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從硅中去除銅及其它金屬雜質(zhì)的工藝的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):6823113

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背景技術(shù)本發(fā)明總體上涉及去除存在于硅晶片中的銅及其它金屬雜質(zhì)的工藝,更尤其涉及銅及其它金屬擴(kuò)散至這種硅晶片表面、從而可從該晶片中去除、同時(shí)避免形成銅及其它金屬硅化物沉淀的工藝過(guò)程。硅器件的性能由于金屬雜質(zhì)的存在而降低。過(guò)渡金屬,包括銅、鐵和鎳將會(huì)在與集成電路制造條件相關(guān)的正常熱循環(huán)過(guò)程中溶解和擴(kuò)散。當(dāng)從這種高溫冷卻時(shí),這些及其它金屬可能會(huì)沉淀或聚集在晶片表面、以及晶片界面、缺陷點(diǎn)和晶片的深摻雜區(qū)域。這些沉淀物常常導(dǎo)致位錯(cuò)和其它缺陷的形成。這些沉淀物及其相關(guān)...
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