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技術(shù)編號：3427748

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本發(fā)明屬半導(dǎo)體材料物理與化學(xué)領(lǐng)域，具體涉及一種顯示錳摻雜的銻化鎵單晶的缺陷和生長條紋的方法。本發(fā)明利用化學(xué)試劑通過一定的實驗方法，可以方便、快捷、有效 的顯示錳摻雜的銻化鎵單晶中的位錯、晶界等缺陷和生長條紋。背景技術(shù)近年來，伴隨著自旋電子學(xué)的發(fā)展，稀磁半導(dǎo)體材料的研究成為了熱點。通過摻雜 磁性過渡金屬元素或稀土金屬元素進入半導(dǎo)體中形成具有一定磁性質(zhì)的半導(dǎo)體材料，展現(xiàn) 出了獨特的物理現(xiàn)象和廣闊的應(yīng)用前景。稀磁半導(dǎo)體材料的制備方法主要是薄膜生長，例如分子束外延...
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