技術(shù)編號：4869472
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及降低在由半導(dǎo)體制造工廠排出的pH4.0以下的排水中所含有的氟離子含量的方法。更詳細(xì)地說，本發(fā)明涉及將該排水中所含的有害氟離子(以下有時(shí)僅稱為“氟”)的含量降低到排水標(biāo)準(zhǔn)以下、甚至是土壤環(huán)境標(biāo)準(zhǔn)以下的方法。背景技術(shù) 在半導(dǎo)體制造工廠中使用多量的氫氟酸作為硅片的蝕刻劑。該氫氟酸由于用水等進(jìn)行洗滌，因此排水的pH低至4.0以下、且含有高濃度的氟。而且，根據(jù)環(huán)境廳發(fā)布的排水標(biāo)準(zhǔn)，規(guī)定檢液中的氟濃度為8mg/L以下，根據(jù)土壤環(huán)境標(biāo)準(zhǔn)，規(guī)定檢液中的氟濃度為0...
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