技術(shù)編號：3394377
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體基板的表面處理液，應(yīng)用這種處理液的表面處理方法和表面處理裝置，特別是涉及硅大片清洗所用的上述表面處理液，處理方法和處理裝置。硅大片的清洗，一般使用叫做SC-1的清洗液，其組分體積比為NH4OH∶H2O2∶H2O＝1∶1∶5，溫度約70℃。SC-1清洗液，由于含有作為堿類的氨，故具有對硅進行腐蝕的性質(zhì)。這種借助于硅腐蝕技術(shù)而得到的剝離效應(yīng)，被用作除去附于硅表面上的粒子的一種手段，但是，身為現(xiàn)有的清洗技術(shù)的SC-1液體以及應(yīng)用這種SC-1洗液的...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。