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技術(shù)編號(hào)：3694917

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本發(fā)明涉及制造以一定間隔排列有細(xì)孔的納米多孔基板的方法，更詳 細(xì)地說，涉及利用具有以一定間隔排列的親水性圓柱體的微相分離膜來進(jìn) 行蝕刻，從而制造以一定間隔排列有細(xì)孔的納米多孔基板的方法。背景技術(shù)目前，基板表面上的細(xì)孔結(jié)構(gòu)的制作是通過光刻法或電子束光刻法等 微細(xì)加工技術(shù)來進(jìn)行的。這些干式工藝特別適用于半導(dǎo)體集成電路的微細(xì) 圖案轉(zhuǎn)印技術(shù)，實(shí)際上已制造微米區(qū)域中以高精度描繪的圖案。但是，為 此需要適于描繪尺寸的激光光源或抗蝕劑材料，以往裝置需要昂貴的設(shè)備 以保持...
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