技術編號:7152161
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術詳細信息。本實用新型屬于光伏硅片制造設備,尤其涉及一種基于影像檢測及定位的硅片轉運系統(tǒng)。背景技術板式等離子增強化學氣相沉積(PECVD法)是常用的兩種晶體硅太陽電池降低放射率和鈍化的方法之一即將多片娃片放置在一個石墨或碳纖維支架上,放入一個金屬的沉積腔室中,腔室中有平板型的電極,與樣品支架形成一個放電回路,在腔室中的工藝氣體在兩個極板之間的交流電場的作用下在空間形成等離子體,分解SiH4中的Si和H,以及冊13種的N形成SiNx沉積到硅表面。對于這一工藝,自動化已經...
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