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技術(shù)編號：3392070

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本實用新型涉及一種能在金屬材料及非金屬材料制品上鍍制超硬、防腐、裝飾膜的同軸磁控濺射靶。同軸磁控濺射裝置，是把磁控濺射和離子鍍有機結(jié)合的一種裝置，它使膜層材料轉(zhuǎn)化為分子(原子)的過程和條件，處于一個連續(xù)的矩形面積的狀態(tài)下進行，所以膜層材料(靶)和基板(工件)之間膜材的分子(原子)分布，具有較好均布性?，F(xiàn)有的同軸磁控濺射裝置，應(yīng)用的是銅(仿金)和鋁，以及少數(shù)氮化鈦，可鍍膜層材料數(shù)量少，靶材利用率不高，膜層與基板的結(jié)合力差，性能不太理想。本實用新型的目的成功地...
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