技術(shù)編號：3418733
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及蝕刻工藝，特別涉及一種真空鍍膜鍍層基片局部蝕刻工藝。背景技術(shù)隨著真空鍍膜技術(shù)及鍍膜之后對基材表面加工技術(shù)的發(fā)展，用戶對真空鍍膜產(chǎn)品顏色的要求越來越高，真空鍍膜是在真空中把金屬、合金或化學(xué)物進行蒸發(fā)(或濺射)，使其沉積在被涂覆的物體(稱基片)上。然而，單靠油墨本身的顏色效果是無法達到要求的，于是依靠真空鍍膜，再通過油墨遮蓋達到顏色要求，受到越來越多客戶的追捧。隨著真空鍍膜的普及，用戶的要求也越來越高，逐漸出現(xiàn)了產(chǎn)品局部區(qū)域無鍍層(如單件產(chǎn)品有兩處透...
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