技術(shù)編號：7240930
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種收納掩模基板(mask blanks)等基板并輸送該基板的基板收納裝置。背景技術(shù)公知有為了在半導(dǎo)體晶圓、FPD基板上形成微細(xì)的電路圖案 而使用了光掩模的光刻技術(shù)。在該光刻技術(shù)中，使曝光用光源的電磁波在形成有電路圖案的光掩模透過來對形成有抗蝕劑膜的半導(dǎo)體晶圓等基板進(jìn)行曝光，從而將微細(xì)的電路圖案縮小轉(zhuǎn)印到半導(dǎo)體晶圓上。這種光掩模是如下這樣制造的在將遮光性膜形成在透光性基板上而形成的稱作掩?；宓幕灞砻嫔?，反復(fù)進(jìn)行成膜、化學(xué)機(jī)械研磨(CMP)和清...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。