技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
一種光電轉(zhuǎn)換元件及其制造方法以及光電轉(zhuǎn)換裝置，在形成光電轉(zhuǎn)換元件的半導(dǎo)體層的工序中，降低電極的導(dǎo)電材料附著于半導(dǎo)體層的可能性。一種光電轉(zhuǎn)換元件的制造方法，所述光電轉(zhuǎn)換元件具備半導(dǎo)體層，所述光電轉(zhuǎn)換元件的制造方法包括：形成電極的工序；形成覆蓋所述電極的絕緣層的工序；在所述絕緣層中俯視下與所述電極重疊的區(qū)域形成開口的工序；在所述絕緣層的表面形成半導(dǎo)體材料的覆蓋層的工序；以及通過所述覆蓋層的圖案化來形成所述半導(dǎo)體層的工序，在形成所述半導(dǎo)體層的工序中，以所述半導(dǎo)體層的外周緣位于俯視下比所述開口的內(nèi)周緣靠外側(cè)處的方式，形成所述半導(dǎo)體層。

技術(shù)研發(fā)人員：工藤學(xué)
受保護(hù)的技術(shù)使用者：精工愛普生株式會(huì)社
技術(shù)研發(fā)日：2016.12.14
技術(shù)公布日：2017.08.11