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技術(shù)編號(hào)：3369284

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本發(fā)明涉及一種在基板上、尤其是在玻璃或塑料基板上敷設(shè)導(dǎo)電透明涂層或TCO涂層(TCO＝透明導(dǎo)電氧化物)的等離子脈沖CVD方法。本發(fā)明還涉及一種實(shí)現(xiàn)上述方法的反應(yīng)器設(shè)備。在等離子脈沖CVD方法(或簡(jiǎn)稱為PICVD方法，其中PICVD是等離子脈沖化學(xué)氣相淀積(Plasma Impulse Chemical VaporDeposition)的縮寫)中，所期望的涂層從等離子相(plasma phase)中淀積出來(lái)，所述等離子相是通過(guò)使用指定的微波注入設(shè)備在反應(yīng)器設(shè)...
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