技術(shù)編號：7180954
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種等離子發(fā)生裝置，尤其是一種感應耦合等離子發(fā)生裝置。背景技術(shù)隨著半導體基板、平板顯示基板、太陽能電池基板等的面積變大，處理這些基板的 制造裝置也隨之變大。等離子處理裝置用于蝕刻、沉積、離子注入、物質(zhì)表面處理等各種工 藝。 隨著等離子處理裝置的面積變大，其工藝均勻性及工藝速度成為最大的問題。工 藝均勻性可依賴于等離子的密度。發(fā)明內(nèi)容 本發(fā)明的目的在于提供一種可形成均勻等離子的等離子發(fā)生裝置。 根據(jù)本發(fā)明一實施例的一種等離子發(fā)生裝置，包括絕緣板(S...
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