技術(shù)編號：40504570
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本公開大體上涉及一種用于處理半導(dǎo)體裝置的具前開口的襯底容器。更明確來說，本公開涉及一種用于將清洗氣體分配到所述襯底容器內(nèi)部的清洗氣體分配系統(tǒng)及其執(zhí)行方法。背景技術(shù)、可處理呈晶片形式的襯底以形成半導(dǎo)體裝置。晶片襯底(或簡稱襯底)經(jīng)歷一系列工藝步驟。示范性工藝步驟可包含(但不限于)材料層沉積、摻雜、蝕刻或使襯底的材料發(fā)生化學(xué)或物理反應(yīng)。襯底容器用于在制造設(shè)施內(nèi)于工藝步驟之間存儲及運輸處理中晶片。在一些工藝步驟期間，在清潔環(huán)境(例如潔凈室)內(nèi)通過處理設(shè)備處理襯底。在處理期間，例如在清潔工藝期間，氣體...
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