專利名稱：一種靶材表面形態(tài)的設計方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種靶材的設計工藝，特別是涉及一種靶材表面形態(tài)的設計方法。
背景技術：
在平面磁控濺射過程中，由于正交電磁場對濺射離子的作用關系，濺射靶在濺射過程中將產生不均勻沖蝕(Erosion)現(xiàn)象，從而造成濺射靶材的利用率普遍低下，只有 30 %以下。濺射率低導致?lián)Q靶頻繁，使設計的效率難以提升。要使設備的效率得到提升最根本的是要提升靶材的壽命，為提高靶材的壽命已有許多設計在改變靶材表面的形態(tài)。但已有的設計都是單純的加厚靶材，或者是在濺射跑道區(qū)加厚靶材，都沒有考慮到機臺的沖蝕曲線。由此可見，上述現(xiàn)有的靶材設計工藝在使用上，顯然仍存在有不便與缺陷，而亟待加以進一步改進。為了解決靶材設計工藝存在的問題，相關廠商莫不費盡心思來謀求解決之道，但長久以來一直未見適用的設計被發(fā)展完成，而一般工藝又未能解決上述問題，因此顯然是相關業(yè)者急欲解決的問題。有鑒于上述現(xiàn)有的靶材設計工藝存在的缺陷，本發(fā)明人基于從事此類工藝設計制造多年豐富的實務經驗及專業(yè)知識，并配合學理的運用，積極加以研究創(chuàng)新，以期創(chuàng)設一種新型的靶材表面形態(tài)的設計方法，能夠改進一般現(xiàn)有的靶材設計工藝，使其更具有實用性。 經過不斷的研究、設計，并經反復試驗及改進后，終于創(chuàng)設出確具實用價值的本發(fā)明。

發(fā)明內容
本發(fā)明的主要目的在于，克服現(xiàn)有的靶材設計工藝存在的缺陷，而提供一種新型的靶材表面形態(tài)的設計方法，所要解決的技術問題是使其有效提高靶材的壽命，降低了靶材制造成本，從而更加適于實用，且具有產業(yè)上的利用價值。本發(fā)明的目的及解決其技術問題是采用以下技術方案來實現(xiàn)的。依據本發(fā)明提出的一種靶材表面形態(tài)的設計方法，包括如下步驟
A、首先量測在相應濺射機臺使用殘靶的沖擊曲線；
B、根據步驟A中的沖擊曲線數據模擬該沖擊曲線的函數；
C、在濺射區(qū)依照該函數設計濺射跑道區(qū)增厚的形態(tài)圖紙；
D、根據步驟C中靶材的形態(tài)圖紙對靶材進行加工。借由上述技術方案，本發(fā)明靶材表面形態(tài)的設計方法至少具有下列優(yōu)點
采用該方法設計的靶材可有效提高靶材的壽命和濺射率，在保證靶材壽命的前提下， 降低了靶材的制造成本，從而更加利用實用。綜上所述，本發(fā)明特殊的靶材表面形態(tài)的設計方法，其具有上述諸多的優(yōu)點及實用價值，并在同類工藝中未見有類似的設計公開發(fā)表或使用而確屬創(chuàng)新，其不論在操作上皆有較大的改進，在技術上有較大的進步，并產生了好用及實用的效果，且較現(xiàn)有的靶材設計工藝具有增進的多項功效，從而更加適于實用，而具有產業(yè)的廣泛利用價值，誠為一新穎、進步、實用的新設計。上述說明僅是本發(fā)明技術方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術手段， 并可依照說明書的內容予以實施，以下以本發(fā)明的較佳實施例并配合附圖詳細說明如后。本發(fā)明的具體實施方式
由以下實施例及其附圖詳細給出。


圖1為本發(fā)明中殘靶表面形態(tài)模擬示意圖； 圖2為本發(fā)明中殘靶蝕刻曲線模擬示意圖3為本發(fā)明中殘靶的截面曲線示意圖。
具體實施例方式為更進一步闡述本發(fā)明為達成預定發(fā)明目的所采取的技術手段及功效，以下結合附圖及較佳實施例，對依據本發(fā)明提出的靶材表面形態(tài)的設計方法其具體實施方式
、特征及其功效，詳細說明如后。請參閱圖1、圖2、圖3所示，本發(fā)明較佳實施例的一種靶材表面形態(tài)的設計方法， 包括如下步驟
A、首先量測在相應濺射機臺使用殘靶的沖擊曲線；
B、根據步驟A中的沖擊曲線數據模擬該沖擊曲線的函數；
C、在濺射區(qū)依照該函數設計濺射跑道區(qū)增厚的形態(tài)圖紙；
D、根據步驟C中靶材的形態(tài)圖紙對靶材進行加工。采用該方法設計的靶材可有效提高靶材的壽命和濺射率，在保證靶材壽命的前提下，降低了靶材的制造成本，從而更加利用實用。上述的本發(fā)明靶材表面形態(tài)的設計方法的技術創(chuàng)新，對于現(xiàn)今同行業(yè)的技術人員來說均具有許多可取之處，而確實具有技術進步性。以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實施例而已，并非對本發(fā)明作任何形式上的限制，雖然本發(fā)明已以較佳實施例揭露如上，然而并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉本專業(yè)的技術人員，在不脫離本發(fā)明技術方案范圍內，當可利用上述揭示的技術內容作出些許更動或修飾為等同變化的等效實施例，但凡是未脫離本發(fā)明技術方案的內容，依據本發(fā)明的技術實質對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發(fā)明技術方案的范圍內。
權利要求
1. 一種靶材表面形態(tài)的設計方法，其特征在于，包括如下步驟A、首先量測在相應濺射機臺使用殘靶的沖擊曲線；B、根據步驟A中的沖擊曲線數據模擬該沖擊曲線的函數；C、在濺射區(qū)依照該函數設計濺射跑道區(qū)增厚的形態(tài)圖紙；D、根據步驟C中靶材的形態(tài)圖紙對靶材進行加工。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種靶材表面形態(tài)的設計方法，包括如下步驟A、首先量測在相應濺射機臺使用殘靶的沖擊曲線；B、根據步驟A中的沖擊曲線數據模擬該沖擊曲線的函數；C、在濺射區(qū)依照該函數設計濺射跑道區(qū)增厚的形態(tài)圖紙；D、根據步驟C中靶材的形態(tài)圖紙對靶材進行加工。采用該方法設計的靶材可有效提高靶材的壽命和濺射率，在保證靶材壽命的前提下，降低了靶材的制造成本，從而更加利用實用。
文檔編號C23C14/34GK102443771SQ20111044178
公開日2012年5月9日 申請日期2011年12月26日 優(yōu)先權日2011年12月26日
發(fā)明者莊世雄, 朱振華 申請人:昆山全亞冠環(huán)?？萍加邢薰?br>