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由化學(xué)氣相沉積法沉積的有機(jī)聚合物抗反射涂層的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):6893245

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本發(fā)明大致涉及在硅和介電材料上形成抗反射涂層(ARC)的方法和所產(chǎn)生的集成電路前體結(jié)構(gòu)。更具體地說(shuō),本發(fā)明方法包括提供大量高應(yīng)變的抗反射化合物并使該化合物蒸發(fā)。然后使所產(chǎn)生的蒸氣熱解成穩(wěn)定的雙自由基,后者隨后聚合到基片表面上。涂布光致抗蝕層,形成ARC層,進(jìn)行其余的微光刻法步驟。 背景技術(shù) 集成電路制造廠為了提高產(chǎn)量、降低單位機(jī)殼和增加芯片內(nèi)計(jì)算能力,不斷尋求擴(kuò)大硅片大小和減小組合元件細(xì)部尺寸(feature dimension)的方法。隨著先進(jìn)的深紫外線...
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