技術(shù)編號(hào)：7245079
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明揭露了一種金屬柵極的制作方法，所述方法包括提供半導(dǎo)體襯底，在所述半導(dǎo)體襯底上形成有介質(zhì)層，所述介質(zhì)層中形成有柵極介質(zhì)層以及位于所述柵極介質(zhì)層上的虛擬柵極結(jié)構(gòu)，所述虛擬柵極結(jié)構(gòu)和柵極介質(zhì)層側(cè)壁形成有間隙壁；去除部分所述間隙壁和虛擬柵極結(jié)構(gòu)，形成溝槽；進(jìn)行物理氣相沉積工藝形成金屬層以填充所述溝槽；進(jìn)行化學(xué)機(jī)械研磨工藝去除所述介質(zhì)層上的金屬層，形成金屬柵極結(jié)構(gòu)。所述制造方法可以形成較大的溝槽開口，避免了金屬層沉積填充不完全影響器件的功能和可靠性。專利說明[...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。