本發(fā)明的實施方式涉及磁共振成像裝置以及醫(yī)用圖像診斷裝置。

背景技術(shù)：
在基于磁共振成像（MRI：MagneticResonanceImaging）裝置的MRI圖像的攝像中，被檢體以載置在頂板上的狀態(tài)，向架臺裝置所具有的孔（bore）內(nèi)移動。架臺裝置根據(jù)與攝像條件對應(yīng)的脈沖序列（pulsesequence）產(chǎn)生高頻磁場、傾斜磁場，由此收集從被檢體產(chǎn)生的磁共振信號。架臺裝置具有使孔內(nèi)產(chǎn)生均勻的靜磁場的靜磁場磁鐵、或配置在靜磁場磁鐵的內(nèi)側(cè)使孔內(nèi)產(chǎn)生傾斜磁場的傾斜磁場線圈等。靜磁場磁鐵或傾斜磁場線圈等被配置在用于確保孔空間的孔筒（boretube）的外側(cè)。另外，在架臺裝置的孔內(nèi)，配置有用于頂板走行的軌道等。在架臺裝置中，由于數(shù)據(jù)收集時的機械動作或電磁力等，主要從傾斜磁場線圈產(chǎn)生噪音。因此，為了改善攝像時被檢體的舒適性，正在開發(fā)能夠抑制在架臺裝置中產(chǎn)生的噪音的MRI裝置。作為該MRI裝置，例如，存在通過將主動屏蔽型傾斜磁場線圈（ASGC：ActivelyShieldedGradientCoil）的端面由隔音材料或吸音材料構(gòu)成的蓋（隔音蓋）覆蓋，來對來自ASGC端面的輻射聲進行隔音的裝置。另外，作為該MRI裝置，存在將傾斜磁場線圈內(nèi)置在真空容器中的裝置。另外，近年來，為了改善攝像時被檢體的舒適性，正在開發(fā)一種盡可能物理性地擴大孔空間的大口徑的MRI裝置。但是，從RF線圈的性能、或MRI圖像的畫質(zhì)的觀點來看，擴大孔的口徑存在界限。另外，近年來，為了改善攝像時被檢體的舒適性，正在開發(fā)一種盡可能物理性地擴大孔空間的大口徑的MRI裝置。但是，從RF線圈的性能、或MRI圖像的畫質(zhì)的觀點來看，擴大孔的口徑存在界限。由于確?？椎奈锢砜臻g存在界限，因此，以改善舒適性為目的，能夠進行使孔內(nèi)壁面的顏色為白色等明亮的顏色，或者使照明朝向孔內(nèi)壁面照亮。但是，即使通過該方法，也不一定能消除被檢體進入孔內(nèi)時的不安感，被檢體進入孔內(nèi)部時所感覺到的舒適感不一定充分?，F(xiàn)有技術(shù)文獻專利文獻1：日本特開2011-24803號公報

技術(shù)實現(xiàn)要素：
本發(fā)明要解決的問題在于，提供一種能夠確保攝像時被檢體的舒適感的磁共振成像裝置以及醫(yī)用圖像診斷裝置。實施方式的磁共振成像裝置具備：架臺裝置、正面光源、以及上述架臺裝置的外部封裝。架臺裝置具有作為磁共振圖像的攝像空間的孔，在被載置在頂板上的被檢體通過使上述頂板移動的床裝置向上述孔內(nèi)移動的狀態(tài)，從上述被檢體收集磁共振信號。正面光源被設(shè)置在上述孔的開口部、且是位于上述床裝置的正面的開口部即正面開口部的周邊。上述架臺裝置的外部封裝的由從上述正面光源照射光照射的部分由透明或者半透明的材料形成。根據(jù)上述的構(gòu)成裝置能夠確保攝像時被檢體的舒適感。附圖說明圖1是用于說明本實施方式所涉及的MRI裝置的整體結(jié)構(gòu)例的圖。圖2是用于說明本實施方式所涉及的架臺裝置的結(jié)構(gòu)例的圖。圖3是用于說明本實施方式所涉及的正面光源以及正面反射部的圖（1）。圖4A是用于說明本實施方式所涉及的正面光源以及正面反射部的圖（2）。圖4B是用于說明本實施方式所涉及的正面光源以及正面反射部的圖（3）。圖5是用于說明本實施方式所涉及的后部光源以及后部反射部的圖（1）。圖6A是用于說明本實施方式所涉及的后部光源以及后部反射部的圖（2）。圖6B是用于說明本實施方式所涉及的后部光源以及后部反射部的圖（3）。圖7是用于說明使本實施方式所涉及的蓋為半透明的方法的一個例子的圖。圖8是用于說明設(shè)置正面反射部以及后部反射部的位置的變形例的圖。圖9是表示作為本實施方式所涉及的變形例，設(shè)置在孔的內(nèi)部的多個照明的一個例子的圖。圖10是表示在本實施方式所涉及的變形例中執(zhí)行的調(diào)光控制的一個例子的圖（1）。圖11是表示在本實施方式所涉及的變形例中執(zhí)行的調(diào)光控制的一個例子的圖（2）。具體實施方式以下，參照附圖，詳細說明磁共振成像（MagneticResonanceImaging）裝置的實施方式。另外，以下，將磁共振成像裝置記作“MRI裝置”。（實施方式）首先，針對本實施方式所涉及的MRI裝置的整體結(jié)構(gòu)的一個例子進行說明。圖1是用于說明本實施方式所涉及的MRI裝置的整體結(jié)構(gòu)例的圖。如圖1所示，本實施方式所涉及的MRI裝置1具有架臺裝置10、床裝置20、以及控制裝置30。架臺裝置10具有作為磁共振圖像（MRI圖像）的攝像空間的孔11。并且，雖然在圖1中沒有圖示，但架臺裝置10具有使孔11的內(nèi)部產(chǎn)生靜磁場的靜磁場磁鐵、產(chǎn)生傾斜磁場的傾斜磁場線圈、以及對于載置在由靜磁場磁鐵產(chǎn)生的磁場內(nèi)的被檢體照射RF脈沖的發(fā)送RF線圈等。另外，根據(jù)架臺裝置10的不同，有時還具有接收由于照射RF脈沖的RF脈沖而從被檢體發(fā)出的磁共振信號的接收RF線圈。另外，還存在將兼做發(fā)送RF線圈和接收RF線圈的RF線圈設(shè)置在架臺裝置10內(nèi)的情況。床裝置20是具有向孔11與被檢體一起插入的頂板21的裝置，具有將頂板21向孔11內(nèi)可移動地支承的頂板支承部22、和將頂板支承部22向上下方向可移動地支承的上下動機構(gòu)23?？刂蒲b置30是進行MRI裝置1整體的控制的裝置，根據(jù)由操作者指定的攝像條件，驅(qū)動架臺裝置10的傾斜磁場線圈或發(fā)送RF線圈等，或者根據(jù)來自操作者的指示，控制床裝置20的頂板支承部22或上下動機構(gòu)23、頂板21等的動作。針對MRI圖像攝像時的MRI裝置1的動作簡單地進行說明。首先，在攝像前，床裝置20的頂板支承部22在架臺裝置10的外部停止在比孔11低的初始位置。開始攝像時，首先，在頂板21上載置被檢體，之后，根據(jù)來自操作者的指示，頂板支承部22向上方向移動到與架臺裝置10的孔11的大致中心相同的高度，接著，頂板21與被檢體一起向孔11內(nèi)移動。當(dāng)頂板21向孔11內(nèi)移動時進行攝像。具體而言，首先，在架臺裝置10的孔11內(nèi)，發(fā)送RF線圈對被檢體照射RF脈沖。在該RF脈沖的作用下，從被檢體產(chǎn)生核磁共振信號。該核磁共振信號被被檢體所佩戴的接收RF線圈等收集，并發(fā)送至未圖示的圖像處理裝置。并且，圖像處理裝置根據(jù)所發(fā)送的信號進行規(guī)定的運算處理，重建被檢體的MRI圖像。當(dāng)頂板21向孔11內(nèi)移動時進行攝像。具體而言，首先，在架臺裝置10的孔11內(nèi)，發(fā)送RF線圈對被檢體照射RF脈沖。在該RF脈沖的作用下，從被檢體產(chǎn)生核磁共振信號。該核磁共振信號被被檢體所佩戴的接收RF線圈等收集，并發(fā)送至未圖示的圖像處理裝置。并且，圖像處理裝置根據(jù)所發(fā)送的信號進行規(guī)定的運算處理，重建被檢體的MRI圖像。攝像結(jié)束后，頂板21與被檢體一起向孔11外移動，接著，頂板支承部22向下方向移動到初始位置。這樣，架臺裝置10在被載置在頂板21上的被檢體通過使頂板21移動的床裝置20向孔11內(nèi)移動的狀態(tài)，從被檢體P收集磁共振信號。以上，針對MRI裝置1的整體結(jié)構(gòu)以及攝像時的動作進行了說明。在該架臺裝置10中，攝像時，主要從傾斜磁場線圈產(chǎn)生噪音。因此，例如，通過將主動屏蔽型傾斜磁場線圈（ASGC：ActivelyShieldedGradientCoil）的端面由隔音材料或吸音材料構(gòu)成的蓋（隔音蓋）覆蓋，來對來自ASGC端面的輻射聲進行隔音。另外，為了改善攝像時被檢體的舒適性，進行盡可能物理性地將孔11的空間擴大的處理。但是，從RF線圈的性能、或MRI圖像的畫質(zhì)的觀點來看，使孔11的口徑擴大存在界限。因此，在本實施方式中，為了確保攝像時被檢體的舒適感，如以下說明的那樣構(gòu)成架臺裝置10。圖2是用于說明本實施方式所涉及的架臺裝置的結(jié)構(gòu)例的圖。另外，圖2是沿著頂板21的插入方向切斷圖1所示的架臺裝置10的剖面圖。首先，如圖2所示，本實施方式所涉及的架臺裝置10具有靜磁場磁鐵12、傾斜磁場線圈13、以及發(fā)送RF線圈14。靜磁場磁鐵12是在孔11內(nèi)部的空間使均勻的靜磁場產(chǎn)生用的磁鐵，例如，當(dāng)使用超導(dǎo)磁鐵等時，主要形成中空的圓筒形，此外，還使用永久磁鐵等。傾斜磁場線圈13被配置在靜磁場磁鐵12的內(nèi)側(cè)。當(dāng)是靜磁場磁鐵12一般所使用的中空圓筒狀時，傾斜磁場線圈13同樣成型為中空圓筒狀。傾斜磁場線圈13與和相互正交的X、Y、Z的各軸對應(yīng)的3個線圈組合而形成，這3個線圈從傾斜磁場電源來單獨地接受電流供給，產(chǎn)生沿著X、Y、Z的各軸磁場強度發(fā)生變化的傾斜磁場。另外，Z軸方向與靜磁場方向相同。例如，傾斜磁場線圈13是ASGC。傾斜磁場線圈13的端面如圖2所示，被隔音蓋18覆蓋。發(fā)送RF線圈14是被配置在傾斜磁場線圈13的內(nèi)側(cè)的線圈，通過從未圖示的發(fā)送部供給的高頻脈沖來產(chǎn)生高頻磁場。在此，如圖2所示，靜磁場磁鐵12或傾斜磁場線圈13等為了確?？?1空間而被配置在中空圓筒狀的孔筒15的外側(cè)。另外，在圖2所示的一個例子中，發(fā)送RF線圈14被配置在孔筒15的內(nèi)側(cè)。蓋16是架臺裝置10的外部封裝，在圖2所示的一個例子中，靜磁場磁鐵12、傾斜磁場線圈13或發(fā)送RF線圈14等被收容在蓋16內(nèi)。另外，在架臺裝置10的孔11內(nèi)，配置用于使頂板21走行的軌道17等。另外，發(fā)送RF線圈14也可以被配置在孔11內(nèi)。并且，在本實施方式中，如圖2所示，在孔11的開口部、且是位于床裝置20的正面的開口部即正面開口部的周邊設(shè)置正面光源101。另外，正面開口部在圖2中是左側(cè)的開口部。另外，在本實施方式中，如圖2所示，在孔11的開口部、且是正面開口部的相反側(cè)的開口部即后部開口部的周邊設(shè)置后部光源103。另外，正面開口部在圖2中是左側(cè)的開口部。首先，針對正面光源101進行說明。通過設(shè)置正面光源101，從而能夠使位于正面開口部附近的蓋16比周圍明亮。由于位于正面開口部附近的蓋16發(fā)光，因此，移動到孔11內(nèi)的被檢體P能夠感覺正面開口部變大。首先，針對正面光源101進行說明。通過設(shè)置正面光源101，從而能夠使位于正面開口部附近的蓋16比周圍明亮。由于位于正面開口部附近的蓋16發(fā)光，因此，移動到孔11內(nèi)的被檢體P能夠感覺正面開口部變大。因此，在本實施方式的架臺裝置10內(nèi)，為了有效地使正面開口部變亮，還設(shè)置正面反射部102，上述正面反射部102通過使從正面光源101照射的光由反射件反射，來向床裝置20側(cè)導(dǎo)入。圖3、圖4A以及圖4B是用于說明本實施方式所涉及的正面光源以及正面反射部的圖。另外，圖3是圖2所示的架臺裝置10中的正面開口部周邊的放大圖，圖4A以及圖4B是將圖2所示的架臺裝置10中的正面開口部周邊沿著與頂板21的插入方向正交的斷面切斷的剖面圖。如圖3所示，正面反射部102通過將從正面光源101照射的光用反射件反射而向床裝置20側(cè)導(dǎo)入。即，圖3所示的正面反射部102是反射器，表面或者全部由反射件構(gòu)成。另外，正面反射部102的表面例如如圖3所示，以從正面光源101照射的光朝向架臺裝置10的前面的蓋16的方式，成型為鋸齒狀。另外，正面反射部102的表面形狀并不限定于鋸齒狀，如果能夠?qū)恼婀庠?01照射的光導(dǎo)向床裝置20側(cè)，則也可以是任意的形狀。在此，正面反射部102如圖3所示，被安裝在傾斜磁場線圈13的端部上安裝的隔音蓋18上。另外，正面反射部102也可以與隔音蓋18一體成型。并且，在本實施方式中，正面光源101在架臺裝置10的蓋16的內(nèi)側(cè)沿著孔11的口徑而設(shè)置多個。另外，在本實施方式中，正面反射部102在架臺裝置10的蓋16的內(nèi)側(cè)沿著孔11的口徑來設(shè)置。例如，正面光源101如圖4A或圖4B所示，在將孔筒15的中心作為中心的同心圓上，等間隔地設(shè)置8個。另外，正面反射部102如圖4A所示，以分別與8個正面光源101對應(yīng)的方式，在正面開口部側(cè)的隔音蓋18上等間隔地安裝8個。另外，隔音蓋18被安裝于在以孔筒15的中心為中心的同心圓上配置的傾斜磁場線圈13上。從而，8個正面反射部102也在以孔筒15的中心為中心的同心圓上，等間隔地設(shè)置8個?；蛘?，如圖4B所示，正面反射部102以網(wǎng)羅分別從8個正面光源101照射的光來反射的方式，成型為沿著孔筒15的內(nèi)徑的環(huán)狀，被安裝在正面開口部側(cè)的隔音蓋18上。在此，在本實施方式中，為了有效地使位于正面開口部附近的蓋16變亮，如以下那樣構(gòu)成架臺裝置10。即，架臺裝置10的蓋16被從正面光源101照射的光來照射的部分由透明或者半透明的材料形成。在此，在蓋16上，所謂由從正面光源101照射的光來照明的部分是指從正面光源101照射的光原樣地照射蓋16的部分、或從正面光源101來照射，被正面反射部102反射的光照射蓋16的部分。由透明或者半透明的材料形成的部分可以是這2個部分，也可以只是這2個部分中的一部分。接著，針對后部光源103進行說明。通過設(shè)置后部光源103，從而能夠使位于后部開口部附近的蓋16比周圍明亮。由于在孔11內(nèi)后部的蓋16明亮，因此，在孔11內(nèi)移動的被檢體P將從暗的位置向明亮的位置移動。因此，所謂通過草原（savanna）效應(yīng)，被檢體P能夠具有安心感在孔11內(nèi)移動。因此，在本實施方式的架臺裝置10內(nèi)，為了在孔11內(nèi)使后部的蓋16有效地變亮，還設(shè)置有通過將從后部光源103照射的光在相對的2個反射件之間進行反射而向孔11內(nèi)導(dǎo)入的后部反射部104。圖5、圖6A以及圖6B是用于說明本實施方式所涉及的后部光源以及后部反射部的圖。另外，圖5是圖2所示的架臺裝置10中的后部開口部周邊的放大圖，圖6A以及圖6B是將圖2所示的架臺裝置10中的后部開口部周邊沿著與頂板21的插入方向正交的剖面切斷的剖面圖。如圖5所示，后部反射部104通過將從后部光源103照射的光在相對的2個反射件之間進行反射來向孔11內(nèi)導(dǎo)入。即，圖5所示的后部反射部104是反射器，表面或者全部由反射件構(gòu)成。如圖5所示，后部反射部104具有兩個反射件，以使得從后部光源103照射的光朝向孔筒15后方的蓋16的方式，夾持來自后部光源103的光的光路。在此，如圖5所示，后部反射部104被安裝于在傾斜磁場線圈13的端部上安裝的隔音蓋18上。另外，后部反射部104也可以與隔音蓋18一體成型。并且，在本實施方式中，后部光源103在架臺裝置10的蓋16的內(nèi)側(cè)沿著孔11的口徑設(shè)置多個。另外，在本實施方式中，后部反射部104在架臺裝置10的蓋16的內(nèi)側(cè)沿著孔11的口徑設(shè)置。例如，后部光源103與正面光源101相同，在將孔筒15的中心作為中心的同心圓上，等間隔地設(shè)置8個。另外，具有1對反射件的后部反射部104如圖6A所示，以分別與8個后部光源103對應(yīng)的方式設(shè)置多個。即，具有1對反射件的后部反射部104在將孔筒15的中心作為中心的同心圓上，在后部開口部側(cè)的隔音蓋18上等間隔地安裝8個?；蛘?，1對后部反射部104如圖6B所示，為了網(wǎng)羅分別來自8個后部光源103的光來反射，成型為沿著孔筒15的內(nèi)徑的環(huán)狀，被安裝在后部開口部側(cè)的隔音蓋18上。在此，在本實施方式中，為了有效地使后部開口部附近的蓋16內(nèi)變亮，如以下那樣構(gòu)成架臺裝置10。即，架臺裝置10的蓋16被從后部光源103照射的光照亮的部分由透明或者半透明的材料形成。在此，在蓋16中，所謂被從后部光源103照射的光照射的部分是指從后部光源103照射的光原樣地照射蓋16的部分、或從后部光源104照射，被后部反射部104反射的光照射蓋16的部分。由透明或者半透明的材料形成的部分可以是這2個部分，也可以只是這2個部分中的一部分。如上所述，在本實施方式中，通過由正面光源101使孔11的入口變亮，從而能夠感覺正面開口部變大。另外，在本實施方式中，通過由正面反射部102，有效地使孔11的入口正面變亮，從而能夠感覺正面開口部進一步擴大。由此，在本實施方式中，在攝影時能夠給進入孔11內(nèi)時的被檢體P帶來安心感。另外，在本實施方式中，通過由后部光源103，以被檢體P朝向明亮的位置移動的方式，使孔11的出口變亮，從而，能夠通過草原效應(yīng)對被檢體P賦予安心感。另外，在本實施方式，通過由后部反射部104，有效地使出口附近的孔11內(nèi)明亮，從而，能夠通過進一步的草原效應(yīng)，給被檢體P帶來安心感。由此，在本實施方式中，在攝影時能夠給在孔11內(nèi)移動時的被檢體P帶來安心感。從而，在本實施方式中，能夠確保攝像時被檢體P的舒適感。另外，在本實施方式中，通過將正面光源101以及正面反射部102、或后部光源103以及后部反射部104沿著孔的口徑配置，從而，不管載置在頂板21上的被檢體P的體位是哪一種狀態(tài)，被檢體P都能夠識別光。從而，在本實施方式中，與以各種體位進行的攝像相對應(yīng)，能夠確保被檢體P的舒適感。另外，在本實施方式中，通過將正面反射部102或后部反射部104安裝在隔音蓋18上，或者將正面反射部102或后部反射部104與隔音蓋18一體成型，從而能夠有效地利用蓋16內(nèi)的空間。另外，正面反射部102以及后部反射部104希望由非磁性體的材料形成，以使得不會由于架臺裝置10內(nèi)的磁場而產(chǎn)生振動等。另外，在本實施方式中，架臺裝置10的蓋16被從正面光源101照射的光照射的部分通過透明或者半透明的材料形成。另外，在本實施方式中，架臺裝置10的蓋16被從后部光源103照射的光照射的部分由透明或者半透明的材料形成。由此，在本實施方式中，能夠有效地使位于正面開口部附近的蓋16或后部開口部附近的蓋16內(nèi)變亮?；蛘?，在本實施方式中，為了有效地使位于正面開口部附近的蓋16或后部開口部附近的蓋16內(nèi)變亮，在架臺裝置10的蓋16中，也可以將形成孔11的部分、即將孔筒15由透明或者半透明的材料形成。另外，也可以將設(shè)置在孔11內(nèi)，用于使頂板21走行的軌道17由透明或者半透明的材料形成。另外，蓋16也可以通過以下的處理變?yōu)榘胪该?。即，將蓋16用透明的材料成型后，通過涂覆或者印刷使透過率發(fā)生變化，從而一部分或者全部變?yōu)榘胪该?。另外，所謂為半透明的一部分如上所述，是被從正面光源101照射的光照亮的部分、或被從后部光源103照射的光照亮的部分。圖7是用于說明用于使本實施方式所涉及的蓋為半透明的方法的一個例子的圖。例如，蓋16也可以在由透明的材料成型后，另外變更被印刷的點的密度，從而一部分或者全部變?yōu)榘胪该?。此時，蓋16如圖7所示，通過變更印刷的點的密度來調(diào)整透過率，從而變?yōu)榘胪该?。另外，孔?5也可以通過由透明的材料成型后，另外由涂覆或者印刷使透過率發(fā)生變化，從而變?yōu)榘胪该?。另外，在上述的實施方式中，針對正面反射?02以及后部反射部104被安裝在隔音蓋18上的情況進行了說明。但是，本實施方式也可以將正面反射部102以及后部反射部104在遠離隔音蓋18的位置分體設(shè)置。另外，本實施方式也可以將正面反射部102以及后部反射部104安裝在架臺裝置10所具有的其他的構(gòu)成要素上，或者與該構(gòu)成要素一體成型。圖8是用于說明設(shè)置正面反射部以及后部反射部的位置的變形例的圖。例如，圖8所示的傾斜磁場線圈13將隔音蓋18安裝在端面上，并且內(nèi)置在真空容器19內(nèi)。此時，正面反射部102如圖8所示被安裝在真空容器19上。另外，后部反射部104如圖8所示被安裝在真空容器19上。另外，正面反射部102或后部反射部104也可以與真空容器19一體成型。由此，還能夠有效地利用蓋16內(nèi)的空間。另外，向正面光源101或后部光源103的電源供給可以由MRI裝置1的操作者來開始，也可以從頂板21開始移動的時刻自動地開始。該自動控制例如由控制頂板21等的動作的控制裝置30來進行。在此，在上述的實施方式中，針對作為開口部用的照明，在正面開口部的周邊與后部開口部的周邊的兩處，設(shè)置正面光源101以及后部光源103的情況進行了說明。但是，上述的實施方式除了正面光源101以及后部光源103之外，還可以在孔11的內(nèi)部設(shè)置至少1個照明。即，本實施方式除了開口部用照明之外，還可以設(shè)置一個或者多個孔11的內(nèi)部用照明。圖9是表示作為本實施方式所涉及的變形例，在孔的內(nèi)部設(shè)置的多個照明的一個例子的圖。例如，在本變形例中，作為孔11的內(nèi)部用照明，如圖9所示，設(shè)置第1照明105和第2照明106。第1照明105與第2照明106如圖9所示，在孔11的長度方向沿著用于使頂板11走行的軌道17設(shè)置。如圖9所示，第1照明105在孔11內(nèi)，被設(shè)置在正面開口部側(cè)，第2照明106在孔11內(nèi)中，被設(shè)置在后部開口部側(cè)。另外，雖然沒有圖示，但第1照明105在不妨害頂板11走行的位置，被設(shè)置在軌道17的兩端的兩處。另外，第2照明106在頂板11能夠走行的位置上，被設(shè)置在軌道17的兩端的兩處。第1照明105以及第2照明106通過從孔11的下面朝向上面照射光，從而照射孔11內(nèi)、孔11內(nèi)的蓋16的上面以及側(cè)面。第1照明105在孔11內(nèi)中，主要照亮將磁場中心作為中心的范圍。被檢體P的攝像部位通常被配置在磁場中心。另外，第2照明106在孔11內(nèi)，主要照射第1照明105的照明范圍與后部光源103的照明范圍之間的范圍。在此，第1照明105以及第2照明106例如分別由多個發(fā)光二級管（LightEmittingDiode：LED）燈構(gòu)成。另外，構(gòu)成第1照明105的多個LED燈被半透明的蓋覆蓋。另外，構(gòu)成第2照明106的多個LED燈同樣被半透明的蓋覆蓋。通過使用半透明的蓋，從而，從LED燈照射的清晰的光通過半透明的蓋，變?yōu)槟：墓?。即，通過使用半透明的蓋，從而，孔11內(nèi)、或孔11內(nèi)的蓋16的上面以及側(cè)面通過第1照明105以及第2照明106，由給被檢體P帶來舒適感的柔和的光來照射。另外，第1照明105以及第2照明106也可以分別由LED面板構(gòu)成。另外，在本變形例中，第1照明105以及第2照明106也可以通過將傳導(dǎo)分體設(shè)置的光源產(chǎn)生的光的導(dǎo)光部件沿著軌道17直線地配置來構(gòu)成。導(dǎo)光部件例如是光纖。通過使用導(dǎo)光部件，從而，孔11內(nèi)的蓋16的上面以及側(cè)面通過第1照明105以及第2照明106，照射給被檢體P帶來舒適感的柔和的光。由于不會受到磁場的影響，因此，導(dǎo)光部件作為被設(shè)置在孔11的內(nèi)部的照明是有用的。從LED照射的光量能夠調(diào)整。另外，從導(dǎo)光部件照射的光量能夠通過調(diào)整對導(dǎo)光部件供給光的光源所產(chǎn)生的光量來間接地進行調(diào)整。另外，例如，通過由LED燈構(gòu)成正面光源101以及后部光源103，從而也能夠調(diào)整分別從正面光源101以及后部光源103照射的光量。在此，圖2示例出被檢體P朝向孔11的內(nèi)部以頭先進入的方式來移動并攝像的情況。例如，頭頸部的攝像以頭先進入的方式進行。另外，在圖9中，示例出被檢體P朝向孔11的內(nèi)部以腳先進入的方式來移動并攝像的情況。例如，腹部或下肢部的攝像以腳先進入的方式來進行。腹部或下肢部的攝像也能夠以頭先進入的方式來執(zhí)行，但被檢體P的頭部會插入孔11的內(nèi)部。為了不給被檢體P帶來不快感，最好盡可能將被檢體P的頭部放置于孔11的外部。因此，通常，根據(jù)攝像部位，由操作者選擇由頭先進入的方式進行攝像，還是以腳先進入的方式進行攝像。是頭先進入的方式的攝像，還是腳先進入的方式的攝像，由操作者作為攝像條件向控制裝置30輸入。根據(jù)頭先進入或者腳先進入，被載置在頂板11上的被檢體P識別的范圍不同。因此，在對孔11內(nèi)設(shè)置照明的本變形例中，為了確保攝像時被檢體的舒適感，還進行以下的控制。即，本變形例所涉及的控制裝置30根據(jù)被檢體P以頭先進入的方式來移動還是以腳先進入的方式移動，對分別從正面光源101、后部光源103、第1照明105以及第2照明106照射的光進行調(diào)光。圖10以及圖11是表示在本實施方式所涉及的變形例中執(zhí)行的調(diào)光控制的一個例子的圖。例如，在本實施方式所涉及的變形例中執(zhí)行的調(diào)光控制根據(jù)被檢體P以頭先進入的方式移動還是以腳先進入的方式移動的攝像條件一起，根據(jù)攝像過程來進行。攝像過程例如被大致分為以下的4個過程。第1過程是從被檢體P進入設(shè)置架臺裝置10的檢查室到載置在頂板11上的過程。在第1過程中，以被檢體P能夠容易地在頂板11上移動的方式，床裝置20的頂板支承部22移動到較低的位置。第2過程是從第1過程結(jié)束后到頂板11的上升結(jié)束的過程。在第2過程中，頂板支承部22向上方向移動到與孔11的大致中心相同的高度。另外，第3過程是頂板11插入到攝像位置的過程。另外，第4過程是從被檢體P的攝像部位中的攝像開始到攝像結(jié)束的過程。進行床裝置20的動作控制的控制裝置30能夠取得現(xiàn)時刻是哪一過程。首先，在第1過程中，控制裝置30在以頭先進入以及腳先進入兩種情況下雙方，使正面光源101、后部光源103、第1照明105以及第2照明106全部點亮。在第1過程中，由于被檢體P能夠識別架臺裝置10整體，因此，控制裝置30不管是頭先進入還是腳先進入，控制裝置30都進行將孔11的開口部以及孔11的內(nèi)部全部照點亮的調(diào)光控制。接著，在第2過程中，控制裝置30與第1過程相同，在頭先進入以及腳先進入兩種情況下，使正面光源101、后部光源103、第1照明105以及第2照明106全部原樣點亮。當(dāng)腳先進入時，被檢體P能夠識別正面開口部以及孔內(nèi)。另外，當(dāng)頭先進入時，被檢體P能夠識別檢查室的天花板，根據(jù)將頸部反轉(zhuǎn)的情況，有時能夠識別正面開口部以及孔11內(nèi)。因此，控制裝置30即使在第2過程中，也進行使孔11的開口部以及孔11的內(nèi)部全部照亮的調(diào)光控制。其中，當(dāng)頭先進入時，被檢體P難以識別孔11內(nèi)的后部。因此，控制裝置30例如也可以使后部光源103熄滅。接著，在被檢體P在孔11內(nèi)移動過程中的第3過程中，控制裝置30以頭先進入和腳先進入的方式，進行不同的調(diào)光控制。圖10示出了在第3過程中，當(dāng)腳先進入時控制裝置30進行的調(diào)光控制的一個例子。另外，圖11示出了在第3過程中，頭先進入時控制裝置30進行的調(diào)光控制的一個例子。在圖10以及圖11中，“101”表示正面光源101，“105”表示第1照明105，“106”表示第2照明106，“103”表示后部光源103。另外，在圖10以及圖11，“ON”表示點亮，“OFF”表示熄滅。另外，在圖10以及圖11中，“ON（L）”表示通過調(diào)光控制，相符合的照明以低光量點亮的情況，“ON（Ｈ）”表示通過調(diào)光控制，相符合的照明以高光量點亮的情況。另外，在圖10以及圖11中，“ON（M）”表示通過調(diào)光控制，相符合的照明以“ON（L）”和“ON（H）”之間的光量、中程度的光量點亮的情況。在以腳先進入的方式被檢體P在孔11內(nèi)移動過程中的第3過程中，如圖10所示例的那樣，正面光源101以低光量點亮，第1照明105以中程度的光量點亮，第2照明106以及后部光源103以高光量點亮。當(dāng)腳先進入時，從腳部開始首先插入孔11內(nèi)的被檢體P能夠從正面開口部識別孔11內(nèi)。因此，控制裝置30進行從正面開口部朝向后部開口部增大光量的調(diào)光控制，以便得到草原效果。另一方面，以頭先進入的方式被檢體P在孔11內(nèi)移動過程中的第3過程中，如圖11所示例的那樣，正面光源101以及后部光源103熄滅，第1照明105以及第2照明106以中程度的光量點亮。當(dāng)腳先進入時，從頭部開始首先插入孔11內(nèi)的被檢體P在移動中，在孔11內(nèi)中主要識別蓋16的上面。因此，不需要開口部周邊的照明，而孔11的內(nèi)部必須以給被檢體P帶來舒適感的程度的光量照射。另外，即使是頭先進入，考慮存在被檢體P識別孔11的后部的可能性，控制裝置30例如也可以以第光量使第1照明105點亮，以中程度的光量使第2照明106點亮，以便得到草原效應(yīng)。最后，在被檢體P靜止的狀態(tài)的第4過程中，控制裝置30在頭先進入以及腳先進入兩種情況下，熄滅正面光源101，使后部光源103、第1照明105以及第2照明106全部點亮。腳先進入時，由于被檢體P能夠從正面開口部識別孔11內(nèi)，因此，控制裝置30熄滅正面光源101，使第1照明105、第2照明106以及后部光源103全部點亮，以便即使在攝像中也能夠得到草原效應(yīng)。另外，當(dāng)頭先進入時，被檢體P的頭部位于孔11內(nèi)，因此，控制裝置30熄滅照射被檢體P的視野外的正面光源101。并且，控制裝置30使后部光源103、第1照明105、第2照明106以及后部光源103的全部點亮，以使得孔11內(nèi)整體變亮。其中，當(dāng)頭先進入時，被檢體P在孔11內(nèi)主要識別蓋16的上面，因此，控制裝置30例如也可以熄滅后部光源103。這樣，在本變形例中，與正面光源101以及后部光源103一起，將多個照明設(shè)置在孔11內(nèi)。并且，在本變形例中，根據(jù)是頭先進入，還是腳先進入，進行這些多個照明的調(diào)光控制，以便確保被檢體P的舒適感。另外，上述的變形例能夠適用于被設(shè)置在孔11內(nèi)的照明是1個的情況，還能夠適用于是3個以上的情況。另外，在上述的變形例中說明的調(diào)光控制也可以由調(diào)光控制用而分體設(shè)置的控制裝置來執(zhí)行。另外，在上述的實施方式以及變形例中說明的內(nèi)容還能夠適用于MRI裝置1以外的醫(yī)用圖像診斷裝置。能夠適用上述的內(nèi)容的醫(yī)用圖像診斷裝置是具有架臺裝置的裝置。該架臺裝置具有作為醫(yī)用圖像的攝像空間的孔，以載置在頂板上的被檢體P通過移動頂板的床裝置而向孔內(nèi)被移動的狀態(tài)，從被檢體P收集醫(yī)用圖像的生成所使用的數(shù)據(jù)。該醫(yī)用圖像診斷裝置例如是X射線CT（ComputedTomography）裝置、SPECT（SinglePhotonEmissionComputedTomography）裝置、PET（PositronEmissioncomputedTomography）裝置。另外，該醫(yī)用圖像診斷裝置例如是SPECT裝置與X射線CT裝置一體化的SPECT-CT裝置、PET裝置與X射線CT裝置一體化的PET-CT裝置、PET裝置與MRI裝置一體化的PET-MRI裝置。另外，圖示出的各裝置的各構(gòu)成要素是功能概念性的，不一定物理性地如圖示那樣構(gòu)成。即，各裝置的分散和綜合的具體的方式并不限定于圖示，也可以根據(jù)各種負荷或使用狀況等，以任意的單位功能性地或者物理性地分散或綜合其全部或者一部分來構(gòu)成。以上，如所說明的那樣，根據(jù)本實施方式，能夠確保攝像時被檢體的舒適感。雖然說明了本發(fā)明的幾個實施方式,但這些實施方式是作為例子而提示的,并不意圖限定本發(fā)明的范圍。這些實施方式能夠以其他的各種方式進行實施，在不脫離發(fā)明的要旨的范圍內(nèi)，能夠進行各種的省略、置換、變更。這些實施方式或其變形與包含于發(fā)明的范圍或要旨中一樣，包含于權(quán)利要求書記載的發(fā)明及其均等的范圍中。