技術(shù)編號：6871054
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種多層布線構(gòu)造的半導(dǎo)體器件。 背景技術(shù) 近年來，為了提高器件性能，將低介電常數(shù)膜用于層間絕緣膜已成為必然。這種低介電常數(shù)膜，一般地說，膜密度較低并具有透水性。因而，相對介電常數(shù)k即便是約80的低介電常數(shù)膜中也含有少量水。所以，為了有效地利用低介電常數(shù)膜，就需要隔斷水分浸入低介電常數(shù)膜。在這里，圖12中示出第1現(xiàn)有技術(shù)半導(dǎo)體器件的平面圖，圖13中示出沿圖12的VIII-VIII線的半導(dǎo)體器件剖面圖。如圖12、13所示，在半導(dǎo)體襯底71上形成柵電極...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。