技術(shù)編號(hào)：3376625
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種靶材的設(shè)計(jì)工藝，特別是涉及。 背景技術(shù)在平面磁控濺射過(guò)程中，由于正交電磁場(chǎng)對(duì)濺射離子的作用關(guān)系，濺射靶在濺射過(guò)程中將產(chǎn)生不均勻沖蝕(Erosion)現(xiàn)象，從而造成濺射靶材的利用率普遍低下，只有 30 %以下。濺射率低導(dǎo)致?lián)Q靶頻繁，使設(shè)計(jì)的效率難以提升。要使設(shè)備的效率得到提升最根本的是要提升靶材的壽命，為提高靶材的壽命已有許多設(shè)計(jì)在改變靶材表面的形態(tài)。但已有的設(shè)計(jì)都是單純的加厚靶材，或者是在濺射跑道區(qū)加厚靶材，都沒有考慮到機(jī)臺(tái)的沖蝕曲線。由此可...
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