技術(shù)編號：8341310
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。 本發(fā)明涉及半導(dǎo)體領(lǐng)域，尤其涉及。背景技術(shù) 由于各種電子組件（例如，晶體管、二極管、電阻器、電容器等）的集成密度的不斷 改進(jìn)，半導(dǎo)體工業(yè)已經(jīng)經(jīng)歷了快速增長。集成密度的這種改進(jìn)主要來自最小部件尺寸的反 復(fù)減?。ɡ纾瑢雽?dǎo)體工藝節(jié)點(diǎn)向著亞20nm節(jié)點(diǎn)縮?。?，這允許更多的組件集成到給定 區(qū)域。產(chǎn)生的增大的集成密度通常產(chǎn)生改進(jìn)的集成電路，諸如具有減小的延遲的集成電路。 然而，最小部件尺寸的減小和密度的增大可能導(dǎo)致制造的集成電路中的問題，該問題可能 降低集成電路的...
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