一種非等距聚焦放射裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種非等距聚焦放射裝置，包括放射源及準(zhǔn)直裝置，所述放射源用于產(chǎn)生放射線，所述放射線聚焦于一點(diǎn)，形成放射焦點(diǎn)；準(zhǔn)直裝置，用于與放射源相連，所述放射源發(fā)出的放射線通過準(zhǔn)直裝置到達(dá)放射焦點(diǎn)。所述準(zhǔn)直裝置的底部為平面，且準(zhǔn)直裝置底部到放射焦點(diǎn)的距離不等。采用本實(shí)用新型提供的一種非等距聚焦放射裝置，用以解決雜散輻射及屏蔽效果不佳的問題。
【專利說明】一種非等距聚焦放射裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及醫(yī)療器械領(lǐng)域，尤其涉及一種伽瑪?shù)对O(shè)備中非等距聚焦放射裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有的伽瑪射線立體定向治療系統(tǒng)(也稱伽瑪?shù)?是一種精確放射治療設(shè)備，其輻射單元均是采用幾何聚焦原理，其目的是利用多束安全劑量的伽瑪射線聚焦后對病灶靶點(diǎn)產(chǎn)生大劑量輻照，而對靶點(diǎn)周圍正常組織的損害減到最少，即提高放射治療時(shí)的治療增益比。為達(dá)到這一目的，現(xiàn)有的伽瑪?shù)毒捎靡粋€(gè)回轉(zhuǎn)幾何體(也叫載源體)如球面上分布著多個(gè)鈷60放射源，每個(gè)放射源通過準(zhǔn)直器通道將射線對準(zhǔn)一個(gè)公共焦點(diǎn)，從而在焦點(diǎn)處形成一個(gè)高劑量區(qū)。
[0003]然而，需要說明的是，目前采用球面結(jié)構(gòu)的準(zhǔn)直器均為等距準(zhǔn)直器，即每個(gè)準(zhǔn)直器出口到焦點(diǎn)的距離均是相等的，其準(zhǔn)直器屬于半球凹面結(jié)構(gòu)，受結(jié)構(gòu)的限制，其準(zhǔn)直器長度、屏蔽厚度有限，對影響焦點(diǎn)品質(zhì)的雜散輻射及屏蔽效果并不理想。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明提供一種非等距聚焦放射裝置，用以加強(qiáng)對放射線準(zhǔn)直過程中散射的屏蔽，提高焦點(diǎn)品質(zhì)，同時(shí)增強(qiáng)對非治療射線的屏蔽效果。
[0005]本發(fā)明提供了一種非等距聚焦放射裝置，包括:放射源，所述放射源用于產(chǎn)生放射線，所述放射射線聚焦于一點(diǎn)，形成放射焦點(diǎn)；準(zhǔn)直裝置，用于與放射源相連，所述放射源發(fā)出的放射線通過準(zhǔn)直裝置到達(dá)放射焦點(diǎn)；所述準(zhǔn)直裝置的底部為平面，且準(zhǔn)直裝置底部到放射焦點(diǎn)的距離不等。
[0006]較優(yōu)的，所述放射源個(gè)數(shù)為15-30個(gè)。
[0007]較優(yōu)的，所述放射源分布的范圍為緯度16-30度，經(jīng)度0-360度。
[0008]較優(yōu)的，所述準(zhǔn)直裝置產(chǎn)生的射野尺寸范圍為4-30毫米。
[0009]較優(yōu)的，所述準(zhǔn)直裝置產(chǎn)生的射野尺寸為3-5組。
[0010]較優(yōu)的，所述放射裝置包括預(yù)準(zhǔn)直器及準(zhǔn)直器，所述預(yù)準(zhǔn)直器與放射源相連，所述準(zhǔn)直器與預(yù)準(zhǔn)直器相連。
[0011]較優(yōu)的，所述放射源為鈷-60。
[0012]采用本發(fā)明實(shí)施例的非等距聚焦放射裝置，準(zhǔn)直器長度更長，射線經(jīng)過準(zhǔn)直器后，其雜散輻射更小，多束射線聚焦形成的焦點(diǎn)半影小，焦點(diǎn)品質(zhì)更優(yōu)；另外，由于準(zhǔn)直器底部是平面結(jié)構(gòu)，和半球凹面比，平面增加了厚度，其對射線的屏蔽效果更好，對病人更為安全。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0013]圖1是本發(fā)明實(shí)施例提供的非等距聚焦放射裝置縱切面剖視圖；
[0014]圖2是本發(fā)明實(shí)施例提供的非等距聚焦放射裝置局部放大圖；
[0015]圖3是本發(fā)明實(shí)施例提供的放射源分布示意圖。【具體實(shí)施方式】
[0016]為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。
[0017]為了更好得理解本發(fā)明的技術(shù)方案， 申請人:通過圖1及圖2的【具體實(shí)施方式】來說明該發(fā)明實(shí)施例的非等距聚焦放射裝置。如圖1所示，圖1是本發(fā)明實(shí)施例非等距聚焦放射裝置縱切面剖視圖，圖2是本發(fā)明實(shí)施例中非等距聚焦放射裝置局部放大圖。在本發(fā)明實(shí)施例中，從圖中可知，伽瑪?shù)对O(shè)備包括射源體(圖中未標(biāo)號)，所述射源體大致呈梯形結(jié)構(gòu)，上部為圓弧型，而底部為平面。所述射源體內(nèi)設(shè)置了多個(gè)非等距聚焦放射裝置，每個(gè)放射裝置從上到下依次包括三個(gè)部分，放射源1，在本發(fā)明實(shí)施例中可以是鈷60，預(yù)準(zhǔn)直器2，準(zhǔn)直器3。所述放射源I發(fā)出的射線經(jīng)過預(yù)準(zhǔn)直器2及準(zhǔn)直器3的射線通道而徑向到達(dá)放射焦點(diǎn)。需要說明的是，所述放射源I到放射焦點(diǎn)的距離相等，而由于準(zhǔn)直器底部為平面，則準(zhǔn)直器到放射焦點(diǎn)的距離則不等。
[0018]從圖1及圖2可知，相較于現(xiàn)有技術(shù)中采用半球凹面且等距的放射裝置而言，在本發(fā)明實(shí)施例中，所述準(zhǔn)直器到放射焦點(diǎn)的距離均不相等，且所述準(zhǔn)直器底部為平面。這樣一來，本發(fā)明實(shí)施例中的準(zhǔn)直器相較現(xiàn)有技術(shù)中的半球凹面的準(zhǔn)直器而言，準(zhǔn)直器長度更長，射線經(jīng)過準(zhǔn)直器后，其雜散輻射更小，多束射線聚焦形成的焦點(diǎn)半影??；另外，由于準(zhǔn)直器底部是平面，和半球凹面比，平面增加了厚度，其對射線的屏蔽效果更好，對病人更為安全。
[0019]另外，在本發(fā)明實(shí)施例中，所述準(zhǔn)直器可以為3-5組，且準(zhǔn)直器產(chǎn)生的射野尺寸范圍為4-30mm,具體的可以是:4mm, 8mm, 14mm, 18mm, 25mm以及30mm等不同規(guī)格。
[0020]此外，還需要說明的是，考慮到伽瑪?shù)都瓤赡苁穷^部伽瑪?shù)兑嘤锌赡苁求w部伽瑪?shù)叮派湓吹膭┝?、回轉(zhuǎn)半徑、運(yùn)行軌跡等等要求，在本發(fā)明實(shí)施例中，放射源的個(gè)數(shù)為15-30個(gè)，圖3是放射源的分布示意圖，以24個(gè)放射源為例，所述放射源分為4組，分布范圍為緯度16-30度，經(jīng)度0-360度。且每組放射源中相鄰兩放射源緯度和經(jīng)度分布呈等差數(shù)列排布。
[0021]以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種非等距聚焦放射裝置，包括: 放射源，所述放射源用于產(chǎn)生放射線，所述放射線聚焦于一點(diǎn)，形成放射焦點(diǎn)； 準(zhǔn)直裝置，用于與放射源相連，所述放射源發(fā)出的放射線通過準(zhǔn)直裝置到達(dá)放射焦占.其特征在于:所述準(zhǔn)直裝置的底部為平面，且準(zhǔn)直裝置底部到放射焦點(diǎn)的距離不等。
2.如權(quán)利要求1所述的非等距聚焦放射裝置，其特征在于:所述放射源個(gè)數(shù)為15-30個(gè)。
3.如權(quán)利要求2所述的非等距聚焦放射裝置，其特征在于:所述放射源分布的范圍為緯度16-30度，經(jīng)度0-360度。
4.如權(quán)利要求1所述的非等距聚焦放射裝置，其特征在于:所述準(zhǔn)直裝置產(chǎn)生的射野尺寸范圍為4-30毫米。
5.如權(quán)利要求4所述的非等距聚焦放射裝置，其特征在于:所述準(zhǔn)直裝置產(chǎn)生的射野尺寸為3-5組。
6.如權(quán)利要求1所述的非等距聚焦放射裝置，其特征在于:所述放射裝置包括預(yù)準(zhǔn)直器及準(zhǔn)直器，所述預(yù)準(zhǔn)直器與放射源相連，所述準(zhǔn)直器與預(yù)準(zhǔn)直器相連。
7.如權(quán)利要求1所述的非等距聚焦放射裝置，其特征在于，所述放射源為鈷-60。
【文檔編號】A61N5/10GK203436706SQ201320456769
【公開日】2014年2月19日 申請日期:2013年7月17日 優(yōu)先權(quán)日:2013年7月17日
【發(fā)明者】官愛平, 鄭曉天 申請人:官愛平, 鄭曉天