技術(shù)編號：9422075
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。 本發(fā)明總的來說涉及包含腐蝕抑制劑和表面活性劑的組合物，其用于從其上具有 殘留物和/或污染物的微電子器件、優(yōu)選地從包含含銅材料的微電子器件清除所述殘留物 和/或污染物。背景技術(shù) 微電子器件晶片被用于形成集成電路。微電子器件晶片包括基材例如硅，在基材 中對區(qū)域進(jìn)行圖形化，用于沉積具有絕緣、導(dǎo)電或半導(dǎo)電性質(zhì)的不同材料。 為了獲得正確的圖形化，用于在基材上形成層的過量材料必須被移除。此外，為 了制造有功能并且可靠的線路，重要的是在后續(xù)加工之前制備平坦或平面的微電...
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