技術(shù)編號(hào)：3403130
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及等離子體處理裝置，尤其涉及將微波供給平面天線部件、產(chǎn)生等離子體、處理半導(dǎo)體裝置等的等離子體處理裝置。背景技術(shù) 圖9為專(zhuān)利第3136054號(hào)公報(bào)中所述的等離子體處理裝置的截面圖，圖10為表示平面天線部件的平面圖。在圖9中，等離子體處理裝置2具有整體形成為筒狀的處理容器4。處理容器4的頂部開(kāi)放，通過(guò)密封件5機(jī)密地設(shè)置石英板8，在處理容器4內(nèi)部形成密閉的處理空間S。在處理容器4內(nèi)容納有將作為被處理體的半導(dǎo)體晶片W載置在其上面的載置臺(tái)10。載置臺(tái)10通過(guò)...
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