技術(shù)編號(hào)：7231615
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體工藝，且特別是涉及一種淺溝渠隔離結(jié)構(gòu)及浮置 柵極的制作方法。背景技術(shù)隨著半導(dǎo)體技術(shù)的進(jìn)步，元件的尺寸也不斷地縮小。當(dāng)元件的尺寸進(jìn)入 到深次微米的范圍中，甚至是更細(xì)微的尺寸時(shí)，相鄰的元件之間發(fā)生短路的 機(jī)率會(huì)升高，因此如何有效地隔離元件與元件之間就變得相當(dāng)重要。 一般來(lái) 說(shuō)，工藝中通常會(huì)在元件與元件之間加入一層隔離結(jié)構(gòu)來(lái)避免短路的發(fā)生，而現(xiàn)今較常使用的方法為淺溝渠隔離結(jié)構(gòu)(shallowtrench isolation, STI)工藝。 ...
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