技術(shù)編號：8121972
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明涉及一種X射線照射系統(tǒng)以及X射線照射裝置。背景技術(shù)一直以來x射線照射裝置是眾所周知的(例如參照日本專利文獻(xiàn) 1、 2)。在日本專利文獻(xiàn)2中記載了，使用例如來自于日本專利文獻(xiàn)1 所記載的X射線照射裝置的軟X射線，除去產(chǎn)生于基板的靜電的系統(tǒng)。 特別是在該系統(tǒng)中，進(jìn)行控制以使軟X射線不會對基板照射規(guī)定時間 以上并對基板進(jìn)行去除靜電，由此抑制例如像顯影不均勻的存于基板 上的不良狀況。日本專利公開2004-356056號公報日本專利公開2000-217M號公報發(fā)明內(nèi)容在如上所述的系統(tǒng)中，優(yōu)選例如在將抗蝕劑涂布于...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。