3B表示實施本發(fā)明中所采用的優(yōu)選步驟的框圖流程圖。
圖4A示意本發(fā)明，表示具有包括感興趣區(qū)的多個區(qū)域的掩模矩陣的模型，以用于基于扇區(qū)的OPC的圖3所示的工藝流程。
圖4B示意本發(fā)明，表示為具有多個代表圖4A的矩陣內所定位的感興趣點的節(jié)點的90度扇區(qū)定位感興趣點和計算大單環(huán)路多邊形的步驟。
圖4C示意本發(fā)明，表示將圖4B的大單環(huán)路多邊形坍縮在ROI的邊界上和之內的步驟。
圖4D示意本發(fā)明，表示圖4C位于ROI邊界上和之內的新被坍縮單環(huán)路多邊形。
圖5示意本發(fā)明的另一實施方式，為具有多個代表圖4A的矩陣內所定位的感興趣點的節(jié)點的45度扇區(qū)定位感興趣點和計算大單環(huán)路多邊形的步驟。

具體實施例方式 在說明本發(fā)明的優(yōu)選實施方式中，將參照圖1-5的附圖，其中同樣數字指本發(fā)明的同樣特征。
本發(fā)明指向最初將有限幾何形狀定位在具有基于模型模擬的感興趣區(qū)(ROI)的矩陣內的基于模型的光鄰近校正。前述基于模型的光鄰近校正(OPC)用于光刻法以最終校正具有所需電路圖案的光掩模上的任何變形，以將它們精確投射在涂有光致抗蝕劑的晶片上。
應該理解本發(fā)明適合用于任何有限幾何形狀。在優(yōu)選實施方式中，該有限幾何形狀為多邊形。設計中多邊形通常由一組節(jié)點和相應的次序定義，例如按照慣例前移邊的左手側總是在多邊形內。按照本發(fā)明，多邊形可以為規(guī)則或不規(guī)則、凸或凹、或者它們的任意組合。此外，多邊形可包含任何形狀，包括但不限于三角形、四邊形(正方形、長方形、平行四邊形)、五邊形、六邊形、七邊形、八邊形、九邊形、十邊形等。
本發(fā)明提供一種用于基于模型的OPC的改進的算法和多邊形釘扎方法。最初，基于模型模擬包括定位代表有限形狀的多個感興趣點，例如代表多邊形或一組多邊形的節(jié)點。這些點可位于包括感興趣區(qū)的基于模型的掩模矩陣內。
為了加和這些所定位的多邊形的卷積貢獻，本發(fā)明的有效多邊形釘扎方法和算法計算具有代表矩陣內多個所定位的感興趣點的節(jié)點的單閉環(huán)多邊形，是否這些所定位的點代表矩陣內的單個多邊形或一組多邊形。其中所定位的點代表矩陣內的多邊形，本發(fā)明的所計算的閉環(huán)多邊形顯著大于所有這些被結合多邊形。
按照本發(fā)明，所計算的單閉環(huán)多邊形被坍縮在ROI的邊界上和/或內以使第二(即被坍縮)單閉環(huán)多邊形被形成，其具有代表矩陣內原始所定位的感興趣點(節(jié)點)的節(jié)點。通過釘扎這些位于ROI外的所定位的感興趣點至ROI的邊界上和之內以使被坍縮多邊形的所有節(jié)點位于ROI的邊界上和之內，該被坍縮多邊形被坍縮在ROI上。該被坍縮多邊形隨后被用于隨后的所定位的感興趣點的卷積貢獻的加和以最終校正光掩模上的任何變形。
參照附圖，本單環(huán)路多邊形和本發(fā)明的工藝流程將按照圖3A和3B所示的流程圖的以下說明被更好地理解，其中圓圈字母指示至和從流程圖其它部分的連接。
步驟1000-Start。開始流程。
步驟1005-New polygon S vertex j＝1。本發(fā)明的新、被坍縮單環(huán)路多邊形“S”具有j＝1的節(jié)點。
步驟1010-Old polygon S vertex k＝1。矩陣內的原始的所計算的多邊形“P”具有k＝1的節(jié)點。
步驟1015-K＝Nvertex？已經達到最后節(jié)點，即多邊形“P”的點嗎？如果是，到步驟1020并結束程序。如果否，至步驟1013并繼續(xù)程序。
步驟1020-END。結束程序。
步驟1013-定位兩相鄰節(jié)點，即多邊形“P”的點，即節(jié)點Pk和Pk+1。繼續(xù)至步驟1025。
步驟1025-Pk和Pk+1在ROI內嗎？多邊形“P”兩相鄰節(jié)點Pk和Pk+1都在ROI內嗎？如果是，至步驟1030。如果否，至步驟1040。
步驟1030-Sj＝Pk。指定Pk至Sj。繼續(xù)至步驟1035。
步驟1035-j＝j+1。至多邊形P的下一節(jié)點。繼續(xù)至步驟2050。
步驟1040-Pk在ROI內且Pk+1在ROI外嗎？多邊形“P”的節(jié)點Pk在ROI內并且多邊形“P”的節(jié)點Pk+1在ROI外嗎？如果是，至步驟1045。如果否，至步驟1055。
步驟1045-“釘扎”Pk+1至它與ROI的邊界最近的交叉點P’k+1。繼續(xù)至步驟1050。
步驟1050-Sj＝Pk，Sj+1＝P’k+1，j＝j+2。繼續(xù)至步驟2050。
步驟1055-Pk在ROI外且Pk+1在ROI內嗎？多邊形“P”的節(jié)點Pk在ROI外并且多邊形“P”的節(jié)點Pk+1在ROI內嗎？如果是，至步驟1060。如果否，至步驟1070。
步驟1060-“釘扎”Pk至它與ROI的邊界最近的交叉點P’k。繼續(xù)至步驟1065。
步驟1065-Sj＝Pk’，j＝j+1。指定P’k至Sj，然后，通過繼續(xù)至步驟2050至多邊形“P”的下一節(jié)點。
步驟1070-Pk和Pk+1在ROI外嗎？原始多邊形“P”的節(jié)點Pk和Pk+1都在ROI外嗎？如果是，至步驟1075。如果否，至步驟1095。
步驟1075-Pk在區(qū)域[1，3，5，7]嗎？原始多邊形“P”的節(jié)點Pk在矩陣的區(qū)域1，3，5或7內嗎？如果是，至步驟1080。如果否，至步驟1085。
步驟1080-角_釘扎Pk至ROI最近的角，Sj＝角，j＝j+1。Pk在矩陣的任一區(qū)域1，3，5或7，因此，釘扎Pk至ROI的最近角(見圖5)。繼續(xù)至步驟2005。
步驟1085-Pk在區(qū)域[2，4，6，8]嗎？原始多邊形“P”的節(jié)點Pk在矩陣的區(qū)域2，4，6或8內嗎？如果是，至步驟1090。如果否，至步驟1095。
步驟1090-正_釘扎Pk至ROI最近的邊，Sj＝交叉，j＝j+1。Pk在矩陣的任一區(qū)域2，4，6或8，因此，釘扎Pk至最近ROI邊界，在垂直于邊界邊的方向(見圖5)。繼續(xù)至步驟2005。
步驟1095-ERROR。計算中有錯誤。至步驟2000并結束程序。
步驟2000-END。結束程序。
步驟2005-Pk和Pk+1在兩點Q1和Q2交叉ROI嗎？連接節(jié)點Pk和Pk+1的多邊形P的側邊在兩點，即Q1和Q2交叉ROI(見圖4B，其中節(jié)點P8和P9的多邊形P的側邊203在兩點Q1和Q2交叉ROI(0))嗎？如果是，那么至步驟2010。如果否，至步驟2015。
步驟2010-Sj＝Q1，Sj+1＝Q2，j＝j+2。指定Q1至Sj并指定Q2至Sj+1，然后S的節(jié)點指數加2。至步驟2050。
步驟2015-Pk和Pk+1在相同區(qū)域嗎？節(jié)點Pk和Pk+1在掩模矩陣的相同區(qū)域嗎？如果是，至步驟2050。如果否，至步驟2020。
步驟2020-Pk和Pk+1直接相鄰嗎？如果節(jié)點Pk和Pk+1不在掩模矩陣的相同區(qū)域內，那么它們在至少互相共享一邊(除ROI邊之外)的矩陣的直接相鄰區(qū)內嗎？如果是，至步驟2050。如果否，至步驟2020。
步驟2025-Pk和Pk+1不直接相鄰嗎？節(jié)點Pk和Pk+1不在掩模矩陣的直接相鄰區(qū)嗎？如果是，至步驟2040。如果否，至步驟2030。
步驟2030-ERROR。計算中有錯誤。至步驟2035并結束程序。
步驟2035-END。結束程序。
步驟2040-增加_角(Pk，Pk+1)。如果節(jié)點Pk和Pk+1的扇區(qū)交叉在ROI外(見圖5的扇區(qū)部分[3，4]，[7，8]，[8，9])，然后節(jié)點被添加在ROI的角，j＝j+1。繼續(xù)至步驟2050。
步驟2050-k＝k+1。至多邊形“P”的下一節(jié)點。繼續(xù)至步驟1015。
在優(yōu)選實施方式中，本單環(huán)路多邊形和上述工藝流程被最好表示為以下本發(fā)明的偽碼釘扎算法 For k＝1 to Num_vertex-1If Pk is in and Pk+1 is in，　　 Sj＝Pk，j＝j+1　　 Else If Pk is in and Pk+1 is out，　　 Pin Pk+1 to its nearest intersection→Pk+1’<!-- SIPO <DP n="11"> --><dp n="d11"/>　　 Sj＝Pk，　　 Sj+1＝intersection，j＝j+2　　Else If Pk is out and Pk+1 is in　　 Pin Pk to its nearest intersection→Pk’　　 Sj＝Pk’j＝j+1　　Else If Pk is out and Pk+1 is out　　If Pk is in region[1，3，5，7]　　 Sj＝corner_pin(Pk)，j＝j+1　　Else if Pk is region[2，4，6，8]　　 Sj＝ortho_pin(Pk)，j＝j+1　　If Pk，Pk+1intersect ROI at 2 pts Q1，Q2　　 Sj＝Q1，　　 Sj+1＝Q2，j＝j+2　　Else if Pk and Pk+1 are in same region　　 No action　　Else if Pk and Pk+1 are immediate neighbor　　 No action　　Else if Pk and Pk+1 are not in immediate neighbor region　　 Sj＝add_corner(Pk，Pk+1)j＝j+1　　Else Error　　Else　　Error　　End　　END 本發(fā)明的優(yōu)點之一是本工藝流程和釘扎算法使得能夠從任何度角扇區(qū)為許多點同時計算大單環(huán)路多邊形。該多邊形隨后通過釘扎其節(jié)點被坍縮在ROI上，用以隨后該被坍縮多邊形的卷積貢獻的加和，該多邊形代表原始所定位的感興趣點，即掩模矩陣內的所定位的有限幾何形狀的節(jié)點。
現(xiàn)在參照圖4A-D，為具有預定數目的區(qū)域或分區(qū)的掩模矩陣50內的被標號上P1至P16的各點的多個90度扇區(qū)說明本工藝流程和算法。例如，如圖4A所示，掩?？臻g或矩陣50被分為標號為區(qū)域(0)至區(qū)域(8)的九個區(qū)域。但是，應該理解本發(fā)明并不限于將掩模分為九個區(qū)域，而是可以與所需光掩模上的任何變形的最終校正所需的一樣多的掩模分區(qū)被使用。此外，掩模分區(qū)被表示為四邊形，但是，也應該理解掩?？杀环譃楸绢I域所使用和已知的任何有限幾何形狀分區(qū)。
如圖4B所示，通過虛線輪廓說明具有區(qū)域(0)至區(qū)域(8)的掩?？臻g。本基于模型的OPC技術的感興趣區(qū)為區(qū)域(0)，通過標號100表示，該區(qū)域被稱為感興趣區(qū)“ROI”。起初，至少一有限幾何形狀，例如多邊形，或者多個有限幾何形狀(多邊形)，被定位在掩模矩陣50內。如此做時，許多感興趣點，例如P1至P16，被定位從而這些點代表所有所定位的有限幾何形狀的所有節(jié)點。如圖4B所示，一些這種點位于ROI100內(例如P2、P6和P7)，而其它這種點位于ROI外(例如P1、P3、P4、P5、和P8至P16)。位于ROI外的這些點位于掩模矩陣50的多個其它區(qū)域內。例如，如圖4B所示，點P15和P16位于區(qū)域1內，點P1和P3位于區(qū)域2內，等等。
使用掩模矩陣內的多個點P1至P16，使用本發(fā)明的釘扎算法計算具有任何有限幾何形狀的大單環(huán)路多邊形“P”200。如此做時，多邊形“P”200的有限幾何形狀具有多個代表所定位的感興趣點的數目的節(jié)點，即P1至P16，從而多邊形“P”200的各節(jié)點代表至少一個這種點。其中沒有感興趣點的掩模矩陣的那些區(qū)域將不對多邊形的卷積有貢獻。例如，如圖4B所示，區(qū)域(7)和區(qū)域(8)其中沒有感興趣點，并且因此，多邊形200沒有延伸至這些區(qū)域，因此將沒有隨后來自區(qū)域(7)和區(qū)域(8)的貢獻。
一旦大單環(huán)路多邊形“P”200被計算并形成，它被坍縮到如圖4C-D所示的ROI100的邊界上。在坍縮多邊形“P”200中，多邊形“P”200被卷積在ROI表面上或ROI(0)100的邊界上和以內以形成新多邊形“S”300。該被坍縮多邊形“S”300被沿ROI100的邊界和/或內形成以使它可以、或可以不具有與原始多邊形“P”200相同的有限幾何形狀。此外，原始多邊形“P”200和被坍縮多邊形“S”300可以具有相同或不同數目的節(jié)點。例如，如圖4C-D所示，所示的多邊形“S”300具有代表多邊形“P”200的節(jié)點P1至P16(16個節(jié)點)的節(jié)點1’至8’、8”和9’至16’(17個節(jié)點)。如此做時，原來在ROI外的所有節(jié)點現(xiàn)在被坍縮在ROI的邊界上并且原來位于ROI內的所有節(jié)點未被改變。
多邊形“S”300通過釘扎位于ROI100外的所有所定位的點至ROI(0)的邊界上和之內被坍縮。如此做時，本發(fā)明的關鍵特征是原來位于ROI100外的那些點在新多邊形“S”300中合并在一起、或疊加，同時保持本發(fā)明的封閉單環(huán)路多邊形特征。
但是，為了容易理解本發(fā)明，原位于ROI(0)100內的所有除P2、P6和P7的點被釘扎至新多邊形“S”300中的ROI邊界上，如圖4C-D中的分離點所示，以僅表示被坍縮多邊形“S”300的單閉環(huán)特征。ROI外的任何原始點的釘扎在一起和多邊形“S”300的單閉環(huán)特征是本發(fā)明的關鍵，因為它們避免將大閉環(huán)路多邊形200分為ROI內較小的多邊形，并且因此有利地保持體系和包含在大閉環(huán)多邊形200內的數據，這反過來通過減少處理經?；ㄙM顯著地改進數值穩(wěn)定性。
一旦所計算的多邊形“P”的所有節(jié)點被釘扎至ROI的邊界上和之內，就形成被坍縮封閉單環(huán)路多邊形“S”300。如此做時，被坍縮多邊形可能不保持原始多邊形“P”200的節(jié)點數目，即它不保持節(jié)點P1至P16。相比原始大多邊形“P”200的節(jié)點數目“P#”，新被坍縮多邊形“S”300可以具有較大的節(jié)點數“#”，或較小的節(jié)點數。也就是說，關于本發(fā)明的上述偽碼，原始所計算的大單環(huán)路多邊形“P”具有節(jié)點Pk，其中k＝1，2，3，......N節(jié)點，而被坍縮單環(huán)路多邊形“S”具有節(jié)點Sk，其中k＝1，2，3，......N’節(jié)點，并且其中Pk和Sk可以是相同或不同的，參照圖4C-D，被坍縮多邊形“S”300具有比原始大多邊形“P”200更多的節(jié)點。具體說來，多邊形“P”200的節(jié)點P8被在兩不同位置8’和8”釘扎至ROI的邊界。這對保證位于ROI內的用于卷積的Pk的部分不變是關鍵所在。
隨后帶有核的被坍縮多邊形“S”300的卷積可以被執(zhí)行以獲得所需結果。這可以通過加和僅從ROI(0)內或邊界上的各90度扇區(qū)的貢獻完成。位于ROI(0)100外的任何點不為多邊形增加任何卷積貢獻。
參照圖5，表示掩模矩陣50內的P1至P8的各點的45度扇區(qū)的本工藝流程和釘扎算法。同樣，掩模矩陣50具有區(qū)域(0)至(8)，從而區(qū)域(0)為感興趣區(qū)。如圖所示，所有感興趣點P1至P9位于掩模矩陣50內。大單環(huán)路多邊形500被按照本發(fā)明計算以代表所有這種所定位的感興趣點P1至P9。如此做時，單環(huán)路多邊形500的節(jié)點代表感興趣點P1至P9，從而這些節(jié)點的被選擇節(jié)點位于45度扇區(qū)，例如節(jié)點P3、P4和P8。至于各45度扇區(qū)，如果確定它與ROI(0)的扇區(qū)交叉點位于ROI(0)外，那么節(jié)點被添加至ROI的角。
一個優(yōu)點是本方法和OPC算法逐邊分析多邊形，具體說來從多邊形的一側邊至該多邊形的下一相鄰側邊。這對具有45度扇區(qū)的那些多邊形特別有用?；咎卣魇窃谕ㄟ^釘扎節(jié)點坍縮大多邊形500至ROI的邊界上和之內之后45度線保持它的斜度，而同時保持本發(fā)明的單環(huán)路多邊形特征。圖5中被釘扎節(jié)點被表示為沿ROI(0)的邊界的圓。本發(fā)明關于45度扇區(qū)的另一優(yōu)點是它避免彎曲表的需要。
在本發(fā)明的所有方面，OPC中使用的本釘扎方法和算法也有助于共同待審批美國專利申請書Serial No.(Attorney DocketNo.FIS920030107，titled“EXTENDING FHE RANGE OFLITHOGRAPHIC SIMULATION INTEGRALS”)中所公開的三角卷積的使用，三角卷積不要求核被空間截斷，而是要求掩模被截為尺寸為(2xROI)2的正方區(qū)域。也就是說，本發(fā)明的存儲表尺寸可以被有利地減少至(2xROI)2內，即使45度扇區(qū)(消除彎曲表的優(yōu)點)。
根據前面的說明，本發(fā)明不引入超過常規(guī)核截斷方法的額外復雜性。本釘扎算法通過提供一種能夠在ROI內的多邊形單查找中完成多點卷積的算法提供加速卷積過程的優(yōu)點。本發(fā)明的關鍵特征是形成的新被坍縮多邊形“S”具有零寬度的部分同時仍保持單閉環(huán)多邊形。也就是說，如上所述，ROI內的任何疊加邊當本發(fā)明的被坍縮單閉環(huán)多邊形完成時將他們的扇區(qū)卷積刪去。此外，本方法和算法具有保持原始所計算的多邊形“P”的極性的優(yōu)點，即使在附加節(jié)點(8”)已經作為被坍縮多邊形“S”的結果被添加至ROI之后。
此外，本發(fā)明有利地避免產生大量空間上在ROI內并代表所定位的多邊形的較小多邊形的需要，這通常是常規(guī)剪切的基于模型的OPC技術的需要。按照本發(fā)明，所有原始所定位的感興趣點被釘扎以使位于ROI(0)的邊界上或內。如此做時，本發(fā)明提供一種有效的OPC計算，它節(jié)省大量的處理和計算時間，以及顯著地減少與常規(guī)OPC技術相關的處理步驟、拓撲經?；ㄙM和數值穩(wěn)定性。本OPC技術和算法所需的存儲量也被顯著地減少，因為本發(fā)明避免保持一組較小多邊形(由分解較大多邊形衍生)的體系上的簿記以擴展查表的時間消耗和冗長任務的需要，避免查表過程中的彎曲表或坐標變換的需要，并避免查表內的任何連續(xù)慣例的需要。
本方法可通過被存儲在機器可讀的程序存儲設備上的計算機程序產品被實施，并具體實施通過該機器可執(zhí)行的指令程序以執(zhí)行各方法步驟。本發(fā)明的程序存儲設備可作為使用光學、磁學特性和/或電子的機器的一部分被設計、制作和使用以執(zhí)行本發(fā)明的方法步驟。程序存儲設備包括但不限于磁盤、磁帶、光盤、只讀存儲器(ROM)、軟盤、半導體芯片等。計算機可讀程序代碼指已知源代碼可被用于轉變計算機上所用的上述方法。
盡管本發(fā)明已經被聯(lián)系具體優(yōu)選實施方式特別說明，很明顯根據前面的說明本領域的技術人員將明白許多改變、修改和變化。因此預期所附權利要求書將包含本發(fā)明的真正范圍和精神內的任何改變、修改和變化。
權利要求
1.一種執(zhí)行基于模型的光鄰近校正方法，該方法包括
提供具有帶有邊界的感興趣區(qū)的掩模矩陣；
在所述掩模矩陣內定位多個感興趣點；
確定具有多個代表所述所定位的多個感興趣點的節(jié)點的第一單環(huán)路有限幾何形狀；和
坍縮所述第一單環(huán)路有限幾何形狀至所述感興趣區(qū)上以校正光鄰近。
2.如權利要求1的方法，其中通過釘扎所述第一單環(huán)路有限幾何形狀的至少位于感興趣區(qū)外的那些節(jié)點至所述感興趣區(qū)的所述邊界，所述坍縮所述第一單環(huán)路有限幾何形狀的步驟形成被坍縮到所述感興趣區(qū)上的第二單環(huán)路有限幾何形狀。
3.如權利要求2的方法，其中所述第一和第二單環(huán)路有限幾何形狀具有相同的有限幾何形狀。
4.如權利要求2的方法，其中所述第一和第二單環(huán)路有限幾何形狀具有不同的有限幾何形狀。
5.如權利要求2的方法，其中所述第一和第二單環(huán)路有限幾何形狀具有相同的節(jié)點數目。
6.如權利要求2的方法，其中所述第一和第二單環(huán)路有限幾何形狀具有不同的節(jié)點數目。
7.如權利要求2的方法，其中確定所述第一單環(huán)路有限幾何形狀的所述步驟包括基于所述多個感興趣點和所述感興趣區(qū)之間的關系計算所述第一單環(huán)路有限幾何形狀。
8.如權利要求2的方法，該方法還包括以下步驟
定位所述第一單環(huán)路有限幾何形狀的第一節(jié)點；
定位所述第一單環(huán)路有限幾何形狀的第二節(jié)點；和
確定所述第一和第二節(jié)點在所述矩陣內相對于所述感興趣區(qū)的位置。
9.如權利要求8的方法，其中所述第一和第二節(jié)點彼此相鄰，并分別代表所述掩模矩陣內的所述多個感興趣點的相鄰第一和第二感興趣點。
10.如權利要求8的方法，其中所述位置包括位于所述感興趣區(qū)內的所述第一和第二節(jié)點，該方法還包括以下步驟
將所述第一節(jié)點指定給所述感興趣區(qū)內的所述第二單環(huán)路有限幾何形狀的第一節(jié)點；和
對所述第一單環(huán)路有限幾何形狀的所有節(jié)點重復所述步驟。
11.如權利要求8的方法，其中所述位置包括位于所述感興趣區(qū)內的所述第一節(jié)點和位于所述感興趣區(qū)外的所述第二節(jié)點，該方法還包括以下步驟
釘扎所述第二節(jié)點至與所述感興趣區(qū)的所述邊界最近的交叉點；
將所述第一節(jié)點指定給所述感興趣區(qū)內的所述第二單環(huán)路有限幾何形狀的第一節(jié)點；
將所述被釘扎第二節(jié)點指定給所述感興趣區(qū)內的所述第二單環(huán)路有限幾何形狀的第二節(jié)點；和
對所述第一單環(huán)路有限幾何形狀的所有節(jié)點重復所述步驟。
12.如權利要求8的方法，其中所述位置包括位于所述感興趣區(qū)外的所述第一節(jié)點和位于所述感興趣區(qū)內的所述第二節(jié)點，該方法還包括以下步驟
釘扎所述第一節(jié)點至與所述感興趣區(qū)的所述邊界最近的交叉點；
將所述第一被釘扎節(jié)點指定給所述感興趣區(qū)內的所述第二單環(huán)路有限幾何形狀的第一節(jié)點；和
對所述第一單環(huán)路有限幾何形狀的所有節(jié)點重復所述步驟。
13.如權利要求8的方法，其中所述位置包括位于所述感興趣區(qū)外的所述第一節(jié)點和第二節(jié)點，該方法還包括以下步驟
確定所述第一節(jié)點的所述位置所在的所述掩模矩陣的區(qū)域；
基于所述第一節(jié)點所在的所述掩模矩陣的所述區(qū)域釘扎所述第一節(jié)點至所述感興趣區(qū)的所述邊界，其中
如果所述第一節(jié)點位于臨近所述感興趣區(qū)的角的區(qū)域內，則釘扎所述第一節(jié)點至所述感興趣區(qū)的最近角，
如果所述第一節(jié)點位于臨近所述感興趣區(qū)的側邊的區(qū)域內，則釘扎所述第一節(jié)點至所述感興趣區(qū)的最近側邊；和
對所述第一單環(huán)路有限幾何形狀的所有節(jié)點重復所述步驟。
14.如權利要求13的方法，該方法還包括以下步驟
定位所述第一單環(huán)路有限幾何形狀的側邊，該側邊連接所述第一和第二節(jié)點，和
確定是否所述側邊與所述感興趣區(qū)相交于兩被釘扎點。
15.如權利要求14的方法，其中確定所述側邊與所述感興趣區(qū)相交于兩點，該方法還包括以下步驟
將所述兩被釘扎點的第一點指定給所述感興趣區(qū)內的所述第二單環(huán)路有限幾何形狀的第一節(jié)點；和
將所述兩被釘扎點的第二點指定給所述感興趣區(qū)內的所述第二單環(huán)路有限幾何形狀的第二節(jié)點。
16.如權利要求14的方法，其中確定所述側邊未與所述感興趣區(qū)相交于兩點，該方法還包括確定是否所述第一和第二節(jié)點位于所述掩模矩陣的相同區(qū)域內。
17.如權利要求16的方法，該方法還包括以下步驟，其中
如果所述第一和第二節(jié)點位于相同區(qū)域內，則前進至對所述第一單環(huán)路有限幾何形狀的所有節(jié)點重復所述步驟的所述步驟，
如果所述第一和第二節(jié)點不位于相同區(qū)域內，則確定是否所述第一和第二節(jié)點位于所述掩模矩陣的相鄰區(qū)域內。
18.如權利要求17的方法，該方法還包括以下步驟，其中
如果所述第一和第二節(jié)點位于所述掩模矩陣的相鄰區(qū)域內，則前進至對所述第一單環(huán)路有限幾何形狀的所有節(jié)點重復所述步驟的所述步驟，
如果所述第一和第二節(jié)點不位于所述掩模矩陣的相鄰區(qū)域內，則確定是否所述第一和第二節(jié)點不位于所述掩模矩陣的相鄰區(qū)域內。
19.如權利要求18的方法，該方法還包括以下步驟，其中
如果確定所述第一和第二節(jié)點不是不位于所述掩模矩陣的相鄰區(qū)域內，則由于錯誤停止所述方法，
如果確定所述第一和第二節(jié)點不位于所述掩模矩陣的相鄰區(qū)域內，那么連接所述第一和第二節(jié)點的所述側邊位于所述感興趣區(qū)外，并且該方法還包括以下步驟
添加附加節(jié)點至所述感興趣區(qū)的所述邊界的、相對于連接所述第一和第二節(jié)點的所述側邊的最近角。
20.一種執(zhí)行基于模型的光鄰近校正的方法，該方法包括
提供具有帶有邊界的感興趣區(qū)的掩模矩陣；
在所述掩模矩陣內定位多個感興趣點；
計算具有多個代表所述所定位的多個感興趣點的節(jié)點的第一單環(huán)路多邊形；
釘扎所述第一單環(huán)路多邊形的所述多個節(jié)點的被選擇節(jié)點至所述感興趣區(qū)的所述邊界以形成所述感興趣區(qū)上的第二單環(huán)路多邊形，所述多個節(jié)點的所述被選擇節(jié)點根據所述多個節(jié)點的所述被選擇節(jié)點與所述感興趣區(qū)的空間關系被釘扎至所述感興趣區(qū)；和
使用所述第二單環(huán)路多邊形校正光鄰近。
21.如權利要求20的方法，其中所述所定位的多個感興趣點代表所述掩模矩陣內的一組多邊形以使所述第一單環(huán)路多邊形的所述多個節(jié)點代表所述多邊形組的所有節(jié)點。
22.如權利要求20的方法，其中釘扎所述多個節(jié)點的被選擇節(jié)點的所述步驟包括
定位所述第一單環(huán)路多邊形的第一和第二相鄰節(jié)點；
確定所述矩陣內的各所述第一和第二節(jié)點相對于所述感興趣區(qū)的位置；和
當所述第一和第二節(jié)點的所述定位均位于所述感興趣區(qū)內時將所述第一節(jié)點指定給所述第二單環(huán)路多邊形的第一節(jié)點。
23.如權利要求22的方法，其中所述位置包括位于所述感興趣區(qū)內的所述第一節(jié)點和位于所述感興趣區(qū)外的所述第二節(jié)點，該方法還包括以下步驟
釘扎所述第二節(jié)點至與所述感興趣區(qū)的所述邊界最近的交叉點；
將所述第一節(jié)點指定給所述第二單環(huán)路多邊形的第一節(jié)點；和
將所述第二被釘扎節(jié)點指定給所述第二單環(huán)路多邊形的第二節(jié)點。
24.如權利要求23的方法，其中所述位置包括位于所述感興趣區(qū)外的所述第一節(jié)點和位于所述感興趣區(qū)內的所述第二節(jié)點，該方法還包括以下步驟
釘扎所述第一節(jié)點至與所述感興趣區(qū)的所述邊界最近的交叉點；和
將所述第一被釘扎節(jié)點指定給所述第二單環(huán)路多邊形的第一節(jié)點。
25.如權利要求24的方法，其中所述位置包括位于所述感興趣區(qū)外的所述第一節(jié)點和第二節(jié)點，該方法還包括以下步驟
確定所述第一節(jié)點的所述位置所在的所述掩模矩陣的區(qū)域；
基于所述第一節(jié)點所在的所述掩模矩陣的所述區(qū)域釘扎所述第一節(jié)點至所述感興趣區(qū)的所述邊界，其中
如果所述第一節(jié)點位于臨近所述感興趣區(qū)的角的區(qū)域內，則釘扎所述第一節(jié)點至所述感興趣區(qū)的最近角，
如果所述第一節(jié)點位于臨近所述感興趣區(qū)的側邊的區(qū)域內，則釘扎所述第一節(jié)點至所述感興趣區(qū)的最近側邊；
定位連接所述第一和第二節(jié)點的所述第一單環(huán)路多邊形的側邊；和
確定是否所述側邊與所述感興趣區(qū)相交于兩點。
26.如權利要求25的方法，確定所述側邊與所述感興趣區(qū)相交于兩點，該方法還包括以下步驟
將所述兩被釘扎點的第一點指定給所述感興趣區(qū)上的所述第二單環(huán)路多邊形的第一節(jié)點；和
將所述兩被釘扎點的第二點指定給所述感興趣區(qū)上的所述第二單環(huán)路多邊形的第二節(jié)點。
27.如權利要求26的方法，其中確定所述側邊未與所述感興趣區(qū)相交于兩點，該方法還包括確定是否所述第一和第二節(jié)點位于所述掩模矩陣的相同區(qū)域內；
其中所述第一和第二節(jié)點位于相同區(qū)域內，
定位所述第一單環(huán)路多邊形的第三節(jié)點，
對所述第一單環(huán)路多邊形的所述第二和第三節(jié)點重復所述步驟；
其中所述第一和第二節(jié)點不在相同區(qū)域內；
確定是否所述第一和第二節(jié)點位于所述掩模矩陣的相鄰區(qū)域內。
28.如權利要求27的方法，該方法還包括選自由以下步驟構成的組中的步驟
a)如果確定所述第一和第二節(jié)點確實在所述掩模矩陣的相鄰區(qū)域內，則前進至所述第一單環(huán)路多邊形的所述第二和第三節(jié)點，并重復所述步驟；和
b)如果確定所述第一和第二節(jié)點不在所述掩模矩陣的相鄰區(qū)域，則確定是否所述第一和第二節(jié)點實際上不位于所述掩模矩陣的相鄰區(qū)域；
i)如果確定所述第一和第二節(jié)點不是不位于所述掩模矩陣的相鄰區(qū)域內，則由于錯誤停止所述方法；和
ii)如果確定所述第一和第二節(jié)點實際上不位于所述掩模矩陣的相鄰區(qū)域內，那么連接所述第一和第二節(jié)點的所述側邊位于所述感興趣區(qū)外，本方法還包括以下步驟
在所述感興趣區(qū)的所述邊界的角處添加附加節(jié)點至所述第二單環(huán)路多邊形，所述角為距所述側邊的最近角。
29.如權利要求28的方法，該方法包括對所述第一單環(huán)路多邊形的所有節(jié)點重復所述步驟以使所述第二單環(huán)路多邊形被坍縮到所述感興趣區(qū)的所述邊界上和之內。
30.一種機器可讀的程序存儲設備，具體實施可由機器執(zhí)行的指令程序以執(zhí)行實施基于模型的光鄰近校正的方法步驟，所述方法步驟包括
提供具有帶有邊界的感興趣區(qū)的掩模矩陣；
在所述掩模矩陣內定位多個感興趣點；
確定具有多個代表所述所定位的多個感興趣點的節(jié)點的第一單環(huán)路有限幾何形狀；和
坍縮所述第一單環(huán)路有限幾何形狀至所述感興趣區(qū)上以校正光鄰近。
全文摘要
用于執(zhí)行基于模型的光鄰近校正的方法和執(zhí)行這種方法的程序存儲設備，所述方法提供具有感興趣區(qū)即ROI的掩模矩陣并在掩模矩陣內定位多個感興趣點。計算具有多個代表所定位的感興趣點的節(jié)點的第一多邊形，隨后確定它的節(jié)點與ROI之間的空間關系。然后第一多邊形的節(jié)點被釘扎至ROI的邊界上和之內以使第二多邊形被形成在ROI上。對第一多邊形的所有節(jié)點重復該過程以使第二多邊形被坍縮到ROI上。然后該坍縮后的第二多邊形被用于校正光鄰近。
文檔編號H01L21/00GK1612047SQ20041008609
公開日2005年5月4日 申請日期2004年10月21日 優(yōu)先權日2003年10月27日
發(fā)明者格里格·M·加勒廷, 伊曼紐爾·戈弗曼, 黎家輝, 馬克·A·拉維恩, 瑪哈拉杰·穆克吉, 多夫·拉姆, 艾倫·E·羅森布魯斯, 施洛莫·謝拉夫曼 申請人:國際商業(yè)機器公司