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量測目標和相關量測方法與流程技術資料下載

技術編號:40642067

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光刻裝置是將期望圖案施加到襯底上(通常施加到襯底的目標部分上)的機器。光刻裝置可以用于例如制造集成電路(ic)。在這種情況下,圖案形成裝置(或可替代地被稱為掩?;蜓谀0?可以被用來生成要在ic的個別層上形成的電路圖案。該圖案可以轉(zhuǎn)印到襯底(例如,硅晶片)上的目標部分(例如,包括管芯的一部分、一個管芯或若干個管芯)上。通常經(jīng)由成像到設置在襯底上的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上進行圖案的轉(zhuǎn)印。一般而言,單個襯底將包含依次被圖案化的相鄰目標部分的網(wǎng)絡。在光刻過程中,經(jīng)常期望對所產(chǎn)生的結構進行測量,例如,用...
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