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基于陷阱產(chǎn)生效應(yīng)的半導(dǎo)體存儲器件及其制備方法與應(yīng)用技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:8944563

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半導(dǎo)體硅材料在器件制作過程中,由于工藝原因而產(chǎn)生了缺陷或者陷阱,這些硅中的陷阱在半導(dǎo)體硅的禁帶中引入了分立的能級。這一分立的能級具有干擾半導(dǎo)體存儲器件的載流子輸運(yùn)特性,因此一般被視為能對器件性能帶來退化的主要因素。然而正是由于陷阱在禁帶中具有分立能級,因此他們可以作為有效的產(chǎn)生中心,來調(diào)節(jié)導(dǎo)帶和價(jià)帶中的兩種載流子的濃度;而且,陷阱的這種特殊的產(chǎn)生效應(yīng)具有很好的可控性。因此,如何利用陷阱的這一特性具有重要意義。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的首要目的在于提供基于陷阱產(chǎn)生效應(yīng)...
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