技術(shù)編號：5953185
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種雙直線軌道探測方法，具體涉及一種適用于探測或計算任意。背景技術(shù)折射效應(yīng),即為電磁材料或器件對入射電磁波(或光波)產(chǎn)生的偏折效應(yīng)(包括正折射和負(fù)折射)。在二維光子準(zhǔn)晶器件(如透鏡、棱鏡)中，作為決定入射波束偏折行為的重要參數(shù)，等效折射率(包括正折射率和負(fù)折射率)決定了波束傳輸及出射的具體方向，波束聚焦及成像的具體位置。因此，等效折射率的計算是二維光子準(zhǔn)晶器件中折射效應(yīng)研究的一個重要課題。Feng 等(Z. F. Feng, et al. Phy...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。