專利名稱：干濕兩用研磨機(jī)的研磨盤的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種研磨裝置，特別是涉及一種干濕兩用研磨機(jī)的研磨盤。
早期在坊間上的研磨機(jī)，其研磨盤大多以石磨盤為主，其利用表面粗糙的結(jié)構(gòu)，可將豆殼類加以實(shí)施研磨，然而，由于石磨盤本身材質(zhì)的特性，往往在進(jìn)行研磨時(shí)會有由石磨盤脫落的細(xì)砂產(chǎn)生，并摻雜在研磨物當(dāng)中，非常不衛(wèi)生。況且，石磨盤本身的材質(zhì)具有吸附水分的作用，故在使用一段時(shí)日后，會發(fā)霉、變味，非常不理想。因此，業(yè)界將研磨盤改以合金材質(zhì)制成使用，但，礙于研磨盤本身的材質(zhì)選用、結(jié)構(gòu)形狀，及研磨物特性(大小或干濕)，以及整體的研磨功效(研磨時(shí)間快慢，或研磨速度)，大致上可區(qū)分為兩種型態(tài)的研磨盤，一種只適用于較硬(干式)豆殼類，供研磨粉狀的干式研磨盤，另一種只適用已浸泡較具有韌性的豆殼類供榨汁用的濕式研磨盤。
前述較硬(干式)豆殼類特性，是利用豆殼類的脆性予以切削成粉狀，而已浸泡較具有韌性的豆殼類，則用研磨方式研磨出汁液，由于前述兩種實(shí)施的研磨盤無論在切削或者研磨，均無法相互使用，導(dǎo)致消費(fèi)者必須同時(shí)購置二組，以適應(yīng)其所需，不僅造成浪費(fèi)，同時(shí)在實(shí)施上亦局限在單一功能使用。鑒于此種因素，本創(chuàng)作人不得不研究開發(fā)適用于前述二種型態(tài)的研磨盤。
據(jù)此，本實(shí)用新型的主要目的在于提供一種干濕兩用研磨機(jī)的研磨盤，由上盤及下盤構(gòu)成，在上盤及下盤上均設(shè)有帶垂直刀邊的釋出導(dǎo)槽，且在其相向表面上形成帶齒紋的研磨面，可令豆殼類物品置入后先行被切削成碎狀，再利用研磨面的齒紋研磨成細(xì)粉，可達(dá)到適用于研磨干式及濕式豆殼類，具有一機(jī)兩用的經(jīng)濟(jì)價(jià)值。
本實(shí)用新型的另一目的，在于提供一種干濕兩用研磨機(jī)的研磨盤，采用具有直刀邊的釋出導(dǎo)槽，呈放射狀設(shè)立，且為內(nèi)深外淺傾斜的溝槽，因此在實(shí)施切削時(shí)豆殼類受離心力作用逐漸多次由大而小切削且甩至外圍，將豆殼類由大切削成碎狀，同時(shí)在釋出導(dǎo)槽外圍表面處，形成帶齒紋的研磨面，使成碎狀的豆殼類進(jìn)入后，可被研磨面的齒紋研磨成粉末狀。
本實(shí)用新型的再一目的，在于提供一種干濕兩用研磨機(jī)的研磨盤，在上、下盤結(jié)構(gòu)上，在二相鄰釋出導(dǎo)槽間延伸有撥塊，使得該撥塊在下盤旋轉(zhuǎn)時(shí)，豆殼類被撥動，并受離心力影響而撥至釋出導(dǎo)槽內(nèi)，可使豆殼類不致于滯留。
本實(shí)用新型的目的是由以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的。
一種干濕兩用研磨機(jī)的研磨盤，包括一圓盤，其改進(jìn)之處在于由上盤及下盤構(gòu)成研磨盤的圓盤體，上盤固定于上蓋底端，下盤與馬達(dá)連動呈旋轉(zhuǎn)狀態(tài)，組裝時(shí)呈相向設(shè)立，在上盤及下盤中間處朝外側(cè)呈離心放射狀態(tài)，且為內(nèi)深外淺傾斜形態(tài)設(shè)立可容納豆殼類的釋出導(dǎo)槽，釋出導(dǎo)槽兩側(cè)為垂直刀邊，上、下兩圓盤體相向的表面以間隔線區(qū)分形成具有粗、細(xì)齒紋的研磨面，且上盤及下盤的二相鄰釋出導(dǎo)槽間延伸設(shè)有撥塊。供榨汁與需研磨成粉的豆殼類置入后，先受撥塊切削及撥動，再在離心力作用下進(jìn)入釋出導(dǎo)槽，并迅速受垂直刀邊逐漸多次由大而小切削成碎狀，再被研磨面研磨成細(xì)粉狀。
本實(shí)用新型的具體結(jié)構(gòu)由以下實(shí)施例及其附圖詳細(xì)給出。


圖1是本實(shí)用新型的分解立體示意圖。
圖2是本實(shí)用新型設(shè)置于研磨機(jī)上的分解立體示意圖。
圖3是本實(shí)用新型相向設(shè)立的剖面圖。
圖4是本實(shí)用新型在進(jìn)行切削的使用狀態(tài)圖。(下盤為旋轉(zhuǎn)狀態(tài))請參閱
圖1、2，本實(shí)用新型包括由上盤(1)及下盤(2)所組成的研磨盤，其中上盤(1)為一圓盤狀，中間設(shè)有一較大的進(jìn)料孔(11)，此上盤(1)倒向設(shè)立在研磨機(jī)的上蓋底處呈固定狀態(tài)，其由進(jìn)料孔(11)周圍朝外側(cè)開設(shè)有放射狀并呈內(nèi)深外淺傾斜的釋出導(dǎo)槽(12)。每一釋出導(dǎo)槽(12)兩側(cè)邊為垂直刀邊(121)，同時(shí)在其中二相鄰釋出導(dǎo)槽(12)間延伸有撥塊(13)，此撥塊(13)的數(shù)量可根據(jù)釋出導(dǎo)槽(12)開設(shè)數(shù)量多寡斟酌而定，并在相向表面上以間隙線(14)、(15)區(qū)分形成有粗齒紋(131)、(16)及細(xì)齒紋(17)。
下盤(2)與上盤(1)同樣為圓盤狀，中間為一較小的軸孔(21)，供下盤(2)固定于研磨機(jī)馬達(dá)延伸主軸上，可受馬達(dá)傳動呈旋轉(zhuǎn)狀態(tài)。其由軸孔(21)周圍朝外側(cè)亦開設(shè)有放射狀且為內(nèi)深外淺傾斜的釋出導(dǎo)槽(22)，在釋出導(dǎo)槽(22)兩側(cè)邊為垂直刀邊(221)，同時(shí)該二相鄰釋出導(dǎo)槽(22)間延伸有撥塊(23)，此撥塊(23)的數(shù)量可根據(jù)釋出導(dǎo)槽(22)開設(shè)數(shù)量的多寡斟酌而定，同樣在相向表面上，以間隔線(24)、(25)區(qū)分形成有粗齒紋(231)、(26)及細(xì)齒紋(27)。
據(jù)此，上盤(1)與下盤(2)組裝呈相向設(shè)立，參閱圖3，該上盤(1)與下盤(2)的釋出導(dǎo)槽(12)(22)，本實(shí)施例設(shè)立六個。當(dāng)豆殼類(3)由進(jìn)料孔(11)置入后，因下盤(2)是呈旋轉(zhuǎn)狀態(tài)，且上盤(1)與下盤(2)均設(shè)有撥塊(13)(23)，故將豆殼類(3)置入時(shí)，先被撥塊(13)(23)的垂直刀邊(121)(221)切削，并在撥塊的旋轉(zhuǎn)離心力作用下，朝外側(cè)即由二相鄰釋出導(dǎo)槽(12)(22)間進(jìn)入。當(dāng)進(jìn)入釋出導(dǎo)槽(12)(22)瞬間，由于下盤(2)在旋轉(zhuǎn)，可被釋出導(dǎo)槽(12)(22)兩側(cè)的垂直刀邊(121)(221)切削，更受釋出導(dǎo)槽(12)(22)內(nèi)深外淺傾斜導(dǎo)引，豆殼類(3)會因受離心力的甩引而朝外側(cè)被逐漸多次由大而小切削成極小碎狀，參閱圖4，最后呈極小碎狀的豆殼類(3)再進(jìn)入研磨面，受研磨面的齒紋(131)(231)(16)(26)(17)(27)研磨而成細(xì)粉狀，因此可達(dá)到切削、研磨的效果。
當(dāng)然，本實(shí)用新型所采用的豆殼類(3)可為濕式、或者干式的豆殼類(3)，因?yàn)榭上仍诖怪钡哆?121)(221)強(qiáng)力切削下，將豆殼類(3)逐漸多次由大而小被切削，最后，干式或已浸泡的濕式豆殼類(3)再經(jīng)過研磨面的齒紋(131)(231)(16)(26)(17)(27)實(shí)施研磨。因此，在上盤(1)及下盤(2)配合下，可完全對干、濕兩種豆殼類(3)進(jìn)行研磨，具有一機(jī)兩用效果，以達(dá)到前述預(yù)期的目的。
再者，由于下盤(2)在旋轉(zhuǎn)時(shí)，豆殼類(3)置入時(shí)可能會有滯留停頓無法迅速被甩至釋出導(dǎo)槽(12)(22)內(nèi)的情形，因此本實(shí)用新型在上盤(1)與下盤(2)其中二相鄰的釋出導(dǎo)槽(12)(22)間，設(shè)有延伸撥塊(13)(23)，可使豆殼類(3)初期被切削及撥動，并受離心力作用而迅速進(jìn)入釋出導(dǎo)槽(12)(22)間，再逐漸多次由大而小被切削成極小碎狀，供研磨面的齒紋(131)(231)(16)(26)(17)(27)研磨，以提高其效率，實(shí)為一實(shí)用性設(shè)計(jì)。
綜上所述，本實(shí)用新型研磨盤適用于榨汁及研磨成粉，形成一機(jī)雙用，不但維持習(xí)用單一功能的研磨效果，甚至使消費(fèi)者節(jié)省一半的購買成本，非常具有經(jīng)濟(jì)效益，完全符合新型專利的申請要件。
權(quán)利要求1.一種干濕兩用研磨機(jī)的研磨盤，包括一圓盤，其特征在于由上盤及下盤構(gòu)成研磨盤的圓盤體，上盤固定于上蓋底端，下盤與馬達(dá)連動呈旋轉(zhuǎn)狀態(tài)，組裝時(shí)呈相向設(shè)立，在上盤及下盤中間處朝外側(cè)呈離心放射狀態(tài)，且為內(nèi)深外淺傾斜形態(tài)設(shè)立可容納豆殼類的釋出導(dǎo)槽，釋出導(dǎo)槽兩側(cè)為垂直刀邊，上、下兩圓盤體相向的表面以間隔線區(qū)分形成具有粗、細(xì)齒紋的研磨面，且上盤及下盤的二相鄰釋出導(dǎo)槽間延伸設(shè)有撥塊。
專利摘要一種干濕兩用研磨機(jī)的研磨盤,由上、下盤構(gòu)成圓盤體,上盤固定于上蓋底端,下盤與馬達(dá)連動,呈相向設(shè)立,上、下盤的中心向外呈放射狀態(tài),且設(shè)立容納豆殼類的釋出導(dǎo)槽,釋出導(dǎo)槽兩側(cè)為垂直刀邊,上、下盤相向表面形成具有粗、細(xì)齒紋的研磨面,上、下盤二相鄰釋出導(dǎo)槽間設(shè)有撥塊。供榨汁與需研磨成粉的豆殼類置入后,先受撥塊切削及撥動,再在離心力作用下進(jìn)入釋出導(dǎo)槽,并迅速被垂直刀邊切削成碎狀,再被研磨面研磨成細(xì)粉狀。
文檔編號B02C7/12GK2338086SQ982076
公開日1999年9月15日 申請日期1998年7月24日 優(yōu)先權(quán)日1998年7月24日
發(fā)明者鄭榮源, 林國義 申請人:鄭榮源, 林國義