技術(shù)編號：6145725
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種裸片缺陷檢測系統(tǒng)及其使用方法，尤其涉及一種用于檢測裸片背面缺陷的裸片缺陷檢測系統(tǒng)及其使用方法。 背景技術(shù)在半導(dǎo)體工藝中，往往會因?yàn)?一些無法避免的原因而生成細(xì)小的微?；蛉毕?，而 隨著半導(dǎo)體工藝中元件尺寸的不斷縮小與電路密度的不斷提高，這些極微小的缺陷或微粒 對集成電路品質(zhì)的影響也日趨嚴(yán)重，因此為維持產(chǎn)品品質(zhì)的穩(wěn)定，通常在進(jìn)行各項(xiàng)半導(dǎo)體 工藝的同時(shí)，也須針對所生產(chǎn)的半導(dǎo)體元件進(jìn)行缺陷檢測，以根據(jù)檢測的結(jié)果來分析造成 這些缺陷的根本原因，之后才能...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。