技術(shù)編號：5281335
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明提供，銅銦硒薄膜的各組分含量為Cu20.55-20.59%，In25.54-25.60%，Zn15.62-15.68%，Se38.10-38.19%，上述各組分之和為100%；其制備方法如下1）電沉積溶液的配制電沉積溶液在常溫下用去離子水配制，調(diào)整pH值為2.5-3.0；2）薄膜的電沉積電沉積采用恒電位-1.0V，溶液溫度25℃，沉積時(shí)間30min，電沉積時(shí)溶液無需攪拌，室溫操作；3）薄膜的硒化處理將薄膜和裝有3g固體硒的鉬制盒放入硒化爐，以10-1...
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