技術(shù)編號(hào):7021698
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。硅光電二極管,低摻雜的長方體N型硅晶片上設(shè)有高摻雜的P型硅層,形成P+N結(jié),硅晶片上表面設(shè)有二氧化硅膜,所述高摻雜的P型硅層為圓角長方體,所述低摻雜的長方體N型硅晶片的外周設(shè)有高摻雜的N型硅環(huán),高摻雜的N型硅環(huán)和高摻雜的P型硅層之間隔著N型硅層,P型硅層上表面二氧化硅膜上開有方形接觸孔,接觸孔內(nèi)貼附有金屬AL作為陽極,N型硅晶片的背面積淀金屬Au膜作為陰極。本實(shí)用新型的反向擊穿電壓高于30V,暗電流小于10nA。專利說明硅光電二極管[0001 ] 本實(shí)用新...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。